JP2010223903A - 透過波面測定方法、屈折率分布測定方法、光学素子の製造方法、及び透過波面測定装置 - Google Patents
透過波面測定方法、屈折率分布測定方法、光学素子の製造方法、及び透過波面測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010223903A JP2010223903A JP2009074273A JP2009074273A JP2010223903A JP 2010223903 A JP2010223903 A JP 2010223903A JP 2009074273 A JP2009074273 A JP 2009074273A JP 2009074273 A JP2009074273 A JP 2009074273A JP 2010223903 A JP2010223903 A JP 2010223903A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transmitted wavefront
- transmitted
- light
- diffraction grating
- interference light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0271—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by using interferometric methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0228—Testing optical properties by measuring refractive power
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0257—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】
透過波面測定方法は、測定対象物に光源から光を照射し、前記測定対象物を透過しさらに前記測定対象物の後方に配置された回折格子を透過した干渉光を、前記回折格子の後方に所定の距離を空けて配置された受光部で受光することにより前記干渉光の強度分布を測定する工程と、前記干渉光の強度分布をフーリエ変換することにより周波数分布を算出する工程と、前記周波数分布における1次周波数スペクトルに基づいて前記測定対象物の透過波面を求める工程とを有し、前記透過波面を求める工程は、前記回折格子の格子周波数を基準にして前記1次周波数スペクトルを逆フーリエ変換することにより前記干渉光の複素振幅を算出する工程と、前記干渉光の複素振幅に基づいて前記測定対象物の透過波面を求める工程とを有する。
【選択図】図2
Description
101、102 レーザ光
120 被検物
130 回折格子
140 CCD
Claims (6)
- 測定対象物に光源から光を照射し、前記測定対象物を透過しさらに前記測定対象物の後方に配置された回折格子を透過した干渉光を、前記回折格子の後方に所定の距離を空けて配置された受光部で受光することにより前記干渉光の強度分布を測定する工程と、
前記干渉光の強度分布をフーリエ変換することにより周波数分布を算出する工程と、
前記周波数分布における1次周波数スペクトルに基づいて前記測定対象物の透過波面を求める工程と、を有し、
前記透過波面を求める工程は、
前記回折格子の格子周波数を基準にして前記1次周波数スペクトルを逆フーリエ変換することにより前記干渉光の複素振幅を算出する工程と、
前記干渉光の複素振幅に基づいて前記測定対象物の透過波面を求める工程と、を有することを特徴とする透過波面測定方法。 - 前記透過波面を求める工程は、前記1次周波数スペクトルと前記格子周波数との差からフォーカス成分を算出して前記測定対象物の前記透過波面を求めることを特徴とする請求項1に記載の透過波面測定方法。
- 測定対象物と屈折率が異なる第1の媒質中で前記測定対象物の第1の透過波面を測定する工程と、前記測定対象物及び前記第1の媒質と屈折率が異なる第2の媒質中で前記測定対象物の第2の透過波面を測定する工程と、
前記第1の透過波面と前記第2の透過波面とに基づいて前記測定対象物の屈折率分布を算出する工程と、を有し、
前記第1の透過波面を測定する工程及び前記第2の透過波面を測定する工程は、請求項1に記載の透過波面測定方法により測定される工程であることを特徴とする屈折率分布測定方法。 - 請求項1に記載の透過波面測定方法によって測定された光学素子の透過波面に基づいて前記光学素子を加工することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項3に記載の屈折率分布測定方法によって測定された光学素子の屈折率分布に基づいて前記光学素子を加工することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 測定対象物に光を照射する光源と、
前記測定対象物の後方に配置された回折格子と、
前記回折格子の後方に所定の距離を空けて配置され、前記回折格子を透過した干渉光の強度分布を測定するために該干渉光を受光する受光部と、
前記干渉光の強度分布をフーリエ変換することにより周波数分布を算出する周波数分布算出部と、
前記周波数分布における1次周波数スペクトルに基づいて前記測定対象物の透過波面を求める透過波面算出部と、を有し、
前記透過波面算出部は、前記回折格子の格子周波数を基準にして前記1次周波数スペクトルを逆フーリエ変換することにより前記干渉光の複素振幅を算出し、該干渉光の複素振幅に基づいて前記測定対象物の透過波面を求めることを特徴とする透過波面測定装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009074273A JP5328437B2 (ja) | 2009-03-25 | 2009-03-25 | 透過波面測定方法、屈折率分布測定方法、光学素子の製造方法、及び透過波面測定装置 |
EP10156669.3A EP2233905A3 (en) | 2009-03-25 | 2010-03-16 | Transmitted wavefront measuring method, refractive-index distribution measuring method, method of manufacturing optical element, and transmitted wavefront measuring apparatus |
