JP2011232243A - 計測装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 被検面の形状や被検光学系の透過波面を簡便かつ迅速に計測する。
【解決手段】 被検面の形状又は被検光学系の透過波面を計測する計測装置であって、光源から出射された光を参照光と被検光とに分割する分割部と、前記被検光を回折することにより分割し、当該分割された被検光を前記被検面又は前記被検光学系の瞳の複数の領域へそれぞれ出射する回折光学素子と、前記参照光と前記被検面又は前記被検光学系の反射面で反射され前記回折光学素子で再度回折された前記被検光とによって生じた互いに部分的に重なり合う複数の干渉縞を検出する検出器と、前記検出器によって検出された互いに部分的に重なり合った複数の干渉縞から、前記複数の干渉縞それぞれの情報を分離して取得し、前記取得されたそれぞれの情報から前記複数の領域それぞれにおける面形状又は透過波面を算出する処理部と、を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、被検面の形状や被検光学系の透過波面を計測する計測装置に関する。
レンズの面形状の計測に関して、種々の計測方法や計測装置が提案されている。近年、天文分野或いは露光装置におけるレンズの大口径化に伴い、大口径レンズの面形状を計測する必要性が高まりつつある。従来は、被検面の形状や被検光学系の透過波面の計測において、大口径の被検面又は被検光学系の瞳の全面を照明するために、干渉光学系を大口径化又は開口数を高くするのが一般的であった。例えば、フィゾー干渉計の場合、TSレンズがこの干渉光学系に該当する。また、特許文献1において、大口径の被検面を分割した面を計測し、分割された計測面を繋ぎ合わせる手法である所謂ステッチ法が提案されている。
特許第3162355号公報
しかしながら、干渉光学系を大口径化又は開口数を高くすることは、新規の設計製作と高額な設備投資が必要である。一方、ステッチ法においては、分割された面を、時間差をおいて計測する必要があるため計測時間が増大し、生産性を低下させる。
本発明は、被検面の形状や被検光学系の透過波面を簡便かつ迅速に計測することを目的とする。
本発明は、被検面の形状又は被検光学系の透過波面を計測する計測装置であって、光源から出射された光を参照光と被検光とに分割する分割部と、前記被検光を回折することにより分割し、当該分割された被検光を前記被検面又は前記被検光学系の瞳の複数の領域へそれぞれ出射する回折光学素子と、前記参照光と前記被検面又は前記被検光学系の反射面で反射され前記回折光学素子で再度回折された前記被検光とによって生じた互いに部分的に重なり合う複数の干渉縞を検出する検出器と、前記検出器によって検出された互いに部分的に重なり合った複数の干渉縞から、前記複数の干渉縞それぞれの情報を分離して取得し、前記取得されたそれぞれの情報から前記複数の領域それぞれにおける面形状又は透過波面を算出する処理部と、を備える、ことを特徴とする。
本発明によれば、被検面の形状や被検光学系の透過波面を簡便かつ迅速に計測することができる。
実施例1における計測装置を示す図 実施例1における回折光学素子とその移動方向を示す図 実施例1における被検面上の光束分布とCCDカメラ上の光束分布を示す図 実施例1における干渉縞の時間変調周波数特性を示す図 実施例1における干渉縞の時間変調周波数を示す図 実施例1における干渉縞の時間変調周波数の具体例を示す図 実施例2における計測装置を示す図 集光レンズと被検面との偏心を示す図 実施例2における回折光の集光レンズの焦点面における集光状態を示す図 実施例2におけるCCDカメラ上の干渉縞を示す図 実施例2における干渉縞の空間変調周波数特性を示す図 実施例3における計測装置を示す図 実施例4における計測装置を示す図
[実施例1]
