JP2010241064A - ノズル基板、及びそれを備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン製のノズル基板1であって、ノズル基板1を貫通するノズル孔10と、ノズル基板1の液滴吐出面1aからノズル孔10の内壁まで連続する液滴保護膜11とを有したものにおいて、ノズル基板1の比抵抗が100Ωcm〜2000Ωcmであり、ノズル基板1の液滴吐出面1aに撥水膜12が形成されている。
【選択図】図6
Description
本発明はこの課題に対応したもので、静電気に対してダメージの小さいノズル基板を提案し、併せてそれを備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置を提供するものである。
このノズル基板によれば、帯電した被印刷物の静電気がノズル基板上に放電しても、基板を構成するシリコンの時定数により放電するため、ノズル基板への放電ダメージを軽減することができる。
また、シリコンに腐食性のある液滴材料でもシリコン酸化膜の耐性があれば使用可能となり、液滴材料の選択範囲が広くなる。
しかも、放電に対する耐性を向上させるのにシリコン材料の仕様変更のみで済む、特別な構造を形成する必要がないため、安価で信頼性の高いノズル基板の製造が可能となる。
図1は、本発明の実施形態1に係る液滴吐出ヘッドを示した縦断面図である。なお図1では、駆動回路4の部分を模式的に示している。実施形態1に係る液滴吐出ヘッドは、ノズル基板1、キャビティ基板2、電極基板3が順に積層されて構成されている。
ノズル基板1は、液滴吐出面1aからノズル孔10の内壁まで連続する液滴保護膜11を有し、液滴吐出面1aには撥水膜(後述の図5,6参照)も形成されている。
また、ノズル基板1の接着面1b側にも液滴保護膜(後述の図5,6参照)が形成されている。
電極基板3にはまた、リザーバ22と連通するインク供給孔32が形成されている。このインク供給孔32は、リザーバ22の底壁に設けられた孔25と繋がっており、リザーバ22にインク等の液滴を外部から供給するために設けられている。
また、シリコンに腐食性のある液滴材料でもシリコン酸化膜の耐性があれば使用可能となり、液滴材料の選択範囲も広くなる。
図4〜図6は、実施形態1で説明したノズル基板1の製造工程の一例を示した工程図である。これに基づいて、ノズル基板1の製造方法を説明する。
(A)まず、例えば厚さが725μm、比抵抗10〜2000Ωcm(望ましくは100〜2000Ωcm)の単結晶シリコン基板(以下、ノズル基板1と称する)を準備し、このノズル基板1の両面に熱酸化膜(SiO2)15を厚さ0.5μm程度形成する。さらに、接着面1b側の第2ノズル孔10bとなる部分の熱酸化膜15を除去するパターニングを施す。
(B)ノズル基板1の接着面1b側にレジスト膜16を形成し、第1ノズル孔10aとなる部分のレジスト膜16を除去するパターニングを施す。
(C)異方性ドライエッチングで第1ノズル孔10aを所定の深さまでエッチングする。
(D)レジスト膜16を除去し、異方性ドライエッチングで第2ノズル孔10bを所定の深さまでエッチングする。このとき、第1ノズル孔10aも対応して所定量エッチングされる。
(E)続いて、酸化膜15を剥離し、厚さ0.1μmの液滴保護膜11aを熱酸化で形成する。
(F)ノズル基板の接着面1bにサポート基板17を貼り付けた後、液滴吐出面1a側を所定の板厚になるまで研削などで薄くし、ノズル孔10を貫通させる。
(G)液滴吐出面1a及びノズル孔10内面に、液滴保護膜11となる厚さ0.2〜2μmのシリコン重合膜、シロキサン原料のプラズマCVDで形成する。さらに、空気中で、UVを照射して脱水縮合させ、液滴保護膜11の表面をSiO2化する。
(H)シランカップリング材をディップコートし、液滴吐出面1aに撥水膜12を形成する。この際、ノズル孔10の内壁にも撥水膜12が形成される。
(I)ノズル基板の液滴吐出面1aにサポートテープ18を貼り付けてから、接着面1bのサポート基板17を剥離し、接着面1bから酸素若しくはアルゴンのプラズマ処理をして、ノズル孔10の内壁の撥水膜12を親水化する。
(J)最後にサポートテープ18を剥離して、ノズル基板1が完成する。
以上により、構造等に特別な配慮をすることなく、静電気のダメージに対して強いノズル基板1を、材料であるシリコン基板の仕様変更のみで実現することができる。
続いて、キャビティ基板2となるシリコン基板を電極基板3に陽極接合する。このとき、シリコン基板と固定電極31との間には、後に形成される振動板23が変形する空間となるギャップ30を介在させる。そして、そのシリコン基板にウェットエッチング等を施して、振動板23を底面とした吐出室20、オリフィス21及びリザーバ22等の流路を形成してキャビティ基板2とする。
その後、固定電極31と振動板23との間のギャップ30を封止材33で封止する。
最後に、先に製造しておいた静電気ダメージに対し強いノズル基板1を、電極基板3と一体となっているキャビティ基板2の流路形成面側に接着剤で接合して、液滴吐出ヘッドが完成する。
図7は、本発明の実施形態3に係る液滴吐出装置の例を示すインクジェット記録装置100である。このインクジェット記録装置100は、実施形態1で説明したノズル基板1を有した液滴吐出ヘッドを備えたものであり、帯電した被印刷物の静電気がノズル基板1に放電してもノズル基板1のダメージが軽減される。このため、インクの吐出精度や装置の耐久性が従来に比較して向上している。
なお、本発明に係る液滴吐出装置は、上記のインクジェットプリンタの他に、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置や、液晶表示装置のカラーフィルタの製造装置、DNAデバイスの製造装置等にも適用できる。
Claims (5)
- シリコン製のノズル基板であって、前記ノズル基板を貫通するノズル孔と、前記ノズル基板の液滴吐出面から前記ノズル孔の内壁まで連続する液滴保護膜とを有したものにおいて、
前記ノズル基板の比抵抗が10Ωcm〜2000Ωcmであり、前記ノズル基板の液滴吐出面に撥水膜が形成されていることを特徴とするノズル基板。 - 前記ノズル基板の比抵抗が、100Ωcm〜2000Ωcmであることを特徴とする請求項1記載のノズル基板。
- 前記ノズル基板は、P型シリコンまたはN型シリコンであることを特徴とする請求項1または2記載のノズル基板。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のノズル基板を液滴吐出部に備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項4に記載の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012106364A (ja) * | 2010-11-16 | 2012-06-07 | Seiko Epson Corp | シリコンノズル基板及びその製造方法 |
JP2012187789A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Seiko Epson Corp | ノズルプレートの製造方法、および液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2014162778A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Eiweiss Kk | 化合物、その製造方法および光塩基発生剤組成物 |
JP2016100813A (ja) * | 2014-11-25 | 2016-05-30 | 日東電工株式会社 | 防水通音膜と、それを備える防水通音部材、電子機器、電子機器用ケースおよび防水通音構造 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006175765A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Ricoh Printing Systems Ltd | シリコン部材の陽極接合法及びこれを用いたインクジェットヘッド製造方法並びにインクジェットヘッド及びこれを用いたインクジェット記録装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006175765A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Ricoh Printing Systems Ltd | シリコン部材の陽極接合法及びこれを用いたインクジェットヘッド製造方法並びにインクジェットヘッド及びこれを用いたインクジェット記録装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012106364A (ja) * | 2010-11-16 | 2012-06-07 | Seiko Epson Corp | シリコンノズル基板及びその製造方法 |
JP2012187789A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Seiko Epson Corp | ノズルプレートの製造方法、および液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2014162778A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Eiweiss Kk | 化合物、その製造方法および光塩基発生剤組成物 |
JP2016100813A (ja) * | 2014-11-25 | 2016-05-30 | 日東電工株式会社 | 防水通音膜と、それを備える防水通音部材、電子機器、電子機器用ケースおよび防水通音構造 |
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