US12/728,878 US8786863B2 (en) | 2009-03-25 | 2010-03-22 | Transmitted wavefront measuring method, refractive-index distribution measuring method, and transmitted wavefront measuring apparatus that calculate a frequency distribution and obtain a transmitted wavefront of the object based on a primary frequency spectrum in the frequency distribution |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009074273A JP5328437B2 (ja) | 2009-03-25 | 2009-03-25 | 透過波面測定方法、屈折率分布測定方法、光学素子の製造方法、及び透過波面測定装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010223903A true JP2010223903A (ja) | 2010-10-07 |
JP2010223903A5 JP2010223903A5 (ja) | 2012-05-17 |
JP5328437B2 JP5328437B2 (ja) | 2013-10-30 |
Family
ID=42274669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009074273A Expired - Fee Related JP5328437B2 (ja) | 2009-03-25 | 2009-03-25 | 透過波面測定方法、屈折率分布測定方法、光学素子の製造方法、及び透過波面測定装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8786863B2 (ja) |
EP (1) | EP2233905A3 (ja) |
JP (1) | JP5328437B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012145555A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Canon Inc | シアリング干渉測定装置およびその校正方法 |
JP2012145554A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Canon Inc | シアリング干渉測定装置 |
JP2013002845A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Canon Inc | 撮像装置、干渉縞解析プログラム及び干渉縞解析方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5008650B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2012-08-22 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法及び屈折率分布計測装置 |
JP4968966B2 (ja) * | 2009-12-07 | 2012-07-04 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布の計測方法および計測装置 |
JP5021054B2 (ja) | 2010-05-25 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 |
JP4895409B2 (ja) | 2010-05-25 | 2012-03-14 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 |
JP5008763B2 (ja) | 2010-12-03 | 2012-08-22 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法、屈折率分布計測装置および光学素子の製造方法 |
GB201107053D0 (en) | 2011-04-27 | 2011-06-08 | Univ Sheffield | Improvements in providing image data |
GB201201140D0 (en) | 2012-01-24 | 2012-03-07 | Phase Focus Ltd | Method and apparatus for determining object characteristics |
GB201207800D0 (en) | 2012-05-03 | 2012-06-13 | Phase Focus Ltd | Improvements in providing image data |
US8918746B1 (en) * | 2013-09-04 | 2014-12-23 | Globalfoundries Inc. | Cut mask aware contact enclosure rule for grating and cut patterning solution |
EP3315948B1 (de) * | 2016-10-26 | 2019-09-04 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur ermittlung des brechzahlprofils eines zylinderförmigen optischen gegenstandes |
JP7277101B2 (ja) * | 2018-10-11 | 2023-05-18 | キヤノン株式会社 | 収差推定方法、収差推定装置、プログラムおよび記憶媒体 |
US11788927B2 (en) | 2021-02-26 | 2023-10-17 | Heraeus Quartz North America Llc | Evaluation of preforms with non-step-index refractive-index-profile (RIP) |
CN113984222A (zh) * | 2021-10-28 | 2022-01-28 | 中山光子科学中心 | 光栅压缩器波前畸变在线测量装置及测量方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005159213A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Canon Inc | シアリング干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4265534A (en) | 1977-12-23 | 1981-05-05 | Remijan Paul W | Optical apparatus and method for producing the same |
US4542989A (en) | 1981-03-02 | 1985-09-24 | Randwal Instrument Co., Inc. | Apparatus for position encoding |
US4541697A (en) | 1981-03-03 | 1985-09-17 | Randwal Instrument Co., Inc. | Ophthalmic testing devices |
