JP2010229089A - ハライド化合物の製造方法 - Google Patents
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- -1 halide compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 262
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 31
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 25
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 145
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 80
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 31
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 13
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003277 amino group Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 3
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 229910000095 alkaline earth hydride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 43
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001981 tert-butyldimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([H])(C([H])([H])[H])[*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- ORLBRHVQWRNPHM-UHFFFAOYSA-N (3-tert-butyl-5-methyl-2-prop-2-enoxyphenyl)-chloro-diethylsilane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)C1=CC(C)=CC(C(C)(C)C)=C1OCC=C ORLBRHVQWRNPHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002306 tributylsilyl group Chemical group C(CCC)[Si](CCCC)(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 2
- VLZTVVBUKKSSBK-UHFFFAOYSA-N (3-tert-butyl-2-methoxy-5-methylphenyl)-chloro-diethylsilane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)C1=CC(C)=CC(C(C)(C)C)=C1OC VLZTVVBUKKSSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOSWYFWYWSDENR-UHFFFAOYSA-N (3-tert-butyl-2-methoxyphenyl)-chloro-dimethylsilane Chemical compound COC1=C(C(C)(C)C)C=CC=C1[Si](C)(C)Cl OOSWYFWYWSDENR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLSIJWUDZDVIDP-UHFFFAOYSA-N (3-tert-butyl-5-methyl-2-prop-2-enoxyphenyl)-chloro-dimethylsilane Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(OCC=C)C([Si](C)(C)Cl)=C1 SLSIJWUDZDVIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTDWNQCHQQXPNK-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxy-3,5-dimethylbenzene Chemical compound COC1=C(C)C=C(C)C=C1Br XTDWNQCHQQXPNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIUOSKXGNEORM-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxy-3-methylbenzene Chemical compound COC1=C(C)C=CC=C1Br VUIUOSKXGNEORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMYVECCGQUCNMZ-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxy-3-propan-2-ylbenzene Chemical compound COC1=C(Br)C=CC=C1C(C)C RMYVECCGQUCNMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTDQSWDEWGSAMN-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC=C1Br HTDQSWDEWGSAMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFCFOFFQECJGAQ-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3-tert-butyl-2-methoxybenzene Chemical compound COC1=C(Br)C=CC=C1C(C)(C)C PFCFOFFQECJGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005810 2,5-xylyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C(*)C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006022 2-methyl-2-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRFXDPWAPUDAF-UHFFFAOYSA-N BrC1=C(C(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC.BrC1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)OC Chemical compound BrC1=C(C(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC.BrC1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)OC JJRFXDPWAPUDAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L Calcium iodide Chemical compound [Ca+2].[I-].