JP5610432B2 - フィルムの露光装置 - Google Patents
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Description
前記ステージは、多孔質材料からなる板状の基板と、この基板の多孔質部から空気を上方に吹き上げて前記フィルムを前記基板に非接触で支持する噴気部材と、前記基板に設けられた吸気孔を介して前記基板の表面から空気を吸引する吸気部材と、を有し、
前記ステージは、前記フィルムの下面が前記基板の上方で前記搬送ローラの上方共通接線より下方に位置するように配置されており、
前記ステージの上方にマスクが配置されていて、前記光源からの露光光がマスクを透過して前記フィルムに照射されることを特徴とする。
Claims (2)
- 上面に感光性材料が塗布されたフィルムにおける前記感光性材料が塗布されていない下面に接して、前記フィルムをその長手方向に搬送する1対の搬送ローラと、
この搬送ローラ間の前記フィルムの下方に配置され前記フィルムを支持するステージと、
このステージ上の前記フィルムに対して露光光を照射して露光する光源と、を有し、
前記ステージは、多孔質材料からなる板状の基板と、この基板の多孔質部から空気を上方に吹き上げて前記フィルムを前記基板に非接触で支持する噴気部材と、前記基板に設けられた吸気孔を介して前記基板の表面から空気を吸引する吸気部材と、を有し、
前記ステージは、前記フィルムの下面が前記基板の上方で前記搬送ローラの上方共通接線より下方に位置するように配置されており、
前記ステージの上方にマスクが配置されていて、前記光源からの露光光がマスクを透過して前記フィルムに照射されることを特徴とするフィルムの露光装置。 - 前記ステージは、前記フィルムを前記基板の表面から30乃至40μm浮かび上がった位置で支持することを特徴とする請求項1に記載のフィルムの露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010160169A JP5610432B2 (ja) | 2010-07-15 | 2010-07-15 | フィルムの露光装置 |
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JP2010160169A JP5610432B2 (ja) | 2010-07-15 | 2010-07-15 | フィルムの露光装置 |
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JP (1) | JP5610432B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013213885A (ja) * | 2012-03-31 | 2013-10-17 | Fujifilm Corp | 露光装置及び露光方法及びパターンフィルムの製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3376961B2 (ja) * | 1999-06-08 | 2003-02-17 | ウシオ電機株式会社 | マスクを移動させて位置合わせを行う露光装置 |
JP2004131215A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Ushio Inc | 帯状ワークの搬送装置 |
JP2005321505A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd | 露光装置 |
JP4917780B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2012-04-18 | 住友化学株式会社 | 露光装置 |
JP2009073646A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Myotoku Ltd | 浮上方法及び浮上ユニット |
JP5145524B2 (ja) * | 2007-10-25 | 2013-02-20 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
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