JP2010251690A - 基板製造用キャリア部材及びこれを用いた基板製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】安価の素材で製造することができ、リサイクル可能な基板製造用キャリア部材及びこれを用いた基板製造方法を提供する。
【解決手段】リジッド基板110を含むベース基板100、及びベース基板100と接する第1面とベース基板100の外側に向かう第2面を持つようにベース基板100の最外層に積層された離型層300を含む。
【選択図】図4

Description

本発明は、基板製造用キャリア部材及びこれを用いた基板製造方法に係り、より詳しくは基板のビルドアップ工程を支持する基板製造用キャリア部材及びこれを用いた基板製造方法に関するものである。
一般に、プリント基板は、各種の熱硬化性合成樹脂からなったボードの片面または両面に銅箔で配線した後、ボード上にICまたは電子部品を配置固定し、これらの間の電気的配線を具現し、絶縁体でコートしたものである。
近年、電子産業の発達につれて、電子部品の高機能化、軽薄短小化に対する要求が急増しており、これに応じて、このような電子部品を搭載するプリント基板も高密度配線化及び薄型化が要求されている。
特に、プリント基板の薄型化に対応するために、コア基板が使用されなくてプリント基板の全厚さを減少させることができ、これにより信号処理時間を短縮させることができるコアレス基板が注目を浴びている。
コアレス基板の場合、コア基板が使用されないため、製造工程中に支持体の機能をするキャリア部材の使用が要求される。
図1は、従来のキャリア部材を利用してコアレス基板を製造する方式を工程順に示す断面図である。
まず、図1Aに示すように、一面にニッケルバリアー層13を持つ銅板11が提供され、図1Bに示すように、これら銅板の一対11、31を接合材料20で付着したキャリアが提供される。
その後、図1Cに示すように、銅板11、31にバンプ形成凹部15をエッチング加工し、図1Dに示すように、バンプ形成凹部15にソルダ材17などでなったバンプを充電したソルダレジスト層18及び回路層19を形成する。
その後、図1Eに示すように、追加のビルドアップ層40を積層し、接合材料20の接着部をルーティングで除去して一対のプリント基板を分離する。
その後、図1Fに示すように、キャリアとして使用された銅板11、31及びニッケルバリアー層13、33を選択的に除去することで、コアレスプリント基板を製造することができる。
しかしながら、従来技術によれば、基板製造の後に除去される副資材として使用されるキャリア部材が銅板11、31のメタルベース部材に異種のメタルバリアー層13、33が形成された構造を持つので、銅板11、31及びバリアー層13、33の除去に使用されるエッチング液が互いに異なっており、2種以上のエッチング液を使わなければならないため、2回のエッチング工程を行わなければならない問題点があった。
また、従来技術によれば、基板製造の後に除去される副資材であるキャリア部材として再使用不可の銅板11、31を使用するため、製造費用が上昇する問題点があった。
したがって、本発明は前述したような従来技術の問題点を解決するためになされたもので、安価の素材で製造することができ、リサイクル可能な基板製造用キャリア部材及びこれを用いた基板製造方法を提供することにその目的がある。
前記課題を解決するために、本発明によれば、リジッド基板を含むベース基板;及び前記ベース基板と接する第1面と前記ベース基板の外側に向かう第2面を持つように前記ベース基板の最外層に積層された離型層;を含む、基板製造用キャリア部材が提供される。
このとき、ベース基板は、リジッド基板上に積層された接着層を含むことが好ましい。
また、ベース基板は、リジッド基板上に積層された接着層及び前記接着層の上部に埋め込まれた離型フィルムを含むことが好ましい。
更に、ベース基板は、リジッド基板上に積層された接着層及び前記接着層の上部に埋め込まれた金属層を含むことが好ましい。
次に、離型層の第1面は、親水性を有するように表面処理されることが好ましく、離型層は、発泡テープであることが好ましい。
また、離型フィルムは、前記接着層の縁部が露出するように、前記接着層より小さな面積を持つことが好ましい。
更に、金属層は、前記接着層の縁部が露出するように、前記接着層より小さな面積を持つことが好ましい。
また、前記課題を達成するために、本発明によれば、(A)ベース基板及び前記ベース基板の最外層に積層された離型層を持つキャリア部材を提供する段階;(B)前記キャリア上にプリント基板をビルドアップする段階;及び(C)前記プリント基板と前記キャリア部材を分離する段階;を含む、プリント基板の製造方法が提供される。
ここで、離型層の第1面は、親水性を有するように表面処理されることが好ましく、離型層は、発泡テープであることが好ましい。
また、(B)段階は、(I)前記キャリア部材上にフィルムタイプ保護層を形成する段階;及び(II)前記保護層上に回路層及び絶縁層を形成してプリント基板をビルドアップする段階;を含むことが好ましい。
更に、(C)段階は、ルーティング工程または加熱工程によって行われることが好ましく、(C)段階の後に、前記プリント基板の保護層にレーザー加工して接続端子を露出する開口を形成する段階をさらに含むことが好ましい。
本発明による基板製造用キャリア部材は、ビルドアップされるプリント基板を堅く支持することができるリジッド基板と、プリント基板とキャリア部材の間に介在してこれらの分離を容易にする離型層とを持つので、プリント基板製造の工程安全性を高め、薄板プリント基板の製造を可能にする利点を持つ。
本発明の特徴及び利点は添付図面に基づいた以降の詳細な説明からより明らかになるであろう。本発明の詳細な説明に先立ち、本明細書及び請求範囲に使用された用語や単語は通常的で辞書的な意味に解釈されてはいけなく、発明者がその自分の発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義することができるという原則にしたがって本発明の技術的思想にかなう意味と概念に解釈されなければならない。
従来のキャリア部材を利用してコアレス基板を製造する方式を順に示す工程断面図(1)である。 従来のキャリア部材を利用してコアレス基板を製造する方式を順に示す工程断面図(2)である。 従来のキャリア部材を利用してコアレス基板を製造する方式を順に示す工程断面図(3)である。 従来のキャリア部材を利用してコアレス基板を製造する方式を順に示す工程断面図(4)である。 従来のキャリア部材を利用してコアレス基板を製造する方式を順に示す工程断面図(5)である。 従来のキャリア部材を利用してコアレス基板を製造する方式を順に示す工程断面図(6)である。 本発明の第1実施例によるキャリア部材の断面図である。 本発明の第2実施例によるキャリア部材の断面図である。 本発明の第3実施例によるキャリア部材の断面図である。 本発明の第4実施例によるキャリア部材の断面図である。 本発明の好適な第3実施例による基板製造用キャリア部材を利用して基板を製造する方法を順に示す工程断面図(1)である。 本発明の好適な第3実施例による基板製造用キャリア部材を利用して基板を製造する方法を順に示す工程断面図(2)である。 本発明の好適な第3実施例による基板製造用キャリア部材を利用して基板を製造する方法を順に示す工程断面図(3)である。
以下、本発明による基板製造用キャリア部材及びこれを用いた基板製造方法の好適な実施例を添付図面に基づいて詳細に説明する。全ての添付図面にわたって、同等または対応の構成要素は同一符号で指示し、重複の説明は省略する。本明細書において、上部、下部などの用語は一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるもので、この構成要素が前記用語によって制限されるものではない。
図2は、本発明の第1実施例によるキャリア部材の断面図である。
図2に示すように、本実施例によるキャリア部材は、リジッド基板110を含むベース基板100、及びベース基板100と接する第1面とベース基板100の外側に向かう第2面を持つようにベース基板100の最外層に積層された離型層300を含む構成である。
リジッド基板110は、基板のビルドアップ工程でビルドアップされるプリント基板を支持することができる硬質の素材で形成され、例えば、金属板またはプリプレグから形成することができる。例えば、金属板は、銅板、アルミニウム板などから形成することができ、プリプレグは、エポキシ系プリプレグから形成することができる。ただ、これらに限定されるものではなく、エポキシ樹脂または改質エポキシ樹脂、ビスフェノールA樹脂、エポキシ−ノボラック、アラミド強化またはガラス纎維強化または紙強化のエポキシ樹脂を含む硬質の絶縁材をリジッド基板110として使用することが可能である。
離型層300は、一般的に使用されるフィルムタイプの離型材、または発泡テープから形成することができる。フィルムタイプの離型材は、エポキシ系離型材またはフッ素樹脂から形成された離型材であることが好ましい。この際、離型層300は、シリコンコーティング層(図示せず)を持つものであることが好ましい。
ここで、離型層300がフィルムタイプの離型材である場合は、離型層300の第1面とベース基板100との接着力を向上させるために、離型層300の第1面に表面処理を行うことが好ましい。この際、表面処理はSiコーティングまたはプラズマ処理で行うことができ、離型層300の第1面が親水性を有するように表面処理を行うことが好ましい。例えば、離型層300は、Si系の離型剤を塗布したポリエチレンテレフタレートプラスチックシートから形成されることが好ましい。
発泡テープは、発泡フィラーを含み、特定温度で脹れ上がってベース基板100から分離されるものであり、例えば、発泡フィラーを多量含むPET(Polythylene terephthalate)テープであることが好ましい。
図3は、本発明の第2実施例によるキャリア部材の断面図である。
図3に示すように、本実施例によるキャリア部材は、リジッド基板110及びリジッド基板110上に積層された接着層130を含むベース基板100、及びベース基板100と接する第1面とベース基板100の外側に向かう第2面を持つようにベース基板100の最外層に積層された離型層300を含む構成である。ここでは前述した実施例と重複する説明は省略する。
本実施例に使用されるリジッド基板110及び離型層300に対する説明は前述した実施例と重複するので、ここではその説明を省略する。
本実施例のベース基板100は、リジッド基板110上に積層された接着層130を含むものである。接着層130は、離型層300とリジッド基板110との間に介在して離型層300とリジッド基板110を付着する。接着層130は、例えば、エポキシ樹脂を含む接着材から形成されていることが好ましい。
図4は、本発明の第3実施例によるキャリア部材の断面図である。
図4に示すように、本実施例によるキャリア部材は、リジッド基板110、リジッド基板110上に積層された接着層130及び接着層130の上部に埋め込まれた離型フィルム150を含むベース基板100、及びベース基板100と接する第1面とベース基板100の外側に向かう第2面を持つようにベース基板100の最外層に積層された離型層300を含む構成である。ここでは、前述した実施例と重複する説明は省略する。
本実施例に使用されるリジッド基板110、接着層130及び離型層300についての説明は前述した実施例と同じであるので、ここではその説明を省略する。
本実施例のベース基板100は、接着層130の上部に底面及び側面が埋め込まれた形態の離型フィルム150をさらに含むものである。離型層300は、一般的に使用されるフィルムタイプの離型材から形成されていることが好ましい。この際、離型フィルム150は、接着層130の縁部が露出するように、接着層130より小さな面積を持つ。よって、離型層300は、離型フィルム150と真空で圧着して縁部が接着層130と接着して拘束される。
図5は、本発明の第4実施例によるキャリア部材の断面図である。
図5に示すように、本実施例によるキャリア部材は、リジッド基板110、リジッド基板110上に積層された接着層130及び接着層130の上部に埋め込まれた金属層170を含むベース基板100、及びベース基板100と接する第1面とベース基板100の外側に向かう第2面を持つようにベース基板100の最外層に積層された離型層300を含む構成である。
本実施例に使用されるリジッド基板110、接着層130及び離型層300についての説明は、前述した実施例と同じであるので、ここではその説明を省略する。
本実施例のベース基板100は、接着層130の上部に底面及び側面が埋め込まれた形態の金属層170をさらに含むものである。離型層300は、例えば金、銀、銅、ニッケルなどの金属で形成されることが好ましい。この際、金属層170は、接着層130の縁部が露出するように、接着層130より小さな面積を持つ。よって、離型層300は金属層170と真空で圧着して縁部が接着層130と接着して拘束される。
前述したような基板製造用キャリア部材は、ビルドアップされるプリント基板を堅く支持することができるリジッド基板110と、プリント基板とキャリア部材の分離を容易にする離型層300とを持つので、プリント基板の工程安全性を高め、薄板プリント基板の製造を可能にする利点を持つ。
図6〜図8は本発明の好適な第3実施例による基板製造用キャリア部材を利用して基板を製造する方法を工程順に道示す工程断面図である。
以下、図6〜図8に基づいて、本実施例による基板製造用キャリア部材を利用して基板を製造する方法を説明する。前述したような第1、第2、及び第4実施例による基板製造用キャリア部材を使用しても本実施例で開示する工程と同一または類似の工程で基板を製造することができ、その相違点については本実施例の該当部分で説明する。
まず、図4に示すように、ベース基板100及び前記ベース基板100の最外層に積層された離型層300を持つキャリア部材が提供される。ここで、ベース基板100は、リジッド基板110、リジッド基板110上に積層された接着層130及び接着層130の上部に埋め込まれた離型フィルム150を含む構成である。
ここで、離型層300は、前述したように、一般的に使用されるフィルムタイプの離型材、または発泡テープで形成することができ、フィルムタイプの離型材は、シリコンコーティング層(図示せず)を持つか、あるいは第1面に、例えばSiコーティングまたはプラズマ表面処理が施されたものであることができる。
ついで、図6に示すように、キャリア上にプリント基板をビルドアップする。キャリア上に絶縁層及び回路層でなるプリント基板をビルドアップする工程は、通常の積層及び回路パターン形成工程で行うことができ、ビルドアップ層500を形成する通常の工程はここでは詳細に説明しない。
本実施例では、キャリア部材上にフィルムタイプ保護層510を先に形成し、その保護層510上に回路層及び絶縁層を形成してプリント基板をビルドアップする工程を用いる。この際、保護層510はフィルムタイプのソルダレジスト層であることが好ましい。
ついで、図7に示すように、プリント基板キャリア部材を分離する。プリント基板キャリア部材の分離は、離型層300の素材に応じて、ルーティング工程または加熱工程によって行うことができる。
離型層300が一般的なフィルムタイプの離型材である場合は、接着層130と離型層300との接着部位を切断して、離型層300と離型フィルム150の真空圧を解除するルーティング工程によることが好ましい。
