JP2010230665A - イオンビームを用いた試料断面作製装置及び作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 加工を始めるとき遮蔽材12の端縁部を断面作製位置より試料の端部に近くに設定し、遮蔽材に遮蔽されない試料の突き出し部が狭くなるようにしておく。制御演算装置20は試料6の突き出し部の切削が進行するのに合わせて、ピエゾモータ22により試料ホルダ7を駆動し、試料を矢印方向に移動させる。遮蔽材12の端縁部が断面作製位置に到達したら移動を停止させ、その状態でイオンビーム照射を継続し仕上げ加工を行なう。
【選択図】図1
Description
(1)請求項1に記載の発明は、試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製するための試料断面作製装置であって、真空チャンバに取り付けられ、前記試料に前記イオンビームを照射するためのイオンビーム照射手段と、前記試料と前記遮蔽材の端縁部との相対位置を変化させる相対位置移動手段と、前記相対位置移動手段を制御する相対位置制御手段とを備え、前記相対位置制御手段は、前記遮蔽材の端縁部が前記試料の断面作製位置に配置される基準位置の情報を記憶すると共に、試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が前記遮蔽材により遮蔽される状態で前記イオンビームの照射が開始されると、前記記憶した基準位置の情報に基づき、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分の切削が進行するにつれて前記遮蔽材の端縁部が前記基準位置に向けて近づくように前記遮蔽材を移動させ、前記遮蔽材の端縁部が前記基準位置に到達したら前記遮蔽材の移動を停止させるように前記相対位置移動手段を制御することを特徴とする。
(2)請求項2に記載の発明は、前記相対位置移動手段が、前記試料を載置する試料ホルダの位置を前記遮蔽材に対して移動させる試料移動手段又は前記遮蔽材の位置を前記試料に対して移動させる遮蔽材移動手段のうちの少なくとも一つを備えることを特徴とする。
(3)請求項3に記載の発明は、試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビーム照射手段からのイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製するための試料断面作製装置であって、その端縁部が前記試料の断面作製位置に設定される第1遮蔽材と、前記第1遮蔽材と前記イオンビーム照射手段との間に前記イオンビームが前記第1遮蔽材の端縁部及び前記試料の断面作製位置に照射されないように配置される第2遮蔽材であって、端縁部を有し、前記イオンビーム照射手段からのイオンビームが該端縁部を含む該第2遮蔽材及び前記試料の切削対象部分に照射される第2遮蔽材と、前記第2遮蔽材を前記イオンビームが前記第1遮蔽材の端縁部及び前記試料の断面作製位置に照射される退避位置へ移動させる第2遮蔽材位置移動手段と、を備えたことを特徴とする。
(4)請求項4に記載の発明は、請求項3記載の試料断面作製装置であって、前記第2遮蔽材位置移動手段を制御する第2遮蔽材位置制御手段を備え、該第2遮蔽材位置制御手段は、前記第1遮蔽材の端縁部が前記試料の断面作製位置に配置される基準位置の情報を記憶すると共に、前記第2遮蔽材により試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が遮蔽される状態で前記イオンビームの照射が開始されると、前記記憶した基準位置の情報に基づき、前記試料の前記第2遮蔽材に遮蔽されない部分の切削が進行するにつれて前記第2遮蔽材の端縁部が前記基準位置に向けて近づくように前記第2遮蔽材を移動させ、前記第2遮蔽材の端縁部が前記基準位置を越えて前記イオンビームが前記第1遮蔽材の端縁部及び前記第1遮蔽材に遮蔽されない部分に照射される状態となったら前記第2遮蔽材の移動を停止させるように前記第2遮蔽材位置移動手段を制御することを特徴とする。
(5)請求項5に記載の発明は、試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製する試料断面作製方法であって、
前記イオンビーム照射前に、前記試料の断面作製位置に前記遮蔽材の端縁部を配置させるための遮蔽材位置情報を記憶する工程と、前記イオンビーム照射前に、試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が前記遮蔽材により遮蔽されるように前記遮蔽材と試料との相対位置を設定する工程と、前記イオンビーム照射中に、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分の切削が進行するにつれて前記遮蔽材の端縁部と断面作製位置とが接近するように前記遮蔽材の端縁部と前記試料との相対位置を変化させる工程と、前記遮蔽材位置情報に基づき、前記試料の断面作製位置に前記遮蔽材の端縁部が配置されている状態で前記遮蔽材の端縁部と前記試料との相対位置変化を停止させ前記イオンビーム照射を行う工程と、を有することを特徴とする。