[I-] UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KHTXHSQPXGDOSR-UHFFFAOYSA-N Cl[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)OC Chemical compound Cl[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)OC KHTXHSQPXGDOSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIKKSNOSLADWQW-UHFFFAOYSA-N Cl[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)OC Chemical compound Cl[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)OC CIKKSNOSLADWQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRPMRNJDFBUAMO-UHFFFAOYSA-N Cl[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)OC Chemical compound Cl[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)OC MRPMRNJDFBUAMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQNFCWCAINRDSS-UHFFFAOYSA-N Cl[Si](CC)(CC)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)OC Chemical compound Cl[Si](CC)(CC)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)OC ZQNFCWCAINRDSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWGISMCTZDJXMW-UHFFFAOYSA-N Cl[Si](CC)(CC)C1=C(C=CC=C1)OC Chemical compound Cl[Si](CC)(CC)C1=C(C=CC=C1)OC OWGISMCTZDJXMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005998 bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001622 calcium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001640 calcium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940046413 calcium iodide Drugs 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JDNBWIZGOUSEQO-UHFFFAOYSA-N chloro-(2-methoxyphenyl)-dimethylsilane Chemical compound COC1=CC=CC=C1[Si](C)(C)Cl JDNBWIZGOUSEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N dibromo(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Br)Br LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 125000006003 dichloroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 125000006001 difluoroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003784 fluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- ARNWQMJQALNBBV-UHFFFAOYSA-N lithium carbide Chemical compound [Li+].[Li+].[C-]#[C-] ARNWQMJQALNBBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical compound [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDDOQHLJFOUQMW-UHFFFAOYSA-N lithium;ethynyl(trimethyl)silane Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)C#[C-] WDDOQHLJFOUQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVWLUDFGXDFFON-UHFFFAOYSA-N lithium;methanidyl(trimethyl)silane Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[CH2-] KVWLUDFGXDFFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCPPTNDHEILJHD-UHFFFAOYSA-N lithium;prop-1-ene Chemical compound [Li+].[CH2-]C=C VCPPTNDHEILJHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001641 magnesium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 125000005484 neopentoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 239000010451 perlite Substances 0.000 description 1
- 235000019362 perlite Nutrition 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006337 tetrafluoro ethyl group Chemical group 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000006000 trichloroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 125000004205 trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PGOLTJPQCISRTO-UHFFFAOYSA-N vinyllithium Chemical compound [Li]C=C PGOLTJPQCISRTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
【課題】製造時間が短縮されたより効率的なハライド化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】溶媒中、ハロゲン化アリール化合物と塩基とを反応させて得られた生成物と、ジハライド化合物とを反応させて、ハライド化合物（１）と塩とを含む反応溶液を得る工程（工程１）、及び工程１で得られた反応溶液を加熱し、該塩を析出させ、ハライド化合物（１）と該塩とを分離する工程（工程２）を含むハライド化合物（１）の製造方法。