離型層300が発泡テープである場合は、発泡テープの発泡フィラーが脹れ上がる温度、例えば200℃に加熱する加熱工程によってプリント基板とキャリア部材を分離することが好ましい。このような分離工程は、図5に示す第4実施例にも同様に適用することができる。
図2に示すような第1実施例によるキャリア部材と図3に示すような第2実施例によるキャリア部材の場合は、離型層300が中間介在物なしにリジッド基板110または接着層130に接するので、ルーティング工程よりは発泡テープルを利用した分離方式を用いてキャリアの再使用を図るのが好ましい。発泡テープを用いる場合は、キャリア部材の切断部なしに、プリント基板とキャリア部材が分離されるので、キャリアを半分永久的に繰り返し使用することが可能である。ただ、必ずしも発泡テープルを利用した方式のみで分離工程を行う必要はなく、ルーティング方式によっても、離型層300の表面処理結果によってプリント基板と離型層300が分離可能である。
すなわち、離型層300は、第1面にだけ、リジッド基板110または接着層130との接着力を高める表面処理層を持つので、ルーティング工程による衝撃及び振動によって離型層300の第2面に形成されたプリント基板と離型層300が分離できる。
ついで、キャリア部材から分離されたプリント基板の保護層510にレーザー加工で接続端子を露出させる開口600を形成することで、プリント基板を製造することができる。この際、例えばCOレーザードリルを使用することができる。
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのもので、本発明による放熱パッケージ基板及びその製造方法はこれに限定されなく、本発明の技術的思想内で当該分野の通常の知識を持った者によって多様な変形及び改良が可能であろう。本発明の単純な変形ないし変更はいずれも本発明の範疇内に属するもので、本発明の具体的な保護範囲は特許請求範囲によって明らかに決まるであろう。
本発明は、基板のビルドアップ工程を支持する基板製造用キャリア部材及びこれを用いた基板製造方法に適用可能である。
100 ベース基板
110 リジッド基板
130 接着層
150 離型フィルム
170 金属層
300 離型層
500 ビルドアップ層
600 開口

Claims (14)

  1. リジッド基板を含むベース基板;及び
    前記ベース基板と接する第1面と前記ベース基板の外側に向かう第2面を持つように前記ベース基板の最外層に積層された離型層;
    を含むことを特徴とする、基板製造用キャリア部材。
  2. 前記ベース基板が、リジッド基板上に積層された接着層を含むことを特徴とする、請求項1に記載の基板製造用キャリア部材。
  3. 前記ベース基板が、リジッド基板上に積層された接着層及び前記接着層の上部に埋め込まれた離型フィルムを含むことを特徴とする、請求項1に記載の基板製造用キャリア部材。
  4. 前記ベース基板が、リジッド基板上に積層された接着層及び前記接着層の上部に埋め込まれた金属層を含むことを特徴とする、請求項1に記載の基板製造用キャリア部材。
  5. 前記離型層の第1面が、親水性を有するように表面処理されたことを特徴とする、請求項1に記載の基板製造用キャリア部材。
  6. 前記離型層が、発泡テープであることを特徴とする、請求項1に記載の基板製造用キャリア部材。
  7. 前記離型フィルムが、前記接着層の縁部が露出するように、前記接着層より小さな面積を持つことを特徴とする、請求項3に記載の基板製造用キャリア部材。
  8. 前記金属層が、前記接着層の縁部が露出するように、前記接着層より小さな面積を持つことを特徴とする、請求項4に記載の基板製造用キャリア部材。
  9. (A)ベース基板及び前記ベース基板の最外層に積層された離型層を持つキャリア部材を提供する段階;
    (B)前記キャリア上にプリント基板をビルドアップする段階;及び
    (C)前記プリント基板と前記キャリア部材を分離する段階;
    を含むことを特徴とする、プリント基板の製造方法。
  10. 前記離型層の第1面が、親水性を有するように表面処理されたことを特徴とする、請求項9に記載のプリント基板の製造方法。
  11. 前記離型層が、発泡テープであることを特徴とする、請求項9に記載のプリント基板の製造方法。
  12. 前記(B)段階が、
    (I)前記キャリア部材上にフィルムタイプ保護層を形成する段階;及び
    (II)前記保護層上に回路層及び絶縁層を形成してプリント基板をビルドアップする段階;
    を含むことを特徴とする、請求項9に記載のプリント基板の製造方法。
  13. 前記(C)段階が、ルーティング工程または加熱工程によって行われることを特徴とする、請求項9に記載のプリント基板の製造方法。
  14. 前記(C)段階の後に、前記プリント基板の保護層にレーザー加工して接続端子を露出する開口を形成する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項12に記載のプリント基板の製造方法。
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