JP2010235512A - 防腐防黴剤エマルション - Google Patents
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Abstract
【解決手段】自発的に閉鎖小胞体を形成する両親媒性物質により形成されて油性基剤表面に付着する閉鎖小胞体を主成分とする乳化分散剤と防腐防黴剤とを水に添加して構成する。防腐防黴剤は、イソチアゾリン化合物、ベンゾチアゾール化合物からなる群から選ばれたもの、例えば、2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、又は、2−(チオシアノメチルチオ)ベンゾチアゾ−ルを用いるとよい。両親媒性物質は、ポリオキシエチレン硬化ひまし油の誘導体のうちエチレンオキシドの平均付加モル数(E)が5〜100である誘導体を用いる。
【選択図】なし
Description
また、高濃度の防腐防黴剤エマルションを形成しておき、水のみで所定の濃度の希釈できることが望ましいが、従来の界面活性剤を用いた乳化法で調製した薬剤は、多量の界面活性剤が必要になるし、高濃度のエマルションを形成することができず、10wt%程度のものしか形成することができなかった。
また、前記防腐防黴剤は、イソチアゾリン化合物、ベンゾチアゾール化合物からなる群から選ばれた少なくとも1種であることが好ましく、より具体的には、防腐防黴剤として、2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン(OITと略す)、又は、2−(チオシアノメチルチオ)ベンゾチアゾ−ル(TCMTBと略す)を用いるとよい。
このため、これまで希釈化するために用いていた有機溶剤が不要となるので、有機溶剤が揮発性有機化合物(VOC)として大気中に揮散する等の不都合がなく、また、有機溶剤を収容していた使用済みのドラム缶の発生を抑えることが可能となる。
図中、×印はエマルションとしては不安定であり、完全に相分離が生じた状態、△印はコアセルベーションの状態、○印は、乳化状態に変化が見られなかった(安定した乳化状態が維持されていた)状態を示す。また、図中、HCOは、ポリオキシエチレン硬化ひまし油であり、(HCO−X)は、原料のひまし油の二重結合を飽和するために水素を添加してからEモルのエチレンオキシド(EO)を付加したものであり、(CO−n)は、原料のひまし油を水素化しないでnモルのEOを付加したものである。
このため、エチレンオキシドの平均付加モル数(E)が20〜100の誘導体で長期に亘って良好な乳化状態を確認できた。
水素化レシチンにおいては、良好な乳化状態が得られたが、他の乳化剤では、経時安定性に欠け、1ヶ月後には完全に相分離することが確認された。
[細菌のMICの測定方法]
細菌MIC測定用培地としてミュ−ラ−・ヒントン・ブイヨン液体培地(MHB液体培地:pH6.8)を用いて、液体培地法(2倍段階希釈法)により各細菌に対して測定した。
(接種菌液の調製)
細菌用培地としてトリプトソ−ヤ液体培地(pH7.4)を用い、各菌を32℃で20時間培養後、培養液をMHB液体培地で希釈して菌数を1.0×107cfu/mlに調整し、接種菌液とした。
(薬剤の希釈系列の調製)
薬剤をジメチルスルオキシド(DMSO)に溶解させた後、MHB液体培地で希釈して濃度を調整し、更に試験管にてMHB液体培地で倍倍希釈して、所望の希釈系列を作成した。また、対照として薬剤を含有しないMHB液体培地を用いた。
(試験方法)
上記薬剤の希釈系列を含有する各試験管に、各接種菌液(1.0×107cfu/ml)を1/100容ずつ接種し、攪拌した。32℃で最長4日間培養し、菌の生育の有無を目視により判定して、細菌の発育を阻止する最小濃度(MIC)を求めた。
[真菌、酵母のMICの測定方法]
一般真菌MIC測定用培地としてグルコ−スペプトン液体培地(PG液体培地:pH6.2)を用いて、液体培地法(2倍段階希釈法)により各真菌に対して測定した。
(接種菌液の調製)
一般真菌用前培地としてポテトデキストロ−ス寒天培地(PDF寒天培地:pH6.5)を用い、25℃で2週間前培養後、各胞子形成菌を、界面活性剤Tween20を0.02%添加した滅菌生理食塩水の入った試験管に浮遊させ、超音波洗浄器にて5秒間かけ胞子を均等に分散させた。その後、滅菌した100メッシュのナイロンフィルタ−で濾過し、この胞子懸濁液をPG液体培地で希釈して、胞子数1.0×106cfu/mlに調整し、接種菌液を調製した。但し、胞子形成の不良な菌や全く形成しない菌は、PDF寒天培地上に発育した集落を滅菌ナイフで3mm角にカットした小片を接種した。
(薬剤の希釈系列の調製)
細菌と同様のやり方を行った。但し、希釈培地は、PG液体培地を用いた。
(試験方法)
上記薬剤の希釈系列を含有する各試験管に、各接種菌液(胞子数1.0×106cfu/ml)を1/ 100容ずつ接種し、攪拌した。但し、胞子形成の不良な菌や全く形成しない菌は、PDF寒天培地上に発育した集落を滅菌ナイフで3mm角にカットした小片を各試験管に接種した。25℃で最長 7日間培養し、菌糸の生育の有無を目視により判定し、菌糸の発育を阻止する最小濃度(MIC)を求めた。
また、50%OITエマルションを上記再処理で粒径を調整した後、4ヶ月間放置した後に、水で希釈し、エマルション水溶液の表面近くの透過率を測定した結果を図7に示す。希釈割合が30%である場合は、30日経過しても目視による乳化状態に変化はなく、エマルションが安定していることが確認された。 したがって、長期間保存した後に、水で希釈しても、乳化状態の安定性が確保されている。
水素化レシチンにおいては、良好な乳化状態が得られたが、他の乳化剤では、経時安定性に欠け、1ヶ月後には完全に相分離することが確認された。
尚、上述したTCMTBエマルションにおいても、水のみで容易に希釈することができ、エマルションは安定である。さらに,OITエマルションと同様に,粒子径を小さくすれば重力の効果によるコアセルベーションが起こりにくくなり、水希釈した場合でも、安定した乳化状態を得ることができる。
Claims (5)
- 自発的に閉鎖小胞体を形成する両親媒性物質により形成されて油性基剤表面に付着する閉鎖小胞体を主成分とする乳化分散剤と防腐防黴剤とを水に添加して構成されることを特徴とする防腐防黴剤エマルション。
- 前記両親媒性物質1〜5wt%、前記防腐防黴剤10〜65wt%、水バランスで組成されることを特徴とする請求項1又は2記載の防腐防黴剤エマルション。
- 前記防腐防黴剤は、イソチアゾリン化合物、ベンゾチアゾール化合物からなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の防腐防黴剤エマルション。
- 前記防腐防黴剤は、2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、又は、2−(チオシアノメチルチオ)ベンゾチアゾ−ルであることを特徴とする請求項4に記載の防腐防黴剤エマルション。
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