JP2010267866A - 固体電解コンデンサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微細孔を有する弁作用金属表面に形成された誘電体酸化皮膜上に導電性重合体を含む固体電解質層を設けた固体電解コンデンサ素子であって、固体電解質層の表面にカーボンペースト層及び高導電性ペースト層が重ねて形成されたコンデンサ素子の断面において、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面を高導電性ペースト層が当該絶縁物層の陰極部の境界を水平方向に空間的に越えた位置まで形成されている構造を含むことを特徴とする固体電解コンデンサ素子、及び前記コンデンサ素子を使用した固体電解コンデンサ。
【選択図】図1
Description
一方、アルミニウムのエッチング箔を弁作用金属に用いる固体電解コンデンサ素子においては、陽極リードピンとは異なり、複雑な多孔質構造を有するため銀ペースト層を陽極と陰極を分離する絶縁体層と固体電解質層の境界を越えて形成させることは好ましくないことがに開示されている(特許文献4:特許第3314480号公報)。すなわち、固体電解質層と絶縁物層との境界面の不連続部分に銀ペースト層を構成する材料が浸み込んで誘電体となる陽極酸化膜と直接接触するために固体電解コンデンサの耐圧特性や漏れ電流特性に大きな影響を与え、これが不良率および故障率を増大させる大きな原因の一つとなっていることが開示されている。
従って、本発明は、これらの問題を解決し、また高価な金属含有ペーストの使用量を大きく増やすことなく経済的な方法で漏れ電流不良の少ない低ESRの固体電解コンデンサを提供することを目的とする。
[2]固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面を高導電性ペースト層が当該絶縁物層の陰極部の境界をカーボンペースト層を介して水平方向に空間的に越えた位置まで形成されている構造を含む前記1に記載の固体電解コンデンサ素子。
[3]微細孔を有する弁作用金属がエッチングにより多孔質化されたアルミニウム箔である前記1または2に記載の固体電解コンデンサ素子。
[4]微細孔を有する弁作用金属が10〜300μmの厚みを有するアルミニウム箔である前記3に記載の固体電解コンデンサ素子。
[5]陽極が多孔質層と未エッチング層の多層構造を有する弁作用金属より構成されることを特徴とする前記1または2に記載の固体電解コンデンサ素子。
[6]陽極と陰極を分離する絶縁物層が多孔質層に絶縁性樹脂を含浸させた後、加熱硬化することによって形成されたものである前記1または2に記載の固体電解コンデンサ素子。
[7]固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の外表面に10〜500μm重ねて形成されている前記1〜6のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[8]高導電性ペースト層が絶縁物層の陰極側の外表面の端から水平方向に10〜1000μm空間的に重ねて形成されている前記1〜7のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[9]微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の一部をカーボンペースト層が覆い、その表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d1が10〜1000μmの範囲である前記1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[10]微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の一部をカーボンペースト層が覆い、カーボンペースト層の外表面の全てと前記固体電解質層の外表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d2が10〜1000μmの範囲である前記1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[11]微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の一部をカーボンペースト層が覆い、カーボンペースト層の全てと前記固体電解質層のカーボンペースト層が被覆されていない表面の全てと誘電体層の外表面の一部とを高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d3が10〜1000μmの範囲である前記1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[12]微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の全てと絶縁物層の外表面の一部をカーボンペースト層が覆い、その表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d4が10〜1000μmの範囲である前記1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[13]微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の全てと絶縁物層の外表面の一部をカーボンペースト層が覆い、その表面の全てと絶縁物層の外表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d5が10〜1000μmの範囲である前記1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[14]微細孔を有する弁作用金属が箔であり、微細孔を有する箔に含浸させた陽極と陰極を分離する絶縁物層が、箔表面において円弧形状を有する前記1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[15]前記円弧形状を有する絶縁物層の陰極側の端面まで、固体電解質層の全表面をカーボンペースト層が覆い、その全表面を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d6が10〜1000μmの範囲である前記10に記載の固体電解コンデンサ素子。
[16]高導電性ペースト層の導電率が100〜100000S/cmである前記1〜15のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