図1に実施例1の被検面の形状を計測する計測装置を示す。光源1から出射された光は、集光レンズ2、空間フィルター3、ハーフミラー4、コリメータレンズ5、TSレンズ6を介して、被検面9の曲率中心に集光される。その後、光は被検面9で反射後、光路を折り返し、再度、TSレンズ6、コリメータレンズ5を介して、ハーフミラー4を透過後、空間フィルター10、結像レンズ11を透過し、CCDカメラ12へ被検光として導かれる。一方、TSレンズ6の最終面(分割部)は、フィゾー面となっており、光源1から出射された光を参照光と被検光とに分割する。TSレンズ6の最終面で反射された光は、コリメータレンズ5、ハーフミラー4、空間フィルター10、結像レンズ11を介して、CCDカメラ12へ参照光として導かれる。TSレンズ6は、不図示の駆動機構により光軸方向の走査を行い、所謂位相シフト法により被検面の面形状を計測することが可能となっている。被検面9の曲率中心の近傍には、回折光学素子7が配置されている。被検光は、この回折光学素子7を往復して透過する際に、回折することにより複数の光に分割される。分割された被検光は、被検面9の複数の領域へそれぞれ出射される。参照光と、被検面9で反射され回折光学素子7で再度回折された被検光とによって生じた互いに部分的に重なり合う複数の干渉縞は、CCDカメラ(検出器)12により検出される。駆動部8により回折光学素子7をフィゾー面の光軸に対して直交する面内において駆動することにより、CCDカメラ12により検出される複数の干渉縞の強度は時間に対して変調される。回折光学素子7は、図2Aに示すように、例えば正方形の回折格子が2次元に配置された構造(クロスグレーティング構造)を有している。駆動部8による回折光学素子7の移動は、図2Bに示すように、格子方向(XおよびY方向)と異なる方向(図中の矢印22)に設定されている。
図3Aを用いて、本実施例の特徴である回折光学素子7による被検面9上の光に関して説明する。回折光学素子7のX及びY方向の次数m、nの回折光を(m,n)と表記する。被検光は、被検面9の有効径301内において、光束302(次数(0,0))、光束303(次数(0,+1))、光束304(次数(0,−1))、光束305(次数(+1,0))、光束306(次数(−1,0))に分割されて照明される。これらの回折光により、回折光学素子7を配置しない場合と比較して、被検面9上の照明光束径は、光束302(次数(0,0))に対して、領域307へと拡大される。尚、回折光学素子7からは、2次以上の回折光も発生するが、その強度は弱く、計測値への影響が小さいため、本実施例の説明においては省略する。より高精度の計測が要求され、これらの高次回折光を無視できない場合は被検面9の曲率中心面近傍に0次および±1次(X及びY方向)以外の回折光を遮断するためのマスクを配置すればよい。
次に図3Bを用いて、CCDカメラ12上での光束に関して説明する。ここで、回折光学素子7の往路のX及びY方向の次数m1及びn1、かつ、復路のX及びY方向の次数m2及びn2の回折光を [(m1,n1),(m2,n2)]と表す。CCDカメラ12上には、図3Bに示すように、領域308、309、310、311、312の5つの領域に互いに部分的に重なり合う複数の干渉縞が同時に形成される。5つの干渉縞は、往復回折光[(0,0)、(0,0)]、[(0,0),(+1,+1)] ,[(0,0),(−1,−1)]、[(+1,+1),(0,0)]、[(−1,−1),(0,0)]によるものである。この5つ干渉縞は、領域308に部分的に重なり合い、図3Aにおける領域302〜306の面形状情報を含む。また、領域309には、[(0,0),(0,+1)]、[(0,0),(+1,+2)]、[(0,0),(−1,0)]、[(0,0),(−2,−1)]が不要光として重なり合い、干渉する。同様に領域310、311、312においても、異なる次数の回折光が不要光として重なり合い、干渉する。このままでは、領域308の干渉縞から、領域302〜306の面形状を同時に計測することはできない。しかし、図2Bに示すように回折光学素子7を矢印22の方向に走査することにより、上記干渉縞が時間に対して変調され、その変調速度差を利用して領域302〜306の面形状が同時計測可能となる。
