JPH0257676A - 高分子材料の表面改質方法 - Google Patents
高分子材料の表面改質方法Info
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- JPH0257676A JPH0257676A JP20851288A JP20851288A JPH0257676A JP H0257676 A JPH0257676 A JP H0257676A JP 20851288 A JP20851288 A JP 20851288A JP 20851288 A JP20851288 A JP 20851288A JP H0257676 A JPH0257676 A JP H0257676A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、プラズマ発生源に直流電源を用いて高分子材
料の表面改良を行う方法に係るもので、アクリル等の高
分子材料の表面の密着性を高める為の前処理方法として
利用し、付着強度の高い成膜を得ることができる様にす
るものである。
料の表面改良を行う方法に係るもので、アクリル等の高
分子材料の表面の密着性を高める為の前処理方法として
利用し、付着強度の高い成膜を得ることができる様にす
るものである。
〈従来の技術〉
アクリルディスク等の高分子材料に真空成膜する場合、
通常は材料の表面処理は行わず、そのまま金属、セラミ
ック等を蒸着などで成膜していた。この為高分子材料と
成膜した金属との付着強度を十分確保することはできな
かった。この対策として、高分子材料を加熱脱ガスした
り、０２ＲＦプラズマにより表面改良する方法が提案さ
れている。
通常は材料の表面処理は行わず、そのまま金属、セラミ
ック等を蒸着などで成膜していた。この為高分子材料と
成膜した金属との付着強度を十分確保することはできな
かった。この対策として、高分子材料を加熱脱ガスした
り、０２ＲＦプラズマにより表面改良する方法が提案さ
れている。
以下に第２図に基づいて０□ＲＦプラズマにより表面改
質を行う方法を説明する。
質を行う方法を説明する。
図において、ｌは処理する高分子材料、２は電極、３は
ＲＦ主電源４はベルジャ、５は酸素ガス導入ノズル、６
は排気口であり２ベルジヤ４内に高分子材料１をセット
した後、排気口６を介してベルジャ４内を１０””ｔｏ
ｒｒ程度に予備排気し、その後、ノズル５より酸化ガス
０．０５〜１ ｔｏｒｒとなる様導入し、１０〜２００
ＷのＲＦ主電力１０〜３００ｓｅｃ間ＲＦ電極２に印加
して、プラズマを発生させて高分子材料ｌの表面改良を
行っている。
ＲＦ主電源４はベルジャ、５は酸素ガス導入ノズル、６
は排気口であり２ベルジヤ４内に高分子材料１をセット
した後、排気口６を介してベルジャ４内を１０””ｔｏ
ｒｒ程度に予備排気し、その後、ノズル５より酸化ガス
０．０５〜１ ｔｏｒｒとなる様導入し、１０〜２００
ＷのＲＦ主電力１０〜３００ｓｅｃ間ＲＦ電極２に印加
して、プラズマを発生させて高分子材料ｌの表面改良を
行っている。
〈発明が解決しようとする課題）
上記した０２ＲＦプラズマによる表面改良では、ＲＦ主
電源用いなければならない為、電源より発生するＲＦノ
イズが他の電気部品のノイズとなり、装置の安定した運
転か困難であった。又、上記方法は高分子材料表面のゴ
ミ等の除去が主たる効果であった為、満足できる付着強
度を得ることはできなかつた。
電源用いなければならない為、電源より発生するＲＦノ
イズが他の電気部品のノイズとなり、装置の安定した運
転か困難であった。又、上記方法は高分子材料表面のゴ
ミ等の除去が主たる効果であった為、満足できる付着強
度を得ることはできなかつた。
本発明の課題は、上記した問題を解消し、安定した運転
が可能で、且つ成膜した膜の付着強度を高めることがて
きる高分子材料の表面改質方法を得ることにある。
が可能で、且つ成膜した膜の付着強度を高めることがて
きる高分子材料の表面改質方法を得ることにある。
〈課題を解決するための手段〉
上記した課題を解決する為、本発明の高分子材料の表面
改質方法は、高分子材料を電極間に配置し、酸素ガス雰
囲気中で電極に電流電圧を印加して酸素ガスプラズマを
発生させ、同プラズマにより高分子材料の表面を改質す
ることを特徴とするものである。
改質方法は、高分子材料を電極間に配置し、酸素ガス雰
囲気中で電極に電流電圧を印加して酸素ガスプラズマを
発生させ、同プラズマにより高分子材料の表面を改質す
ることを特徴とするものである。
〈作用〉
上記の様に直流電圧により酸素ガスプラズマを発生させ
、高分子材料の表面改質を行うことにより、表面の付着
物の除去と併せ、材料表面の化学的組成が変化し、親木
基の生成が起こり、水との接触角が大幅に向上する為、
密着性を増大させることができる。又、この様な表面改
質を広範囲で、且つ均一に行うことができる。
、高分子材料の表面改質を行うことにより、表面の付着
物の除去と併せ、材料表面の化学的組成が変化し、親木
基の生成が起こり、水との接触角が大幅に向上する為、
密着性を増大させることができる。又、この様な表面改
質を広範囲で、且つ均一に行うことができる。
〈実施例〉
以下に本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の実施に用いる装置の構成図て、図にお
