JP2010232639A - 金属パターン形成方法および金属パターン - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に、無電解めっき触媒前駆体を含有するインクを用いインクジェット方式でパターン部を印字する印字工程と、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成するめっき処理工程とを有する金属パターン形成方法において、該基板は、その表面が非インク吸収性の樹脂で構成され、かつプラズマ処理された基板であり、かつ該インクは、25℃におけるpH値が9.0以上である。
【選択図】なし
Description
本発明に係るインクは、無電解めっき触媒前駆体を含有する。
本発明に係る無電解めっき触媒前駆体は、後述する無電解めっき処理が行われるためのトリガーとなり得るものであり、具体的には、パラジウム金属塩もしくはパラジウムイオンがあげられる。
本発明に係るインクは、25℃におけるpH値が9.0以上であることが必要である。さらに好ましくは、12.5以上、14.0以下である。
本発明に係るインクは、さらに、パラジウム金属塩もしくはパラジウムイオンと錯体形成可能な化合物を含有することが、インクの射出安定性の面から好ましい。
本発明に係るインクは、溶媒を含有する。適用可能な溶媒としては、上記パラジウム金属塩もしくはパラジウムイオンおよび錯体形成可能な化合物の溶解性の観点から、水および、水を含有する水性液媒体が好ましい。
本発明に係るインクは、界面活性剤を含有してもよい。
本発明に係るインクにおいては、必要に応じて、その他の従来公知の添加剤を含有することができる。
本発明に係る基板は、その表面が非インク吸収性樹脂で構成され、かつプラズマ処理された基板である。
本発明に係る、プラズマ処理は、プラズマ状態にしたガスを、処理対象物に触れさせる処理である。
γS=γS d+γS p+γS H
また、固体の表面自由エネルギーはYoung−Fowkes式によって以下のように表すことができる。
γL+γLcosθ=2{(γS dγL d)1/2+(γS pγL p)1/2+(γS HγL H)1/2}
これらの関係を用いて、分散成分のみで成り立っている液体を固体試料の上に置き、接触角を測定すれば、固体試料の表面自由エネルギーのうちの分散成分のみを求めることができる。
(印字工程)
本発明の金属パターン形成方法においては、無電解めっき触媒前駆体を含有したインクがインクジェットヘッドから基板上へ吐出され、基板上にパターン部が形成される。
本発明の金属パターン形成方法においては、上記印字工程と、後述する無電解めっき処理を行うめっき工程の間に、触媒活性化工程を有することが好ましい。
本発明に係る無電解めっき処理について説明する。
〔インク1、インク2、インク3、インク4、インク5、インク6の調製〕
触媒として塩化パラジウムを0.2質量%、錯化剤として2−アミノピリジンを0.2質量%、水溶性有機溶媒として、エチレングリコールを30質量%、グリセリン10質量%、純水を残分としてインク調整した。
錯化剤としての2−アミノピリジンを含有させなかった以外はインク2と同様にしてインク7を調整した。
錯化剤としての2−アミノピリジンを含有させなかった以外はインク3と同様にしてインク8を調整した。
触媒として硝酸パラジウムを0.1質量%、エチレングリコール30質量%、グリセリン10質量%に溶解させインクを調整した。pH7.0に調整を行い、インク9とした(硝酸パラジウムが溶解していることを確認)。
表1に示す基板(厚さ75μmのポリイミドシートおよびPETシート)を用いた。
上記基板シートを酸素雰囲気下、周波数10MHzで直流電圧は300Vにて、プラズマ放電処理を行った。照射条件としては、電力(W)と処理時間(sec)とを、表1に示す条件で変化させた。
上記プラズマ処理した基板を窒素バブルしたスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液10質量%に70℃で7時間浸漬した。浸漬した膜を水で8時間洗浄することにより、スチレンスルホン酸ナトリウムが表面にグラフトポリマー化された基板を得た。
上記、プラズマ処理およびグラフトポリマー化処理を行った基板の表面自由エネルギーは以下のように行った。
〔金属(配線)パターン1の形成〕
(パターン部の印字)
搬送系オプションXY100に装着したインクジェットヘッド評価装置EB100(コニカミノルタIJ(株)製)に、インクジェットヘッドKM256AQ水系ヘッドを取り付け、上記調製したインクが吐出できるようにした。
上記方法でパターン部を形成した後の基板を80℃で5分乾燥したのち、ホウ素系の還元剤を含有した下記活性化液に、室温で15分浸漬した。
アルカップMRD−2−C(上村工業社製) 6質量%
純水 残量
(めっき処理工程)
下記の無電解銅めっき溶液を調製した。仕上がりのめっき液は、銅濃度として2.5質量%、ホルマリン濃度が1質量%、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)濃度が2.5質量%である。また、水酸化ナトリウムでめっき液のpHを13.0に調整した。
メルプレートCU−5100A(メルテックス社製) 6質量%
メルプレートCU−5100B(メルテックス社製) 5.5質量%
メルプレートCU−5100C(メルテックス社製) 2.0質量%
メルプレートCU−5100M(メルテックス社製) 4.0質量%
純水 残量
50℃に保温した上記無電解銅めっき溶液に、活性化工程の処理を施した基板を90分間浸漬し、金属パターン部が銅金属にめっき化された配線幅50μm、配線間距離50μm、配線長30mmで100本の金属配線パターンと10mm×10mmの正方形金属パターンを形成した。金属パターン2〜35について、表1に示す基板とインクを組み合わせにより作成した。
上記インクを用いて形成した金属パターンについて、下記の各評価を行った。
上記形成した各銅配線パターンを光学顕微鏡にて観察し、下記のランクに従って細線の再現性を評価した。
A:細線の欠け(断線)、細線同士の接触がなく、かつ線形状の乱れ(細りや太り)が2%未満である
B:細線の欠け(断線)、細線同士の接触がなく、かつ線形状の乱れ(細りや太り)が2%以上8%未満である
C:細線の欠け(断線)、細線同士の接触がなく、かつ線形状の乱れ(細りや太り)が8%以上15%未満である
D:細線の欠け(断線)、細線同士の接触がなく、かつ線形状の乱れ(細りや太り)が15%以上、30%未満である
E:細線の欠け(断線)、細線同士の接触が認められ、かつ線形状の乱れ(細りや太り)が30%以上である。
上記各金属パターンの形成方法で、10mm×10mmの大きさの金属パターンを形成した。この金属パターンに対して、JIS C5600に記載に従って、テープ剥離試験による密着性の評価を行った。具体的には、2mm間隔の縦横25マス格子パターンの切れ込みをカッターで形成させ、格子パターンの上からセロハンテープを貼り付けた。このテープを引きはがした時に、テープ側に剥がれた切片の数を数え、下記のランクで評価し、密着性の指標とした。
A:剥がれた金属パターンが認められない
B:剥がれた金属パターンが認められるが、発生数は5%未満である
C:剥がれた金属パターンが認められるが、発生数は5%以上、9%未満である
D:剥がれた金属パターンが認められるが、発生数は9%以上、13%未満である
E:剥がれた金属パターンが認められ、発生数が13%以上である。
上記細線の再現性で評価した各銅配線パターンに、抵抗率計ロレスタGP(ダイアインスツルメンツ(株)製)の四探針プローブPSPを接続させて導電率を測定し、下記のランクに従って導電性を評価した。
A:導電率が5μΩ・cm未満である
B:導電率が5μΩ・cm以上、8μΩ・cm未満である
C:導電率が8μΩ・cm以上、15μΩ・cm未満である
D:導電率が15μΩ・cm以上、25μΩ・cm未満である
E:導電率が25μΩ・cm以上である
尚、細線の再現性、密着性および導電性ともにランクC以上が、実用上良好な範囲であると評価した。以上により得られた各評価結果を、表1に示す。
Claims (8)
- 無電解めっき触媒前駆体を含有するインクを用いインクジェット方式で基板上にパターン部を印字する印字工程と、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成するめっき処理工程とを有する金属パターン形成方法において、該基板は、その表面が、非インク吸収性の樹脂で構成されかつプラズマ処理された、基板であり、該無電解めっき触媒前駆体はインク中で溶解した状態で存在し、かつ該インクは、25℃におけるpH値が9.0以上であることを特徴とする金属パターン形成方法。
- 前記無電解めっき触媒前駆体が、パラジウム金属塩であることを特徴とする請求項1に記載の金属パターン形成方法。
- 前記インクが、前記パラジウム金属塩と錯体形成可能な化合物を含有することを特徴とする請求項2に記載の金属パターン形成方法。
- 前記インクの25℃におけるpH値が12.5以上、14.0以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の金属パターン形成方法。
- 前記基板は、酸素またはオゾンを含む雰囲気下でプラズマ処理を行われたものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属パターン形成方法。
- 前記基板表面の極性成分と水素結合成分の和が、5mN/m以上、30mN/m以下になるようにプラズマ処理を行うことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の金属パターン形成方法。
- 前記パターン部の前記無電解めっき触媒前駆体を還元する触媒活性化工程を前記印字工程とめっき工程の間に設けることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の金属パターン形成方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の金属パターン形成方法によって形成されたことを特徴とする金属パターン。
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