（式中、Ａは第１６族の原子を示し、Ｅは第１４族の原子を示し、Ｒ１〜Ｒ６は、水素原子、アルキル基等を示し、Ｒ７は炭化水素基等を示し、Ｇ１はハロゲン原子を示す。）
【選択図】なし
【解決手段】溶媒中、ハロゲン化アリール化合物と塩基とを反応させて得られた生成物と、ジハライド化合物とを反応させて、ハライド化合物（１）と塩とを含む反応溶液を得る工程（工程１）、及び工程１で得られた反応溶液を加熱し、該塩を析出させ、ハライド化合物（１）と該塩とを分離する工程（工程２）を含むハライド化合物（１）の製造方法。
（式中、Ａは第１６族の原子を示し、Ｅは第１４族の原子を示し、Ｒ１〜Ｒ６は、水素原子、アルキル基等を示し、Ｒ７は炭化水素基等を示し、Ｇ１はハロゲン原子を示す。）
【選択図】なし
Description
本発明は、製造時間が短縮されたより効率的なハライド化合物の製造方法に関するものである。
（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジメチルシラン等のハライド化合物は、遷移金属錯体の配位子の中間体として有用な化合物であり、その製造方法としては、例えば、特許文献１に、２−アリロキシ−１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルベンゼンと、ｎ−ブチルリチウムとの生成物と、ジクロロジメチルシランとを反応させて得られた反応混合物を濃縮して得た残渣をトルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒などの疎水性溶媒に溶解し、塩を濾別したのち溶媒留去することによりハライド化合物と塩とを分離する工程を含む製造方法が記載されている。
しかしながら、特許文献１に記載の製造方法では、ハライド化合物と塩との濾別に時間がかかることから、ハライド化合物の製造もまた時間を要するため、製造時間が短縮されたより効率的なハライド化合物の製造方法が求められていた。
かかる状況において本発明が解決しようとする課題、即ち本発明の目的は、製造時間が短縮されたより効率的なハライド化合物の製造方法を提供することにある。
かかる状況において本発明が解決しようとする課題、即ち本発明の目的は、製造時間が短縮されたより効率的なハライド化合物の製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記の目的を達成するために、ハライド化合物の製造方法について鋭意研究を続けてきた。その結果、本発明が上記課題を解決できることを見い出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、溶媒中、下記一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物と、塩基とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（３）で示されるジハライド化合物とを反応させて、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、塩とを含む反応溶液を得る工程（工程１）、及び工程１で得られた反応溶液を加熱することにより該塩を析出させ、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、該塩とを分離する工程（工程２）、を含む下記一般式（１）で示されるハライド化合物の製造方法に係るものである。
（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｅは元素の周期律表の第１４族の原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ７は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を示し、Ｇ１はハロゲン原子を示す。）
（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ７は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を示し、Ｇ２はハロゲン原子を示す。）
（式中、Ｅは元素の周期律表の第１４族の原子を示し、Ｒ５及びＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ５及びＲ６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ５及びＲ６は任意に結合して環を形成していてもよい。）
（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｅは元素の周期律表の第１４族の原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ７は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を示し、Ｇ１はハロゲン原子を示す。）
（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ７は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を示し、Ｇ２はハロゲン原子を示す。）
（式中、Ｅは元素の周期律表の第１４族の原子を示し、Ｒ５及びＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ５及びＲ６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ５及びＲ６は任意に結合して環を形成していてもよい。）
本発明によれば、ハライド化合物の製造時間を短縮することができる。
本発明の下記一般式（１）で示されるハライド化合物の製造方法は、溶媒中、下記一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物と、塩基とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（３）で示されるジハライド化合物とを反応させて、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、塩とを含む反応溶液を得る工程（以下、「工程１」ということがある。）、及び工程１で得られた反応溶液を加熱することにより該塩を析出させ、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、該塩とを分離する工程（以下、「工程２」ということがある。）、を含むものである。
（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｅは元素の周期律表の第１４族の原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ７は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を示し、Ｇ１、Ｇ２及びＧ３はそれぞれ独立にハロゲン原子を示す。）
１）工程１
本発明の上記一般式（１）で示されるハライド化合物の製造方法における工程１は、溶媒中、下記一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物と、塩基とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（３）で示されるジハライド化合物とを反応させて、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、塩とを含む反応溶液を得る工程である。
本発明の上記一般式（１）で示されるハライド化合物の製造方法における工程１は、溶媒中、下記一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物と、塩基とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（３）で示されるジハライド化合物とを反応させて、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、塩とを含む反応溶液を得る工程である。
Ａにおける元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ１９８５年）第１６族の原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子が挙げられる。元素の周期律表第１６族の原子として好ましくは、酸素原子又は硫黄原子であり、より好ましくは酸素原子である。
Ｅにおける元素の周期律表第１４族の原子の原子としては、例えば、炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、錫原子が挙げられる。元素の周期律表第１４族の原子として好ましくは、炭素原子、ケイ素原子又はゲルマニウム原子であり、より好ましくはケイ素原子である。
Ｇ1〜Ｇ３におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。Ｇ1及びＧ３として好ましくは、塩素原子又は臭素原子であり、より好ましくは塩素原子である。Ｇ2として好ましくは、塩素原子又は臭素原子であり、より好ましくは臭素原子である。
Ｒ1〜Ｒ６におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。ハロゲン原子として好ましくは、塩素原子又は臭素原子であり、より好ましくは塩素原子である。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基の炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、イソアミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはイソアミル基である。
炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基等があげられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基等が挙げられる。アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子で置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基等が挙げられる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基等が挙げられ、好ましくはベンジル基である。
炭素原子数７〜２０のアラルキル基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の炭素原子数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
炭素原子数６〜２０のアリール基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基としては、前記に例示したものと同じものを例示することができる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基としては、例えば、１つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された１置換シリル基、２つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換シリル基、３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基等が挙げられる。１つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された１置換シリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基等が挙げられる。２つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換シリル基としては、例えば、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基等が挙げられる。３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基として、好ましくは３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基であり、より好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基またはトリフェニルシリル基である。
炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の炭素原子数１〜２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基等が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基である。
炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基等が挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。
炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基等が挙げられる。
炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｒ1〜Ｒ６における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基とは、２つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基である。置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、前記置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基として例示したものと同じものを例示することができる。炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基である。
炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
また、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。
Ｒ１として好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基または置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基であり、より好ましくは、水素原子、メチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソアミル基、アダマンチル基、ベンジル基、フェニル基、２，６−ジメチルフェニル基または２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基である。
Ｒ５及びＲ６として好ましくは、ハロゲン原子または置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルキル基であり、より好ましくは、エチル基である。
Ｒ７における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、前記Ｒ1〜Ｒ６のところで例示したものと同じものを例示することができる。
置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基として、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシメチル基またはメトキシエトキシメチル基である。
置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基として、好ましくは、ベンジル基、（４−メチルフェニル）メチル基または（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基である。
置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基として、好ましくは、ベンジル基、（４−メチルフェニル）メチル基または（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基である。
置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基の炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、ホモアリル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基等が挙げられる。
炭素原子数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
ハロゲン原子で置換された炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、２−クロロ−２−プロペニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子で置換された炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、２−クロロ−２−プロペニル基等が挙げられる。
Ｒ７における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基とは、３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基である。置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、前記置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基として例示したものと同じものを例示することができる。炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基とは、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられ、好ましくは、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、またはトリフェニルシリル基である。
Ｒ７として好ましくは、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基であり、より好ましくは、メチル基またはアリル基である。
一般式（１）で示されるハライド化合物、一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物および一般式（３）で示されるジハライド化合物としては、特開平９−８７３１３号公報に記載された具体的な化合物を例示することができる。
一般式（１）で示されるハライド化合物として、好ましくは、クロロ（２−メトキシフェニル）ジメチルシラン、クロロ（２−メトキシフェニル）ジエチルシラン、クロロ（２−メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシフェニル）ジメチルシラン、クロロ（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシフェニル）ジエチルシラン、クロロ（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジメチルシラン、クロロ（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジエチルシラン、クロロ（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２−アリロキシフェニル）ジメチルシラン、クロロ（２−アリロキシフェニル）ジエチルシラン、クロロ（２−アリロキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジメチルシラン、クロロ（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジエチルシラン、クロロ（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロ（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ジメチルシラン、クロロ（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ジエチルシランまたはクロロ（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ジフェニルシランである。
一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物として、好ましくは、１−ブロモ−２−メトキシベンゼン、１−ブロモ−３−メチル−２−メトキシベンゼン、１−ブロモ−２−メトキシ−３−イソプロピルベンゼン、１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシベンゼン、１−ブロモ−３,５−ジメチル−２−メトキシベンゼン、１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−メトキシベンゼン、１−ブロモ−３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシベンゼン、２−アリロキシ−１−ブロモベンゼン、２−アリロキシ−１−ブロモ−３−メチルベンゼン、２−アリロキシ−１−ブロモ−３−イソプロピルベンゼン、２−アリロキシ−１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、２−アリロキシ−１−ブロモ−３,５−ジメチルベンゼン、２−アリロキシ−１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルベンゼンまたは２−アリロキシ−１−ブロモ−３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンである。
一般式（３）で示されるジハライド化合物として、好ましくは、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジフェニルシラン、ジクロロジエチルシランまたはジブロモジメチルシランである。その使用量は一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物に対して通常０．５〜５０倍モルであり、好ましくは０．９〜５倍モルの範囲である。
塩基としては、例えば、有機アルカリ金属化合物、アルカリ金属水素化物、アルカリ土類金属水素化物、金属マグネシウム等が挙げられる。有機アルカリ金属化合物としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム、アリルリチウムなどが挙げられる。アルカリ金属水素化物としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウムアルミニウム等が挙げられる。アルカリ土類金属水素化物としては、例えば、水素化カルシウム等が挙げられる。その使用量は一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物に対して通常０．５〜５モル倍であり、好ましくは０．９〜３モル倍の範囲である。