(6)請求項6に記載の発明は、試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製するための試料断面作製方法であって、前記イオンビーム照射前に、前記試料の断面作製位置に第1遮蔽材の端縁部を配置させる第1の工程と、前記イオンビーム照射前に、前記第1遮蔽材と前記イオンビーム照射手段との間に配置される第2遮蔽材によって、試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が遮蔽されるように前記第2遮蔽材と試料との相対位置を設定する第2の工程と、前記イオンビーム照射により、前記試料の前記第2遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を切削する第3の工程と、前記第3の工程の後、前記第1遮蔽材の端縁部が前記第2遮蔽材によって遮蔽されること無く前記イオンビームが前記試料の断面作製位置に照射される位置に前記第2遮蔽材を配置させイオンビーム照射を行う第4の工程と、を有することを特徴とする。
(7)請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の試料断面作製方法であって、前記第3の工程において、前記試料の前記第2遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分の切削が進行するにつれて前記切削が進行する方向に前記試料に対する前記第2遮蔽材の端縁部の位置を変化させるようにしたことを特徴とする。
図1は、本発明に係る試料作製装置100の要部を示す側面図である。試料作製装置100において、22は試料位置調節機構5をy軸方向に微小量ずつ移動させるための駆動装置、22aは駆動装置22に組み込まれたピエゾモータである。21は駆動装置22を制御するための制御装置、20はパーソナルコンピュータ等の制御演算装置である。
図2は、本発明に係る試料作製装置200の要部を示す側面図である。試料作製装置200において、24は遮蔽材32を保持する遮蔽材保持機構33をy軸方向に微小量ずつ移動させるためのピエゾモータである。23はピエゾモータ24を制御するための制御装置、20はパーソナルコンピュータ等の制御演算装置である。
図3は、本発明に係る試料作製装置300の要部を示す側面図である。試料作製装置300は、遮蔽材12(第1遮蔽材)と遮蔽材32(第2遮蔽材)が別体で構成され、二重構造となっているところに特徴がある。24は遮蔽材32を保持する遮蔽材保持機構33をy軸方向に微小量ずつ移動させるためのピエゾモータである。23はピエゾモータ24を制御するための制御装置、20はパーソナルコンピュータ等の制御演算装置である。
上記操作を行なう間、遮蔽材32の端縁部は遮蔽材12の端縁部が光学顕微鏡15による観察を妨げない適当な位置T1までずらしておく。
Oi…イオンビーム照射軸 OL…光軸 1…真空チャンバ
2…イオン銃 3…試料ステージ引出機構 4…試料ステージ
5…試料位置調節機構 6…試料 7…試料ホルダ
10…遮蔽材位置調節機構 11…遮蔽材傾倒機構
12、32…遮蔽材 13、33…遮蔽材保持機構
14…光学顕微鏡傾倒機構 15…光学顕微鏡
16…光学顕微鏡位置調節機構 17…排気装置 18…加工室
20…制御演算装置 21,23…ピエゾモータ制御装置
22,24…ピエゾモータ
Claims (7)
- 試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製するための試料断面作製装置であって、
真空チャンバに取り付けられ、前記試料に前記イオンビームを照射するためのイオンビーム照射手段と、
前記試料と前記遮蔽材の端縁部との相対位置を変化させる相対位置移動手段と、
前記相対位置移動手段を制御する相対位置制御手段とを備え、
前記相対位置制御手段は、前記遮蔽材の端縁部が前記試料の断面作製位置に配置される基準位置の情報を記憶すると共に、試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が前記遮蔽材により遮蔽される状態で前記イオンビームの照射が開始されると、前記記憶した基準位置の情報に基づき、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分の切削が進行するにつれて前記遮蔽材の端縁部が前記基準位置に向けて近づくように前記遮蔽材を移動させ、前記遮蔽材の端縁部が前記基準位置に到達したら前記遮蔽材の移動を停止させるように前記相対位置移動手段を制御する
ことを特徴とする試料断面作製装置。 - 前記相対位置移動手段が、前記試料を載置する試料ホルダの位置を前記遮蔽材に対して移動させる試料移動手段又は前記遮蔽材の位置を前記試料に対して移動させる遮蔽材移動手段のうちの少なくとも一つを備えることを特徴とする請求項1記載の試料断面作製装置。
- 試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビーム照射手段からのイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製するための試料断面作製装置であって、
その端縁部が前記試料の断面作製位置に設定される第1遮蔽材と、
前記第1遮蔽材と前記イオンビーム照射手段との間に前記イオンビームが前記第1遮蔽材の端縁部及び前記試料の断面作製位置に照射されないように配置される第2遮蔽材であって、端縁部を有し、前記イオンビーム照射手段からのイオンビームが該端縁部を含む該第2遮蔽材及び前記試料の切削対象部分に照射される第2遮蔽材と、
前記第2遮蔽材を前記イオンビームが前記第1遮蔽材の端縁部及び前記試料の断面作製位置に照射される退避位置へ移動させる第2遮蔽材位置移動手段と、
を備えたことを特徴とする試料断面作製装置。 - 前記第2遮蔽材位置移動手段を制御する第2遮蔽材位置制御手段を備え、該第2遮蔽材位置制御手段は、前記第1遮蔽材の端縁部が前記試料の断面作製位置に配置される基準位置の情報を記憶すると共に、前記第2遮蔽材により試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が遮蔽される状態で前記イオンビームの照射が開始されると、前記記憶した基準位置の情報に基づき、前記試料の前記第2遮蔽材に遮蔽されない部分の切削が進行するにつれて前記第2遮蔽材の端縁部が前記基準位置に向けて近づくように前記第2遮蔽材を移動させ、前記第2遮蔽材の端縁部が前記基準位置を越えて前記イオンビームが前記第1遮蔽材の端縁部及び前記第1遮蔽材に遮蔽されない部分に照射される状態となったら前記第2遮蔽材の移動を停止させるように前記第2遮蔽材位置移動手段を制御する
ことを特徴とする請求項3記載の試料断面作製装置。 - 試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製する試料断面作製方法であって、
前記イオンビーム照射前に、前記試料の断面作製位置に前記遮蔽材の端縁部を配置させるための遮蔽材位置情報を記憶する工程と、
前記イオンビーム照射前に、試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が前記遮蔽材により遮蔽されるように前記遮蔽材と試料との相対位置を設定する工程と、
前記イオンビーム照射中に、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分の切削が進行するにつれて前記遮蔽材の端縁部と断面作製位置とが接近するように前記遮蔽材の端縁部と前記試料との相対位置を変化させる工程と、
前記遮蔽材位置情報に基づき、前記試料の断面作製位置に前記遮蔽材の端縁部が配置されている状態で前記遮蔽材の端縁部と前記試料との相対位置変化を停止させ前記イオンビーム照射を行う工程と
を有することを特徴とする試料断面作製方法。 - 試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を前記イオンビームによって切削し、前記試料の断面を作製するための試料断面作製方法であって、
前記イオンビーム照射前に、前記試料の断面作製位置に第1遮蔽材の端縁部を配置させる第1の工程と、
前記イオンビーム照射前に、前記第1遮蔽材と前記イオンビーム照射手段との間に配置される第2遮蔽材によって、試料の前記断面作成位置及び前記切削対象部分が遮蔽されるように前記第2遮蔽材と試料との相対位置を設定する第2の工程と、
前記イオンビーム照射により、前記試料の前記第2遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分を切削する第3の工程と、
前記第3の工程の後、前記第1遮蔽材の端縁部が前記第2遮蔽材によって遮蔽されること無く前記イオンビームが前記試料の断面作製位置に照射される位置に前記第2遮蔽材を配置させイオンビーム照射を行う第4の工程と、
を有することを特徴とする試料断面作製方法。 - 前記第3の工程において、前記試料の前記第2遮蔽材に遮蔽されない切削対象部分の切削が進行するにつれて前記切削が進行する方向に前記試料に対する前記第2遮蔽材の端縁部の位置を変化させるようにしたことを特徴とする請求項6記載の試料断面作製方法。
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