[17]高導電性ペーストが銀を含むペーストである前記16に記載の固体電解コンデンサ素子。
[18]前記1〜17のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子の陽極部及び陰極部が、それぞれリードフレームに接合され、全体が絶縁性樹脂で封止されている固体電解コンデンサ。
本発明に使用する基板(1)表面の誘電体酸化被膜(2)は、通常、微細孔を有する弁作用金属の多孔質成形体を化成処理すること等により形成される。
本発明において、固体電解質としてはチオフェン骨格を有する化合物、多環状スルフィド骨格を有する化合物、ピロール骨格を有する化合物、フラン骨格を有する化合物、アニリン骨格を有する化合物等で示される構造を繰り返し単位として含む導電性重合体が挙げられるが、固体電解質を形成する導電性重合体はこれに限られるものではない。
すなわち、図1のコンデンサ素子は、固体電解質層(5)が陰極と陽極を分離する絶縁物層(マスキング)(4)の陰極側の外表面の一部を覆い、カーボンペースト層(6)がマスキングを覆う固体電解質の一部を覆い、高導電性ペースト層がマスキングを覆う固体電解質及びカーボンペーストの一部を覆う構造からなる。
本例のコンデンサ素子では円弧形状を有する絶縁物層(4)の陰極側の端面まで、固体電解質層(5)の全表面をカーボンペースト層(6)が覆い、その全表面を高導電性ペースト層(7)が覆う構造からなり、図5の例と同じ構造を容易に形成することが可能である。すなわち、マスキングが円弧形状を有するため固体電解質層(5)をアルミニウム箔の多孔質層内及び表面に順次重ねて形成し、カーボンペースト層(6)、高導電性ぺースト層(7)を順次重ねて形成する場合において、各層が下層より僅かに広く覆った図5の構造では高導電性ペーストの使用量を最小限にして形成することができるので、特に好ましい。本例においても、絶縁物層(マスキング)(4)の陰極側右端から高導電性ペーストの陽極側左端の間の水平距離d6は10〜1000μmの範囲が好ましく、10〜500μmが特に好ましい。
厚み110μmの化成アルミ箔(63V化成品)を3.5mm幅に切断したものを13mmずつの長さに切り取り、この箔片の一方の短辺部を金属製ガイドに溶接により固定した。化成処理をするために、固定していない端から7mmの箇所にポリイミド樹脂溶液を0.8mm幅に線状に描き、180℃で30分乾燥させた。固定していないアルミ箔の先端から塗布されたポリイミド樹脂までの部分の化成処理を行い、水洗、乾燥を行った。
カーボンペースト層は、カーボンペーストを張り込んだ浸漬槽に陰極部を浸漬することにより固体電解質表面に塗布して形成した。カーボンペースト層は、マスキングの陰極側の下端に対し300μmの幅で重なる深さまで浸漬してから引き上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成した。引き続き、高導電性ペーストとして銀ペーストを選択しカーボンペースト層の表面を被覆した。銀ペースト層は、銀ペーストを張り込んだ浸漬槽に陰極部を浸漬することにより塗布して形成した。銀ペースト層は、マスキングの陰極側の下端に対し200μmの幅で空間的に重なる深さまで浸漬してから引き上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成した。素子1枚当たりに塗布した銀ペースト量は、1.5mgであった。
別途、上記操作を繰り返して製造した不良品を除く500個のコンデンサについて、リフロー加熱(ピーク温度260℃,5秒)により実装基板への半田付けを行い、漏れ電流を測定した。なお、定格電圧を印加して1分後に漏れ電流を測定し、0.04CV以上の漏れ電流を示したコンデンサを不良品とした。リフロー加熱による漏れ電流の不良率は0/500であった。
厚み110μmの化成アルミ箔(3V化成品)を使用したこと以外は実施例1と同様に処理して定格2Vのチップ型固体電解コンデンサを作製した。なお、素子1枚当たりに塗布した銀ペースト量は、1.5mgであった。
厚み110μmの化成アルミ箔(33V化成品)を使用したこと以外は実施例1と同様に処理して定格12.5Vのチップ型固体電解コンデンサを作製した。素子あたりに塗布した銀ペースト量は、1.5mgであった
また、実施例1と同様にして測定したリフロー加熱による漏れ電流の不良率は、0/500であった。
銀ペースト層をマスキングの陰極側の下端から200μm浅い深さまで浸漬してから引き上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成したこと以外は、実施例1と同様に処理して定格16Vのチップ型固体電解コンデンサを作製した。素子あたりに塗布した銀ペースト量は、1.4mgであった。
また、実施例1と同様にして測定したリフロー加熱による漏れ電流の不良率は、3/500であった。
銀ペースト層をマスキングの陰極側の下端と同じ深さまで浸漬してから引き上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成したこと以外は、実施例1と同様に処理して定格16Vのチップ型固体電解コンデンサを作製した。素子あたりに塗布した銀ペースト量は、1.5mgであった。なお、銀ペーストがマスキングに重なって塗布されている素子は存在しなかった。
銀ペースト層をマスキングの陰極側の下端から200μm浅い深さまで浸漬してから引き上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成したこと以外は、実施例2と同様に処理して定格2Vのチップ型固体電解コンデンサを作製した。素子あたりに塗布した銀ペースト量は、1.4mgであった。
銀ペースト層をマスキングの陰極側の下端から200μm浅い深さまで浸漬してから引き上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成したこと以外は、実施例3と同様に処理して定格12.5Vのチップ型固体電解コンデンサを作製した。素子あたりに塗布した銀ペースト量は、1.4mgであった。
また、実施例1と同様にして測定したリフロー加熱による漏れ電流の不良率は、2/500であった。
厚み110μmの化成アルミ箔(63V化成品)を3.5mm幅に切断したものを13mmずつの長さに切り取り、この箔片の一方の短辺部を金属製ガイドに溶接により固定した。化成処理をするために、固定していない端から7mmの箇所にポリイミド樹脂溶液を0.8mm幅に線状に描き、約180℃で30分乾燥させた。固定していないアルミ箔の先端から塗布されたポリイミド樹脂までの部分を、化成処理を行い、水洗、乾燥を行った。