また、塩基として金属マグネシウムを用いる場合、開始剤を併用することによって、反応を速やかに開始することができる。かかる開始剤としては、例えば、分子状ハロゲン、アルキルモノハロゲン化物、アルキルジハロゲン化物等が挙げられる。分子状ハロゲンとしては、例えば、臭素、ヨウ素などが挙げられる。アルキルモノハロゲン化物としては、例えば、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル等が挙げられる。アルキルジハロゲン化物としては、例えば、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジブロモエタンなどが挙げられる。開始剤の使用量は金属マグネシウムに対して通常０．００００１〜０．１モル倍の範囲である。
溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。芳香族炭化水素系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。脂肪族炭化水素系溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、例えば、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。アミド系溶媒としては、例えば、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルミアミド等が挙げられる。ニトリル系溶媒としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等が挙げられる。ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。ハロゲン化炭化水素系溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。かかる溶媒として好ましくは芳香族炭化水素であり、より好ましくはトルエンまたはキシレンである。かかる溶媒はそれぞれ単独または２種以上を混合して用いられ、その使用量は一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは５〜３０重量倍の範囲である。
反応温度は、通常−１００℃〜３５℃であり、好ましくは−７０℃〜３０℃であり、より好ましくは−３０℃〜３０℃である。
反応時間は、一般的に目的とするハライド化合物や反応温度、濃度により適宜決定されるが、通常１分〜５０時間であり、好ましくは３０分〜２４時間であり、より好ましくは３０分〜６時間である。
工程１における反応は、溶媒中、一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物と、塩基とを反応させて得られた生成物（以下、「アニオン化合物」と記載することがある。）と、一般式（３）で示されるジハライド化合物とを反応させることによって行われる。アニオン化合物と、一般式（３）で示されるジハライド化合物とを反応させる方法は、例えば、一般式（３）で示されるジハライド化合物に、アニオン化合物を添加する方法、アニオン化合物に、一般式（３）で示されるジハライド化合物を添加する方法が挙げられ、収率よく一般式（１）で示されるハライド化合物を製造し得る観点から、好ましくは、一般式（３）で示されるジハライド化合物に、アニオン化合物を添加する方法である。
２）工程２
本発明の上記一般式（１）で示されるハライド化合物の製造方法における工程２は、工程１で得られた反応溶液を加熱することにより該塩を析出させ、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、該塩とを分離する工程である。
本発明の上記一般式（１）で示されるハライド化合物の製造方法における工程２は、工程１で得られた反応溶液を加熱することにより該塩を析出させ、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、該塩とを分離する工程である。
反応溶液を加熱する温度は、好ましくは、４０℃以上溶媒の沸点以下であり、より好ましくは、５０℃以上溶媒の沸点以下であり、更に好ましくは、６０℃以上溶媒の沸点以下である。溶媒にトルエンまたはキシレンを使用する場合、好ましくは、４０℃〜１１０℃であり、より好ましくは５０℃〜１１０℃である。
加熱する時間は、一般的に目的とするハライド化合物や加熱する温度、濃度により適宜決定されるが、通常１分〜５０時間であり、好ましくは３０分〜２４時間であり、より好ましくは３０分〜８時間である。
得られた反応溶液を加熱することにより析出する塩とは、前記の塩基とジハライド化合物の組合せによって異なるが、ハロゲン化アルカリ金属塩またはハロゲン化アルカリ土類金属塩等が挙げられる。ハロゲン化アルカリ金属塩としては、例えば、フッ化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム等が挙げられる。ハロゲン化アルカリ土類金属塩としては、例えば、フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、フッ化カルシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム等が挙げられる。
塩を分離する方法としては、例えばろ過、沈降分離、遠心分離等が挙げられるが、好ましくはろ過である。
ろ過する際は、ろ過助剤を用いてろ過するのが好ましい。このろ過助剤はろ過器に敷き詰めて使用したり、反応溶液に混合させて用いたりする事が出来る。ろ過助剤としては、珪藻土やパーライトもしくはこれらと塩を混合／焼成したもの（セライト（登録商標）、ラヂオライト（登録商標）など）などを用いる事が出来る。その使用量は一般式（３）で示されるハロゲン化アリール化合物または一般式（５）で示されるシクロペンタジエン化合物に対して通常０．０５〜５０重量倍、好ましくは０．１〜３０重量倍の範囲である。
本発明を以下の実施例によって具体的に説明する。
［実施例１］
（１）（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシランの合成
４−アリロキシ−３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルトルエン４５．０ｇをトルエン４５．０ｇに溶解させる。この溶液を別途調製し−１５℃に冷却したｎ−ブチルリチウム１．６３ｍｏｌ／Ｌ（ｎ−ヘキサン溶液）１２６．７ｍＬとトルエン１９８．０ｇの混合液に５５分かけて滴下した。得られた反応液（Ａ）を−１５℃で２時間攪拌した後、別途調整したジクロロジエチルシラン４９．３ｇとトルエン１９８．０ｇの混合液に２０℃で１４５分かけて滴下し、その後２０℃で２時間攪拌し、反応液（Ｂ）を得た。
（１）（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシランの合成
４−アリロキシ−３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルトルエン４５．０ｇをトルエン４５．０ｇに溶解させる。この溶液を別途調製し−１５℃に冷却したｎ−ブチルリチウム１．６３ｍｏｌ／Ｌ（ｎ−ヘキサン溶液）１２６．７ｍＬとトルエン１９８．０ｇの混合液に５５分かけて滴下した。得られた反応液（Ａ）を−１５℃で２時間攪拌した後、別途調整したジクロロジエチルシラン４９．３ｇとトルエン１９８．０ｇの混合液に２０℃で１４５分かけて滴下し、その後２０℃で２時間攪拌し、反応液（Ｂ）を得た。
（２）ろ過
実施例１（１）で得られた反応液（Ｂ）６２８．０ｇのうちの２５８．３ｇを別のフラスコに移し、ラヂオライト＃９００（昭和化学工業(株)製）８．４５ｇと共に攪拌しながら、１００℃で４時間保温した。このスラリーを４０℃まで冷却し、ラヂオライト＃９００を厚み１．５ｃｍに敷き詰めたグラスフィルターを用いて４０℃でろ過した所、５分４２秒でろ過出来た。
ろ過速度：４５．３ｇ／分
得られたろ液を減圧濃縮し低沸点成分を除去する事で、濃黄色オイル２５．７５ｇを得た。純度５９．９％、収率７２．７％。