以下に、変調速度差を使って領域302〜306の面形状を同時に計測することについて説明する。まず、X方向Y方向の回折光の位相変調速度が異なるように、図2Bに示すように、回折光学素子7は矢印22の方向(XY座標系で0、45°、90°方向以外)に走査される。この走査により発生する1次回折光の位相変調速度をωgrX(X方向)、ωgrY(Y方向)とする。CCDカメラ12の領域308へ到達する光束は、参照光W及び往復回折光 [(0,0),(0,0)]、[(0,0),(+1,+1)]、[(0,0),(−1,−1)]、[(+1,+1),(0,0)]、[(−1,−1),(0,0)]である。CCDカメラ12の領域308へ到達する参照光W [(0,0),(0,0)]の複素振幅は、式(1)のように表すことが出来る。同様に、往復回折光 [(0,0),(+1,+1)]、[(0,0),(−1,−1)]、[(+1,+1),(0,0)]、[(−1,−1),(0,0)] の複素振幅は、それぞれ式(2)〜(6)のように表すことができる。ここで、(x,y)は瞳座標(被検面上の座標に対応)である。(x’,y’)はCCDカメラ12上の座標である。Δx、Δyは被検面上での1次回折光のX及びY方向のシフト量である。Wilは被検面以外の光源1からCCDカメラ12までの干渉光学系の透過波面である。Wil’はWilからフィゾー面の形状の透過と反射における波面収差を補正した透過波面である。Wは2倍の被検面形状であり、tは時間を表す。
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil’(x,y)+ωts t))・・・(1)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil(x,y)+W(x,y))・・・(2)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil(x,y)+W(x,y+Δy)+2ωgrY t))・・・(3)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil(x,y)+W(x,y−Δy)−2ωgrY t))・・・(4)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil(x,y)+W(x+Δx,y)+2ωgrX t))・・・(5)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil(x,y)+W(x−Δx,y)−2ωgrX t))・・・(6)
一方、図3Bにおける領域309に到達する往復回折光 [(0,0),(0,+1)]、[(0,0),(+1,+2)]、[(0,0),(−1,0)]、[(0,0),(−2,−1)]の複素振幅は、順に、以下の式(7)〜(10)のように表せる。ここで、Wil1、Wil2、Wil3、Wil4は、それぞれの回折光の光路における干渉光学系の透過波面を表す。また、A(x,y)とA(x,y)〜A(x,y)は参照光と各回折光の振幅分布を表す。
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil1(x,y)+W(x,y)+ωgrY t))・・・(7)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil2(x,y)+W(x,y+Δy)+3ωgrY t))・・・(8)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil3(x,y)+W(x,y−Δy)−3ωgrX t))・・・(9)
(x’,y’)=A(x,y)exp(−i(Wil4(x,y)+W(x,y−2Δy)−3ωgrX t))・・・(10)
これらのW及びW〜Wの光束は互いに干渉しあい、下式11で示す干渉強度I(x’,y’))がCCDカメラ12により検出される。
Figure 2011232243
式11は合計10つの光束の干渉強度であるため、合計45(=10×9÷2)の干渉項の和となる。ここで各干渉項の変調速度を図5に示した。図5においては、例えば、W行とW列は参照光と被検光[(0,0),(0,0)]による干渉縞の強度の変調速度ωtsを表している。ここで、ωts=13、ωgrX=2、ωgrY=1とすると、各干渉縞の強度の変調速度は図6に示す値を具体的にとる。この特性を図4にグラフ化した。図4において、401〜405は、図3Aにおける計測領域302〜306からの被検光と参照光による干渉縞の強度の変調周波数を示す。各周波数の位相成分は、各計測領域の形状情報を有し、計測対象とすべき信号である。