JPS5845526A (ja) | 1981-09-12 | 1983-03-16 | Canon Inc | タルボ干渉計 |
IT1155285B (it) | 1982-02-10 | 1987-01-28 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento e apparecchiatura per la determinazione del profilo d'indice di rifrazione di fibre ottiche e preforme per fibre ottiche |
JPS6170436A (ja) | 1984-09-14 | 1986-04-11 | Univ Kyoto | 円柱内屈折率分布測定方法 |
JP2678463B2 (ja) | 1988-06-16 | 1997-11-17 | 旭光学工業株式会社 | 屈折率測定方法 |
JP2678464B2 (ja) | 1988-06-27 | 1997-11-17 | 旭光学工業株式会社 | 屈折率測定方法 |
US5151752A (en) | 1988-06-16 | 1992-09-29 | Asahi Kogaku Kogyo K.K. | Method of measuring refractive indices of lens and sample liquid |
US4934818A (en) | 1989-03-24 | 1990-06-19 | American Telephone And Telegraph Company | Refractive index profiling technique |
JPH03128411A (ja) | 1989-10-13 | 1991-05-31 | Hitachi Metals Ltd | 光学的形状測定装置 |
JP2892075B2 (ja) | 1990-01-31 | 1999-05-17 | 末三 中楯 | 屈折率分布、透過波面の測定方法およびこの方法に用いる測定装置 |
US5309214A (en) | 1991-09-17 | 1994-05-03 | Olympus Optical Co., Ltd. | Method for measuring distributed dispersion of gradient-index optical elements and optical system to be used for carrying out the method |
JP3264469B2 (ja) | 1993-12-07 | 2002-03-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 光散乱媒体の屈折率分布情報の計測装置 |
JP3287517B2 (ja) | 1994-06-29 | 2002-06-04 | 富士写真光機株式会社 | 干渉縞による測定方法および装置 |
JPH08304229A (ja) | 1995-05-09 | 1996-11-22 | Ricoh Co Ltd | 光学素子の屈折率分布の測定方法および装置 |
JP3699810B2 (ja) | 1997-07-29 | 2005-09-28 | 株式会社リコー | 屈折率分布の測定方法及び装置 |
US6765661B2 (en) | 2001-03-09 | 2004-07-20 | Novartis Ag | Lens inspection |
EP1359445A3 (en) * | 2002-04-30 | 2003-12-10 | Alcatel | Inverse fourier transform method, phase characterisation method of optical components from transmission and group delay measurements as well as a system for performing the method |
SE0302676D0 (sv) | 2003-10-09 | 2003-10-09 | Neural Ab | Method and apparatus for holographic refractometry |
JP4319554B2 (ja) | 2004-01-14 | 2009-08-26 | 株式会社リコー | 屈折率分布の測定方法および測定装置 |
JP3762420B2 (ja) | 2004-12-28 | 2006-04-05 | 株式会社リコー | 屈折率分布の測定方法及び装置 |
JP4594114B2 (ja) | 2005-01-19 | 2010-12-08 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置および屈折率分布測定装置 |
JP4731951B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2011-07-27 | キヤノン株式会社 | 干渉縞の解析方法及び装置、測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
DE102005039679A1 (de) | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Galatea Ltd. | Verfahren zum Bestimmen des Wertes eines Objekts |
US7594729B2 (en) | 2007-10-31 | 2009-09-29 | Wf Systems, Llc | Wavefront sensor |
JP5008650B2 (ja) | 2008-12-25 | 2012-08-22 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法及び屈折率分布計測装置 |
JP4968966B2 (ja) | 2009-12-07 | 2012-07-04 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布の計測方法および計測装置 |
JP4895409B2 (ja) | 2010-05-25 | 2012-03-14 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 |
JP5021054B2 (ja) | 2010-05-25 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 |
JP5008763B2 (ja) | 2010-12-03 | 2012-08-22 | キヤノン株式会社 | 屈折率分布計測方法、屈折率分布計測装置および光学素子の製造方法 |
-
2009
- 2009-03-25 JP JP2009074273A patent/JP5328437B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-03-16 EP EP10156669.3A patent/EP2233905A3/en not_active Withdrawn