いて１は処理する高分子材料、２は高分子材料より約１
５０〜２００ｍｍ程度離れて設置されたＤＣ電極、４は
ベルジャ、５は酸素ガス導入ノズル、６は排気口、７は
ＤＣ電源であり、上記の装置において、排気口６を介し
てベルジャ４内を１Ｏ−５ｔｏｒｒ程度に高真空排気し
た後、ノズル５より酸素ガスを０．０５〜ｌ ｔｏｒｒ
になる様導入し、ＤＣ電極２にＤＣ電源７よりＤＣ２０
０〜５００ｖノ電圧を印加して酸素ガスプラズマを発生
させる。電極間に配置した高分子材料１は約５〜６０ｓ
ｅｃ間、このプラズマによって表面改質が行なわれる。
いて１は処理する高分子材料、２は高分子材料より約１
５０〜２００ｍｍ程度離れて設置されたＤＣ電極、４は
ベルジャ、５は酸素ガス導入ノズル、６は排気口、７は
ＤＣ電源であり、上記の装置において、排気口６を介し
てベルジャ４内を１Ｏ−５ｔｏｒｒ程度に高真空排気し
た後、ノズル５より酸素ガスを０．０５〜ｌ ｔｏｒｒ
になる様導入し、ＤＣ電極２にＤＣ電源７よりＤＣ２０
０〜５００ｖノ電圧を印加して酸素ガスプラズマを発生
させる。電極間に配置した高分子材料１は約５〜６０ｓ
ｅｃ間、このプラズマによって表面改質が行なわれる。
この様にＤＣ電圧により酸素ガスプラズマな発生させて
高分子材料の表面改質を行うと表面の付着物の除去たけ
でなく、材料表面の化学的組成が変化し、親木基の生成
が起こり、高分子材料のぬれ性か向上する。
高分子材料の表面改質を行うと表面の付着物の除去たけ
でなく、材料表面の化学的組成が変化し、親木基の生成
が起こり、高分子材料のぬれ性か向上する。
上記の条件てＰＭＭＡの材料を改質した時、水との接触
角は改質前が約８０６であったものが約５０″近くとな
り密着性の向上も確認することができた。
角は改質前が約８０６であったものが約５０″近くとな
り密着性の向上も確認することができた。
〈発明の効果〉
以上に説明した様に本発明によると、ＤＣ電圧により発
生される酸素ガスプラズマによって表面改質を行う為、
電気ノイズの発生もなく安定した運転を行うことができ
るとともに表面の密着性を向上させることができる為、
その上にアルミ等の金属膜を成膜した時、膜の付着強度
を大幅に向上させることができる。
生される酸素ガスプラズマによって表面改質を行う為、
電気ノイズの発生もなく安定した運転を行うことができ
るとともに表面の密着性を向上させることができる為、
その上にアルミ等の金属膜を成膜した時、膜の付着強度
を大幅に向上させることができる。
第１図は、本発明の実施例に用いる装置の構成図、
第２図は、従来装置の構成図である。
尚、図中１は高分子材料、 ２はＤＣ電極。
４はベルジャ、 ５は酸素ガス導入ノズル。
６は排気口、 ７はＤＣ電源である。
Claims (1)
- 高分子材料を電極間に配置し、酸素ガス雰囲気中で電極
に直流電圧を印加して酸素ガスプラズマを発生させ、同
プラズマにより前記高分子材料の表面を改質することを
特徴とする高分子材料の表面改質方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20851288A JPH0257676A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | 高分子材料の表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20851288A JPH0257676A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | 高分子材料の表面改質方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0257676A true JPH0257676A (ja) | 1990-02-27 |
Family
ID=16557392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20851288A Pending JPH0257676A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | 高分子材料の表面改質方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0257676A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010232639A (ja) * | 2009-03-03 | 2010-10-14 | Konica Minolta Ij Technologies Inc | 金属パターン形成方法および金属パターン |
-
1988
- 1988-08-23 JP JP20851288A patent/JPH0257676A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010232639A (ja) * | 2009-03-03 | 2010-10-14 | Konica Minolta Ij Technologies Inc | 金属パターン形成方法および金属パターン |
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