また406〜409は、計測領域309への被検光と参照光の干渉縞の強度の変調周波数であり、前述の計測対象である信号に対して、ノイズとなる成分である。さらに、410は領域302〜306からの被検光同士の干渉縞の強度の変調周波数を示している。図4から明らかなように、信号項401〜405の周波数は全て互いに異なり、さらに、ノイズ項406〜410とも異なる。従って、処理部Pにより、強度が時間に対して変調された複数の干渉縞を、例えば、フーリエ変換し、信号項401〜405の周波数成分の位相(複数の干渉縞それぞれの情報)を分離して取得する。処理部Pは、取得された信号項401〜405の周波数成分の位相から、被検面の複数の領域302〜306それぞれにおける面形状を算出する。
また、本実施例の説明では、回折光学素子7は、正方形の回折格子が2次元に配置されたクロスグレーティング構造を有していた。しかし、回折光学素子7は、例えば、正六角形の回折格子が2次元に配置されたハニカム構造を有するものでもよい。この場合、図3Aにおける1次回折光の方向が90度ピッチの4方位でなく、60度ピッチの6方位となり、領域307よりもさらに広い範囲の照明が可能となる。さらに、回折光学素子7を光軸周りに回転させることも計測径を拡大するためには有効な方法である。例えば、図3Aにおける領域302〜306の位相を計測した後、回折光学素子7を光軸周りに45度回転させると、図3Aにおける光束303〜306は45度回転する。この状態で再度、回転した領域303〜306の位相計測を行う。これにより、1回目において不可能であった45度方向の領域の計測が可能となり、1及び2回目の両計測値を用いることにより、領域307よりも被検面301全面に近い領域の計測が可能となる。
[実施例2]
図7は実施例2の計測装置を示す。本実施例2は、実施例1における回折光学素子7の駆動部8を外し、集光レンズ6の光軸(フィゾー面の光軸)を被検面9の中心に対して偏心させたものである。図8を用いて、この偏心状態の詳細を説明する。図8において、光軸1001は、集光レンズ6と回折光学素子7の光軸を示し、光軸1002は、被検面9の光軸を示す。ここで、光軸1001と光軸1002は、図8に示すように平行に偏心しており、一致していない。図8においては、紙面内の平行の偏心が示されているが、紙面直交方向においても偏心が生じている。この偏心状態において、回折光学素子7により発生した回折光の集光レンズ6の焦点面における集光状態を、図9を用いて説明する。XおよびY方向の回折次数を(m,n)として表すと、光点1002、1003、1004、1005、1006は、順に回折光(0,0)、(+1,0)、(−1,0)、(0,+1)、(0,−1)の集光点を示す。一方、点1001は、被検面9の光軸を示す。図9に示すように、各回折光の集光点と被検面9の光軸の偏心量は、偏心の方向(X,Y方向)も考慮すると、全て異なる。この偏心により、CCDカメラ12上の複数の干渉縞はティルト縞を有するが、ティルト縞の本数と方向は、図10に示すように、互いに全て異なる。図10Aは、回折光(0,0)による干渉縞、図10B〜Eは順に回折光(+1,0)、(−1,0)、(0,+1)、(0,−1)による干渉縞を示す。これらの各回折光は、実施例1と同様に被検面9の異なる領域に照明された光束であり、照射面の形状情報を有している。つまり、図10の各干渉縞には、各回折光の照射領域の形状情報を有している。干渉縞は、実施例1と同じように、CCDカメラ12上での光束は、図3Bのようになり、図10A〜Eの5つ干渉縞が領域308に部分的に重なって形成される。ここで、処理部Pは、この重なった複数の干渉縞を2次元フーリエ変換する。その結果を図11に示した。図11は、XおよびY方向の空間周波数Fx、Fyを横軸、縦軸として図10A〜Eの空間周波数特性が1301〜1305として示されている。図11から分るように、各干渉縞は異なる空間周波数成分となるため、それぞれの成分のみを抽出し、逆フーリエ変換することで、図10A〜Eの干渉縞に含まれる位相を分離することが可能である。従って、本実施例においても、実施例1同様に、図3Aにおける被検面9の異なる照射領域302〜306の形状を同時に計測することが可能である。つまり、実施例1では、時間周波数差を利用して、複数の計測領域302〜306の位相を同時計測可能であったが、本実施例では空間周波数差を利用して、複数の計測領域302〜306の位相を同時計測可能となる。
