JP6601541B2 - パターン露光方法、及びパターン形成方法 - Google Patents
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Description
本願は、2012年5月1日に出願された日本国特願2012−104538号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
以下、本発明のパターン露光方法、及びパターン形成方法の第1実施形態を、図1ないし図4を参照して説明する。
図1は、基板処理装置100の要部の正面断面図、図2はマスクと基板とが近接する箇所の部分拡大図である。
なお、本実施形態では、鉛直方向をZ方向とし、マスクユニットMU及び基板保持ユニットSUの回転軸線と平行な方向をY方向とし、Z方向及びY方向と直交する方向をX方向として説明する。
フレキシブルな有機ELディスプレイパネル、タッチパネル、カラーフィルター、電磁波防止フィルタ等を作る場合、基板Pとしては、厚みが200μm〜25μm程度のポリエチレン・テレフタレート(PET)やポリエチレン・ナフタレート(PEN)等の樹脂シートが使われる。
回転ドラム30は、Y軸と平行で、回転軸線AX1の−Z側に設定された回転軸線(第2の軸線)AX2回りに回転する円柱状に形成されており、内部には中空部が設けられ慣性モーメントが小さくなるように設定されている。回転ドラム30の外周面は、基板Sを接触保持する基板保持面31とされており、マスク保持部20のマスク保持面22aとは最も近接した位置において、Z方向に、例えば50〜100μm程度の空間Kを隔てて配置されている。
図4に示すように、カバーCは、ベースフィルムBFがY方向に延びたスリット状に露出して光Lが透過する透過領域(透過性膜部)TAと、遮光膜SFにより透過領域を囲む領域に形成され光Lを遮光する遮光領域(遮光性膜部)SAとを有している。透過領域TAは、基板Sに対する露光幅dを有し、露光領域を設定するものであり、透過領域TA及び遮光領域SAは、カバーCの長さ方向に所定間隔をあけて複数配列されている。
尚、カバーCは、例えば厚さ20〜50μmの箔状に圧延されたステンレス、チタン等の金属薄板(遮光性)の表面に反射防止膜や反射低減用の塗料膜(無光沢塗装)を形成したものに、図4のような透過領域TAとして機能するスリット状の開口部を設けた構成であっても良い。
まず、送り制御部TCが、位置検出装置54により検出されたカバーCにおける透過領域TAの位置に基づいてカバーCを送らせ、図2に示すように、透過領域TAを空間Kにおいてマスク保持部20と回転ドラム30とが最も近接する位置に位置決めする。
このとき、カバーCは、支持機構53によって厚さ方向で支持されているため、XY平面と平行に安定して送られる。
次に、基板処理装置100の第2実施形態について、図5及び図6を参照して説明する。この図において、図1乃至図4に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第1実施形態では、シート状のカバーCを設ける構成について説明したが、第2実施形態では、カバーCを剛性の大きな支持部で支持する構成について説明する。
図5及び図6に示すように、カバーユニットCUは、カバーCと、剛性板部41A、41B、フレーム42A、42Bとから構成されている。剛性板部41A、41B及びフレーム42A、42Bは、金属、セラミックス、プラスチック等、カバーCよりも剛性の大きな材料で形成されており、剛性支持部を構成している。
基板Sの送り方向の下流側に配置されるフレーム42Bには、吸気孔47を介してカバーCとマスク保持部20との間の領域を負圧吸引する吸引部48が設けられている。
一方、基板Sの送り方向の上流側に配置されるフレーム42Aには、給気孔49を介してカバーCとマスク保持部20との間の領域に異物除去用の清浄な気体を供給する給気部50が設けられている。給気部50と給気孔49との間には、異物除去用の気体を温度調整する温度調整部51が介装されている。
次に、上記の基板処理装置100を備えたデバイス製造システムについて、図7を参照して説明する。
図7は、デバイス製造システム(フレキシブル・ディスプレー製造ライン)SYSの一部の構成を示す図である。ここでは、供給ロールFR1から引き出された可撓性の基板P(シート、フィルム等)が、順次、n台の処理装置U1,U2,U3,U4,U5,…Unを経て、回収ロールFR2に巻き上げられるまでの例を示している。上位制御装置CONTは、製造ラインを構成する各処理装置U1〜Unを統括制御する。
Claims (11)
- 第1軸線から一定半径の円筒状の外周面に沿ってマスクパターンを保持する透過型の円筒マスクを前記第1軸線の回りに回転させつつ、第2軸線から一定半径の円筒状の外周面に沿って可撓性の基板を保持する回転ドラムを前記第2軸線の回りに回転させて、前記マスクパターンからの光を前記基板の表面にプロキシミティ方式で露光するパターン露光方法であって、
前記第1軸線と前記第2軸線とを略平行な状態にして、前記回転ドラムの外周面で支持される前記基板の表面と前記円筒マスクの外周面とを最も近接させた位置で所定間隙となるように配置することと、
前記所定間隙の間で前記円筒マスク及び前記回転ドラムの回転方向に沿って直線移動可能に配置され、
前記第1軸線又は前記第2軸線と平行な方向に延びたスリット状の光透過部の複数を前記直線移動の方向に所定の間隔で有すると共に、前記光透過部の各々の周囲に達する光を遮蔽する遮光性膜部を有する可撓性薄板材を前記所定間隙の間に配置することと、
前記複数の光透過部の1つが前記最も近接させた位置に合わされるように前記可撓性薄板材を前記直線移動の方向に位置付けた状態で、前記円筒マスクの前記マスクパターンからの光を、前記光透過部を介して前記基板の表面に露光することと、
を含むパターン露光方法。 - 請求項1に記載のパターン露光方法であって、
前記可撓性薄板材は、前記所定間隙の寸法よりも小さい厚みを有し、前記最も近接させた位置における前記直線移動の方向に沿って長い帯状に形成される、
パターン露光方法。 - 請求項2に記載のパターン露光方法であって、
前記可撓性薄板材は、複数の前記光透過部のいずれか1つが前記最も近接させた位置に配置されるように、前記帯状の長さ方向に移送する支持機構に支持される、
パターン露光方法。 - 請求項3に記載のパターン露光方法であって、
前記可撓性薄板材は、前記支持機構によって前記基板に向かう前記マスクパターンからの光の光路を横切る方向に所定の張力が付与される、
パターン露光方法。 - 請求項3に記載のパターン露光方法であって、
前記支持機構は、前記可撓性薄板材よりも大きい剛性を有し、前記可撓性薄板材を挟んだ両側で前記可撓性薄板材を支持する剛性支持部を備える、
パターン露光方法。 - 請求項5に記載のパターン露光方法であって、
前記剛性支持部に設けられる吸引部によって、前記円筒マスクの外周面と前記可撓性薄板材との間の領域を負圧にする、
パターン露光方法。 - 請求項6に記載のパターン露光方法であって、
前記剛性支持部に設けられる給気部によって、異物除去用の気体を前記吸引部に向けて給気する、
パターン露光方法。 - 請求項7に記載のパターン露光方法であって、
前記給気部から給気される前記気体の温度を調整することを含む、
パターン露光方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のパターン露光方法であって、
前記所定間隙の方向をZ方向としたとき、計測装置によって計測される前記可撓性薄板材の前記Z方向の位置の計測結果に応じて、駆動機構により前記可撓性薄板材の前記Z方向の対向の位置を調整することを含む、
パターン露光方法。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載のパターン露光方法であって、
前記円筒マスクの外周面と前記基板との間の空間に浮遊する異物を捕集する為に、帯電部によって前記可撓性薄板材を帯電させることを含む、
パターン露光方法。 - 可撓性の長尺のシート状の基板上にデバイス用のパターンを形成するパターン形成方法であって、
感光性機能液を前記基板の表面に塗布して感光性機能層を形成する工程と、
前記基板の前記感光性機能層に対して、請求項1〜10のいずれか一項に記載のパターン露光方法を用いて、前記デバイスに対応したパターンを露光する工程と、
露光された前記基板に対してウェット処理を行って前記パターンを形成する工程と、
を含むパターン形成方法。
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