次に、マスキング層と固体電解質層の境界部分をバイトン樹脂で400μmの幅で被覆した。カーボンペースト層は、バイトン樹脂層を完全に覆う高さまで浸漬してから引上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成した。引き続き、銀ペースト層は、カーボンペースト層を完全に覆う高さまで浸漬してから引上げ、風乾後に150℃で30分加熱乾燥して形成した。素子あたりに塗布した銀ペースト量は、1.5mgであった。以下、実施例1と同様に処理して定格16Vのチップ型固体電解コンデンサを作製した。
2 誘電体酸化被膜
3 アルミニウム箔のエッチング層
4a エッチング層内の絶縁物層
4b アルニウム箔の表面に形成された絶縁物層
5a エッチング層内の固体電解質層
5b アルニウム箔の表面に形成された固体電解質層
6 カーボンペースト層
7 高導電性ペースト層
Claims (18)
- 微細孔を有する弁作用金属表面に形成された誘電体酸化皮膜上に導電性重合体を含む固体電解質層を設けた固体電解コンデンサ素子であって、固体電解質層の表面にカーボンペースト層及び高導電性ペースト層が重ねて形成されたコンデンサ素子の断面において、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面を高導電性ペースト層が当該絶縁物層の陰極部の境界を水平方向に空間的に越えた位置まで形成されている構造を含むことを特徴とする固体電解コンデンサ素子。
- 固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面を高導電性ペースト層が当該絶縁物層の陰極部の境界をカーボンペースト層を介して水平方向に空間的に越えた位置まで形成されている構造を含む請求項1に記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属がエッチングにより多孔質化されたアルミニウム箔である請求項1または2に記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属が10〜300μmの厚みを有するアルミニウム箔である請求項3に記載の固体電解コンデンサ素子。
- 陽極が多孔質層と未エッチング層の多層構造を有する弁作用金属より構成されることを特徴とする請求項1または2に記載の固体電解コンデンサ素子。
- 陽極と陰極を分離する絶縁物層が多孔質層に絶縁性樹脂を含浸させた後、加熱硬化することによって形成されたものである請求項1または2に記載の固体電解コンデンサ素子。
- 固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の外表面に10〜500μm重ねて形成されている請求項1〜6のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 高導電性ペースト層が絶縁物層の陰極側の外表面の端から水平方向に10〜1000μm空間的に重ねて形成されている請求項1〜7のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の一部をカーボンペースト層が覆い、その表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d1が10〜1000μmの範囲である請求項1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の一部をカーボンペースト層が覆い、カーボンペースト層の外表面の全てと前記固体電解質層の外表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d2が10〜1000μmの範囲である請求項1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の一部をカーボンペースト層が覆い、カーボンペースト層の全てと前記固体電解質層のカーボンペースト層が被覆されていない表面の全てと誘電体層の外表面の一部とを高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d3が10〜1000μmの範囲である請求項1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の全てと絶縁物層の外表面の一部をカーボンペースト層が覆い、その表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d4が10〜1000μmの範囲である請求項1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属が箔であり、固体電解質層が陰極と陽極を分離する絶縁物層の陰極側の外表面の一部を覆い、その表面の全てと絶縁物層の外表面の一部をカーボンペースト層が覆い、その表面の全てと絶縁物層の外表面の一部を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d5が10〜1000μmの範囲である請求項1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 微細孔を有する弁作用金属が箔であり、微細孔を有する箔に含浸させた陽極と陰極を分離する絶縁物層が、箔表面において円弧形状を有する請求項1〜8のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 前記円弧形状を有する絶縁物層の陰極側の端面まで、固体電解質層の全表面をカーボンペースト層が覆い、その全表面を高導電性ペースト層が覆う構造からなり、箔表面に存在する絶縁物層の陰極側の端と高導電性ペーストの陽極側の端との距離d6が10〜1000μmの範囲である請求項10に記載の固体電解コンデンサ素子。
- 高導電性ペースト層の導電率が100〜100000S/cmである請求項1〜15のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子。
- 高導電性ペーストが銀を含むペーストである請求項16に記載の固体電解コンデンサ素子。
- 請求項1〜17のいずれかに記載の固体電解コンデンサ素子の陽極部及び陰極部が、それぞれリードフレームに接合され、全体が絶縁性樹脂で封止されている固体電解コンデンサ。
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