[実施例3]
図12は実施例3の計測装置を示す。本実施例は、実施例1の構成を被検光学系501の透過波面を計測する場合に適用したものである。TSレンズ6からの光束は回折光学素子7により複数の回折光が被検光学系501へ入射し、反射面502で反射され、CCDカメラ12上に複数の光束による干渉縞を形成する。ここで、各回折光は被検光学系501の瞳に対して実施例1における被検面上の光束と同じようにシフトしている。この結果、被検光学系501よりも開口数の小さなTSレンズ6によって、被検光学系501の瞳全域の透過波面を計測可能となる。
[実施例4]
図13は実施例4の計測装置を示す。本実施例は、実施例1の構成において、回折光学素子7のための駆動部8を廃除し、TSレンズ6の焦点面にマスク81を配置したものである。このマスク81は、駆動機構82により、光軸直交方向に移動可能となっている。本実施例では、実施例1において、領域302〜306の面形状を干渉強度の変調速度差を利用して同時計測していたのとは異なり、各領域の面形状を時間差計測する。以下にその手順を詳細説明する。まず、駆動機構82によりマスク81をその開口位置が回折光学素子7からの回折次数[0,0]のみを透過する位置に移動させる。この状態において、TSレンズ6の走査による位相シフト法で図3Aの領域302の面形状を計測する。次に、マスク81を駆動機構82により回折次数[0,+1]のみが透過する位置へ移動させ、同様に位相シフト法により、領域303の面形状を計測する。同様にして、領域304〜306の面形状を順次計測する。以上の手順により、時間差での計測となるが、従来のフィゾー干渉計に回折光学素子7、マスク81及び駆動機構82を追加することにより、実施例1と同様の領域に面形状計測領域を拡大可能となる。
なお、上記の実施例において干渉計はフィゾー干渉計に限定されるものではなく、その他の干渉計でもかまわない。

Claims (4)

  1. 被検面の形状又は被検光学系の透過波面を計測する計測装置であって、
    光源から出射された光を参照光と被検光とに分割する分割部と、
    前記被検光を回折することにより分割し、当該分割された被検光を前記被検面又は前記被検光学系の瞳の複数の領域へそれぞれ出射する回折光学素子と、
    前記参照光と前記被検面又は前記被検光学系の反射面で反射され前記回折光学素子で再度回折された前記被検光とによって生じた互いに部分的に重なり合う複数の干渉縞を検出する検出器と、
    前記検出器によって検出された互いに部分的に重なり合った複数の干渉縞から、前記複数の干渉縞それぞれの情報を分離して取得し、前記取得されたそれぞれの情報から前記複数の領域それぞれにおける面形状又は透過波面を算出する処理部と、を備える、ことを特徴とする計測装置。
  2. 前記回折光学素子を光軸と直交する方向に駆動する駆動部をさらに備え、
    前記駆動部により前記回折光学素子を駆動しながら前記検出器により前記複数の干渉縞を検出することによって、当該検出される複数の干渉縞の強度は時間に対して変調され、 前記処理部は、前記強度が変調された複数の干渉縞をフーリエ変換して、前記複数の干渉縞それぞれの情報を分離する、ことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
  3. 干渉光学系の光軸を前記被検面の中心又は前記被検光学系の光軸に対して偏心する状態で前記検出器により前記複数の干渉縞を検出することによって、当該検出される複数の干渉縞は、互いに異なる方向及び本数のティルト縞を有し、
    前記処理部は、前記互いに異なる方向及び本数のティルト縞を有する複数の干渉縞を2次元フーリエ変換して、前記複数の干渉縞それぞれの情報を分離する、ことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
  4. 前記回折光学素子は、正方形又は正六角形の回折格子が2次元に配置された構造を有する、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の計測装置。
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