実施例１（１）で得られた反応液（Ｂ）６２８．０ｇのうちの２５８．３ｇを別のフラスコに移し、ラヂオライト＃９００（昭和化学工業(株)製）８．４５ｇと共に攪拌しながら、１００℃で４時間保温した。このスラリーを４０℃まで冷却し、ラヂオライト＃９００を厚み１．５ｃｍに敷き詰めたグラスフィルターを用いて４０℃でろ過した所、５分４２秒でろ過出来た。
ろ過速度：４５．３ｇ／分
得られたろ液を減圧濃縮し低沸点成分を除去する事で、濃黄色オイル２５．７５ｇを得た。純度５９．９％、収率７２．７％。
［比較例１］
（１）ろ過
実施例１（１）で得られた反応液（Ｂ）６２８．０ｇのうちの３１４．０ｇをラヂオライト＃９００を厚み１．５ｃｍに敷き詰めた実施例１と同じグラスフィルターを用いて４０℃でろ過した所、１２時間５７分でろ過出来た。
ろ過速度：０．４０ｇ／分
得られたろ液を減圧濃縮し低沸点成分を除去する事で、濃黄色オイル３１．１８ｇを得た。純度５９．４％、収率７１．８％。
（１）ろ過
実施例１（１）で得られた反応液（Ｂ）６２８．０ｇのうちの３１４．０ｇをラヂオライト＃９００を厚み１．５ｃｍに敷き詰めた実施例１と同じグラスフィルターを用いて４０℃でろ過した所、１２時間５７分でろ過出来た。
ろ過速度：０．４０ｇ／分
得られたろ液を減圧濃縮し低沸点成分を除去する事で、濃黄色オイル３１．１８ｇを得た。純度５９．４％、収率７１．８％。
［比較例２］
（１）（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシランの合成
４−アリロキシ−３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルトルエン２２．５ｇをトルエン２２５．０ｇに溶解させる。この溶液を−５０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム１．６１ｍｏｌ／Ｌ（ｎ−ヘキサン溶液）６４．２ｍＬを４５分かけて滴下した。得られた反応液を−１５℃で１．５時間攪拌した後、ジクロロジエチルシラン２５．０ｇを−５０℃で添加し、その後５０℃で１時間攪拌し、反応液（Ｃ）を得た。
（２）ろ過
比較例２（１）で得られた反応液（Ｃ）から溶媒を減圧留去した。これにn−ヘキサン１７１．４ｇを加えスラリーとしたものをラヂオライト＃９００を厚み１．５ｃｍに敷き詰めた実施例１と同じグラスフィルターを用いて３５℃でろ過した所、７時間２０分でろ過できた。
ろ過速度：０．４９ｇ／分
得られたろ液を減圧濃縮し低沸点成分を除去する事で、濃黄色オイル１６．４４ｇを得た。純度７８．１％、収率４９．７％。
（１）（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）クロロジエチルシランの合成
４−アリロキシ−３−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルトルエン２２．５ｇをトルエン２２５．０ｇに溶解させる。この溶液を−５０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム１．６１ｍｏｌ／Ｌ（ｎ−ヘキサン溶液）６４．２ｍＬを４５分かけて滴下した。得られた反応液を−１５℃で１．５時間攪拌した後、ジクロロジエチルシラン２５．０ｇを−５０℃で添加し、その後５０℃で１時間攪拌し、反応液（Ｃ）を得た。
（２）ろ過
比較例２（１）で得られた反応液（Ｃ）から溶媒を減圧留去した。これにn−ヘキサン１７１．４ｇを加えスラリーとしたものをラヂオライト＃９００を厚み１．５ｃｍに敷き詰めた実施例１と同じグラスフィルターを用いて３５℃でろ過した所、７時間２０分でろ過できた。
ろ過速度：０．４９ｇ／分
得られたろ液を減圧濃縮し低沸点成分を除去する事で、濃黄色オイル１６．４４ｇを得た。純度７８．１％、収率４９．７％。
Claims (10)
- 溶媒中、下記一般式（２）で示されるハロゲン化アリール化合物と、塩基とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（３）で示されるジハライド化合物とを反応させて、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、塩とを含む反応溶液を得る工程（工程１）、及び工程１で得られた反応溶液を加熱することにより該塩を析出させ、下記一般式（１）で示されるハライド化合物と、該塩とを分離する工程（工程２）、を含む下記一般式（１）で示されるハライド化合物の製造方法。
（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｅは元素の周期律表の第１４族の原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ７は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を示し、Ｇ１はハロゲン原子を示す。）
（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ７は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を示し、Ｇ２はハロゲン原子を示す。）
（式中、Ｅは元素の周期律表の第１４族の原子を示し、Ｒ５及びＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を示し、Ｒ５及びＲ６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ５及びＲ６は任意に結合して環を形成していてもよい。） - Ａが酸素原子である請求項１に記載のハライド化合物の製造方法。
- Ｅがケイ素原子である請求項１または２に記載のハライド化合物の製造方法。
- Ｒ５が炭素原子数２〜２０のアルキル基であり、Ｒ６が炭素原子数２〜２０のアルキル基である請求項１〜３のいずれかに記載のハライド化合物の製造方法。
- Ｇ１が塩素原子である請求項１〜４のいずれかに記載のハライド化合物の製造方法。
- 塩基が、有機アルカリ金属化合物、アルカリ金属水素化物、アルカリ土類水素化物及び金属マグネシウムからなる郡から選ばれる少なくとも１種であり、塩がハロゲン化アルカリ金属塩またはハロゲン化アルカリ土類金属塩ある請求項１〜５のいずれかに記載のハライド化合物の製造方法。
- 反応溶液を加熱する温度が４０℃以上溶媒の沸点以下である請求項１〜６のいずれかに記載のハライド化合物の製造方法。
- 溶媒が芳香族炭化水素である請求項１〜７のいずれかに記載のハライド化合物の製造方法。
- 分離がろ過により、ハライド化合物と、無機塩とを分離する請求項１〜８のいずれかに記載のハライド化合物の製造方法。
- ろ過時に、ろ過助剤を用いる請求項９に記載のハライド化合物の製造方法。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN114539019A (zh) * | 2022-03-01 | 2022-05-27 | 苏州大学张家港工业技术研究院 | 一种基于卤盐替代卤素单质的光诱导连续合成卤代化合物的方法 |
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2009
- 2009-03-27 JP JP2009078930A patent/JP2010229089A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114539019A (zh) * | 2022-03-01 | 2022-05-27 | 苏州大学张家港工业技术研究院 | 一种基于卤盐替代卤素单质的光诱导连续合成卤代化合物的方法 |
| CN114539019B (zh) * | 2022-03-01 | 2023-11-28 | 苏州大学张家港工业技术研究院 | 一种基于卤盐替代卤素单质的光诱导连续合成卤代化合物的方法 |
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