- 2010-03-22 US US12/728,878 patent/US8786863B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005159213A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Canon Inc | シアリング干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6013030281; M. Takeda, H. Ina, S. Kobayashi: '"Fourier-transform method of fringe-pattern analysis for computer-based topography and interferometr' Journal of the Optical Society of America Vol.72, No.1, 1982, p.156-160 * |
JPN6013030282; M. Takeda, S. Kobayashi: '"Lateral aberration measurements with a digital Talbot interferometer"' Applied Optics Vol.23, No.11, 1984, p.1760-1764 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012145555A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Canon Inc | シアリング干渉測定装置およびその校正方法 |
JP2012145554A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Canon Inc | シアリング干渉測定装置 |
JP2013002845A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Canon Inc | 撮像装置、干渉縞解析プログラム及び干渉縞解析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100245842A1 (en) | 2010-09-30 |
EP2233905A3 (en) | 2016-05-25 |
JP5328437B2 (ja) | 2013-10-30 |
US8786863B2 (en) | 2014-07-22 |
EP2233905A2 (en) | 2010-09-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5328437B2 (ja) | 透過波面測定方法、屈折率分布測定方法、光学素子の製造方法、及び透過波面測定装置 | |
JP5008650B2 (ja) | 屈折率分布計測方法及び屈折率分布計測装置 | |
JP5021054B2 (ja) | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 | |
JP5008763B2 (ja) | 屈折率分布計測方法、屈折率分布計測装置および光学素子の製造方法 | |
JP4895409B2 (ja) | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 | |
JP4968966B2 (ja) | 屈折率分布の計測方法および計測装置 | |
US9255879B2 (en) | Method of measuring refractive index distribution, method of manufacturing optical element, and measurement apparatus of refractive index distribution | |
JP6124641B2 (ja) | 波面収差計測方法、波面収差計測装置および光学素子の製造方法 | |
JP2011106975A (ja) | 屈折率分布の計測方法および計測装置 | |
JP5868142B2 (ja) | 屈折率分布測定方法および屈折率分布測定装置 | |
US9995648B2 (en) | Optical measurement system and method for measuring critical dimension of nanostructure | |
JP5575161B2 (ja) | 屈折率分布計測方法および屈折率分布計測装置 | |
JP2020517911A (ja) | スペクトル制御干渉法による曲率半径測定 | |
JP2006234389A (ja) | 光位相分布測定方法 | |
JP2009053066A (ja) | 波面測定干渉計のフォーカス調整方法、波面測定干渉計および投影光学系の製造方法 | |
JP6532347B2 (ja) | 形状計測方法および形状計測装置 | |
JP6320093B2 (ja) | 屈折率分布計測方法、屈折率分布計測装置、光学素子の製造方法、プログラム、および、記憶媒体 | |
JP6196841B2 (ja) | 透過波面計測装置及び透過波面計測方法 | |
CN113432731A (zh) | 一种光栅横向剪切干涉波前重建过程中的补偿方法 | |
JP2007303907A (ja) | 位相回復法による表面形状計測装置および表面形状計測方法 | |
JP2021060312A (ja) | 解析装置、解析方法、干渉測定システム、およびプログラム | |
JP4731314B2 (ja) | 光学部品の検査方法及び検査装置 | |
JP2011232243A (ja) | 計測装置 | |
KR20170037581A (ko) | 굴절률 분포 측정 시스템 및 이를 이용한 굴절률 분포 측정 방법 | |
Zhang et al. | In situ calibration of shear ratio for quadriwave lateral shearing interferometry |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120322 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120322 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130530 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130625 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130723 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5328437 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |