JP2010222063A - Substrate processing device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing device capable of preventing deformation of a rotary shaft of a roller for conveying a substrate when a temperature rises in the roller. <P>SOLUTION: This substrate processing device includes a lower roller 21, a first upper roller 22 and a second upper roller 23 for holding and conveying the substrate K, a roller holding mechanism 30 for rotatably holding each of the rollers 21, 22 and 23, a fluid discharge mechanism for discharging fluid toward an upper surface of the conveyed substrate K, and a fluid supply mechanism for supplying fluid to the fluid discharge mechanism. The roller holding mechanism 30 includes a first frame 33 for rotatably holding one end of the lower roller 21 and a second frame 34 for holding the other end of the lower roller 21 to be rotatable and to be displaced in an axis direction, which are opposed with a fixed space on both external sides of the substrate K, a first holding member 50 supported by the first frame 33 to rotatably hold the first upper roller 22, and a second holding member 51 supported by the second frame 34 to rotatably support the second upper roller 23. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する基板処理装置に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate by supplying a fluid to the upper surface of the substrate while conveying the substrate.

基板の製造工程には、例えば、現像液やエッチング液、レジスト剥離液を塗布する工程があり、これらの工程では、例えば、処理チャンバ内で基板を所定の搬送方向に搬送しながらその上面に現像液やエッチング液、レジスト剥離液を供給している。   The substrate manufacturing process includes, for example, a process of applying a developer, an etching solution, and a resist stripping solution. In these processes, for example, the substrate is developed on the upper surface while being transported in a predetermined transport direction in the processing chamber. Liquid, etching liquid and resist stripping liquid are supplied.

そして、このような工程で用いられる基板搬送装置として、従来、例えば、特開平2−144312号公報に開示された搬送ローラ装置が知られている。この搬送ローラ装置は、基板の下側に配置されてこの基板を支持する下ローラと、基板の上側に配置されてこの基板を押さえる上ローラと、下ローラ及び上ローラを互いに異なる方向に回転させる回転駆動機構と、下ローラ及び上ローラを回転自在に支持する架台とを備える。   As a substrate transfer device used in such a process, a transfer roller device disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-144212 is conventionally known. The transport roller device is disposed below the substrate and supports the substrate, the upper roller disposed above the substrate and pressing the substrate, and the lower roller and the upper roller rotate in different directions. A rotation drive mechanism; and a gantry that rotatably supports the lower roller and the upper roller.

前記下ローラ及び上ローラは、互いに平行な回転軸をそれぞれ有しており、下ローラの回転軸の一端には、駆動源により回転駆動される駆動ギアが固設され、他端には第1伝達ギアが固設される。一方、上ローラの回転軸の一端には、下ローラの第1伝達ギアと噛合する第2伝達ギアが固設される。駆動源により駆動ギアが回転せしめられると、下ローラが回転するとともに、各伝達ギアにより回転力が上ローラに伝達されてこの上ローラが回転し、これにより、基板が所定の搬送方向に搬送される。   Each of the lower roller and the upper roller has a rotation shaft that is parallel to each other. A drive gear that is driven to rotate by a drive source is fixed to one end of the rotation shaft of the lower roller, and a first gear is provided to the other end. A transmission gear is fixed. On the other hand, a second transmission gear that meshes with the first transmission gear of the lower roller is fixed to one end of the rotation shaft of the upper roller. When the drive gear is rotated by the drive source, the lower roller rotates and the transmission force is transmitted to the upper roller by each transmission gear to rotate the upper roller, whereby the substrate is conveyed in a predetermined conveyance direction. The

前記架台は、基板の搬送方向と垂直な方向に間隔を隔てて対峙する、各ローラの回転軸の一端部を支持する部材と各ローラの回転軸の他端部を支持する部材とを備えている。これらの部材には、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の嵌入部がそれぞれ形成されており、この嵌入部には、下ローラ及び上ローラの各回転軸の両端に設けられたスリーブがそれぞれ嵌め込まれるようになっている。尚、各スリーブの、回転軸の中央よりの端部にはフランジ部がそれぞれ形成されており、これらのフランジ部が架台の各部材の対峙面と係合することで各ローラが架台に対してそれぞれ位置決めされる。   The gantry includes a member that supports one end of the rotating shaft of each roller and a member that supports the other end of the rotating shaft of each roller, facing each other in a direction perpendicular to the substrate transport direction. Yes. Each of these members is formed with a U-shaped insertion portion formed by cutting out the upper portion thereof, and this insertion portion is provided at both ends of each rotation shaft of the lower roller and the upper roller. Each sleeve is fitted. Note that flanges are formed at the ends of the sleeves from the center of the rotary shaft, and these flanges engage with the facing surfaces of the members of the gantry so that each roller is in contact with the gantry. Each is positioned.

特開平2−144312号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-14412

ところで、前記現像液やエッチング液、レジスト剥離液といった処理液は、基板処理が効率的に行われるように一定温度に加熱されている。このため、基板上に供給される処理液が下ローラや上ローラに接触して下ローラや上ローラが加熱され、また、当該処理液により処理チャンバ内の雰囲気温度が上昇せしめられて、この温度上昇した雰囲気により下ローラや上ローラが加熱される。   By the way, the processing solutions such as the developer, the etching solution, and the resist stripping solution are heated to a certain temperature so that the substrate processing can be performed efficiently. For this reason, the processing liquid supplied onto the substrate comes into contact with the lower roller and the upper roller to heat the lower roller and the upper roller, and the processing liquid raises the ambient temperature in the processing chamber. The lower roller and the upper roller are heated by the elevated atmosphere.

ところが、上記従来の搬送ローラ装置では、各スリーブのフランジ部と架台の各部材の対峙面とが係合しているので、下ローラや上ローラが加熱されて温度上昇しても各ローラの回転軸が伸長することができない。このため、下ローラや上ローラの温度が上昇すると、これらの回転軸が変形して撓み、基板を所定方向にまっすぐに搬送することができないという問題や、回転軸の撓みにより基板に作用する力によって基板が割れるという問題を生じていた。   However, in the above-described conventional conveying roller device, the flange portion of each sleeve and the facing surface of each member of the pedestal are engaged with each other. Therefore, even if the lower roller and the upper roller are heated and the temperature rises, the rotation of each roller is performed. The shaft cannot be extended. For this reason, when the temperature of the lower roller or the upper roller rises, these rotating shafts are deformed and bent, and the problem that the substrate cannot be conveyed straight in a predetermined direction, or the force acting on the substrate due to the bending of the rotating shaft. Caused the problem that the substrate breaks.

尚、近年、処理対象の基板が大型化しており、これに伴い、下ローラや上ローラの回転軸が非常に長くなっている。したがって、下ローラや上ローラの回転軸が熱変位したときにその伸長量も大きく、上記のような問題がより顕著に現れる。また、下ローラや上ローラなどは、通常、耐薬品性に優れた塩化ビニル樹脂から構成されており、このような場合、塩化ビニル樹脂の線膨張係数が金属材料などと比べて大きいことから、熱膨張時の伸長量は極めて大きなものとなる。   In recent years, the substrate to be processed has been increased in size, and along with this, the rotating shafts of the lower roller and the upper roller have become very long. Therefore, when the rotating shafts of the lower roller and the upper roller are thermally displaced, the amount of expansion is large, and the above problem appears more conspicuously. In addition, the lower roller and the upper roller are usually made of vinyl chloride resin having excellent chemical resistance. In such a case, the linear expansion coefficient of the vinyl chloride resin is larger than that of a metal material. The amount of elongation during thermal expansion is extremely large.

本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであって、基板搬送用のローラが温度上昇したときにこのローラの回転軸が変形するのを防止することができる基板処理装置の提供をその目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of preventing the rotation shaft of the roller from being deformed when the temperature of the roller for transporting the substrate rises. And

上記目的を達成するための本発明は、
基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する装置であって、
前記基板の搬送方向と垂直な回転軸をそれぞれ有し、前記基板の下方にその搬送方向に沿って並設されてこの基板を支持する複数の下ローラと、前記下ローラの回転軸と平行な回転軸を有し、少なくとも1つの前記下ローラの上方に配置されて、前記基板の幅方向の一端部を押さえる第1上ローラ及び前記基板の幅方向の他端部を押さえる第2上ローラと、少なくとも1つの前記下ローラの回転軸を駆動して回転させる回転駆動機構とを備え、前記下ローラ及び各上ローラにより前記基板を挟持して搬送する基板搬送手段と、
前記各ローラを回転自在に保持するローラ保持手段と、
前記基板搬送手段によって搬送される基板の上方に配置され、その上面に向けて流体を吐出する流体吐出手段と、
前記流体吐出手段に流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段を支持する支持手段とを備えた基板処理装置において、
前記ローラ保持手段は、前記基板の両外側で一定間隔を隔てて対向して前記基板の搬送方向に細長く形成された平板状の第1架台及び第2架台であって、前記下ローラの回転軸の一端部を回転自在に保持する第1架台及び前記下ローラの回転軸の他端部を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第2架台と、前記第1架台に支持され、前記第1上ローラの回転軸を回転自在に保持する第1保持部材と、前記第2架台に支持され、前記第2上ローラの回転軸を回転自在に保持する第2保持部材とを備え、
前記第1架台及び第2架台は、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の第1嵌入部をそれぞれ有し、この第1嵌入部に前記第1保持部材及び第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成され、
前記各第1嵌入部の両側壁、及び各保持部材の外面の、前記第1嵌入部の両側壁に対応する部分には、その一方に凹溝が、他方に突起が上下方向に沿うように且つ互いに嵌合可能に形成され、
前記各保持部材は、前記凹溝及び突起が嵌合して前記第1嵌入部に嵌め込まれるとともに、前記凹溝及び突起が嵌合した状態で上下方向に移動可能に構成されてなることを特徴とする基板処理装置に係る。
To achieve the above object, the present invention provides:
An apparatus for processing a substrate by supplying a fluid to the upper surface of the substrate while conveying the substrate,
A plurality of lower rollers each having a rotation axis perpendicular to the transport direction of the substrate, arranged in parallel along the transport direction below the substrate and supporting the substrate, and parallel to the rotation shaft of the lower roller A first upper roller that has a rotation shaft and is disposed above at least one of the lower rollers, and that presses one end in the width direction of the substrate; and a second upper roller that presses the other end in the width direction of the substrate; A rotation driving mechanism for driving and rotating at least one rotation shaft of the lower roller, and a substrate conveying means for nipping and conveying the substrate by the lower roller and each upper roller;
Roller holding means for rotatably holding the rollers;
A fluid ejecting means disposed above the substrate transported by the substrate transporting means and ejecting a fluid toward the upper surface thereof;
Fluid supply means for supplying fluid to the fluid ejection means;
In a substrate processing apparatus comprising a support means for supporting the fluid discharge means,
The roller holding means is a flat plate-like first frame and a second frame that are opposed to each other on both outer sides of the substrate with a predetermined interval and are elongated in the conveyance direction of the substrate. A first frame that rotatably holds one end of the second frame, a second frame that holds the other end of the rotating shaft of the lower roller rotatably and displaceably in the axial direction, and is supported by the first frame, A first holding member that rotatably holds the rotation shaft of the first upper roller; and a second holding member that is supported by the second frame and that rotatably holds the rotation shaft of the second upper roller;
The first frame and the second frame each have a U-shaped first insertion part formed by cutting out the upper part thereof, and the first holding member and the second holding member are provided in the first insertion part. It is configured to be detachably fitted,
In the both side walls of each first insertion portion and the outer surface of each holding member corresponding to both side walls of the first insertion portion, a concave groove is provided on one side, and a protrusion is provided along the vertical direction on the other side. And are formed so that they can be fitted together,
Each of the holding members is configured to be fitted in the first insertion portion by fitting the concave groove and the projection, and to be movable in the vertical direction with the concave groove and the projection fitted. This relates to a substrate processing apparatus.

この発明によれば、下ローラの少なくとも1つが回転駆動機構により駆動されて回転し、処理対象の基板が下ローラ及び各上ローラにより挟持されつつ所定の搬送方向に沿って搬送される。その際、流体供給手段から流体吐出手段に供給され、この流体吐出手段から吐出される流体によって前記搬送される基板に所定の処理が施される。   According to the present invention, at least one of the lower rollers is driven and rotated by the rotation driving mechanism, and the substrate to be processed is transported along the predetermined transport direction while being sandwiched between the lower roller and each upper roller. At that time, a predetermined process is performed on the substrate to be transported by the fluid supplied from the fluid supply means to the fluid discharge means and discharged from the fluid discharge means.

そして、流体吐出手段から吐出される流体が所定温度に加熱されている場合には、基板処理を行うと、吐出された流体によって下ローラや上ローラが加熱されるが、本発明では、下ローラの回転軸の他端部をその軸線方向に変位可能に第2架台により支持しているので、下ローラの回転軸が温度上昇してもこの温度上昇による回転軸の伸長が許容される。また、上ローラを、基板の一端部を押さえる第1上ローラ及び基板の他端部を押さえる第2上ローラから構成し、第1上ローラを第1架台に支持される第1保持部材により、第2上ローラを第2架台に支持される第2保持部材によりそれぞれ保持しているので、各上ローラの回転軸が温度上昇してもこの温度上昇による回転軸の伸長が規制されない。   When the fluid ejected from the fluid ejecting means is heated to a predetermined temperature, when the substrate processing is performed, the lower roller and the upper roller are heated by the ejected fluid. Since the other end of the rotary shaft is supported by the second frame so as to be displaceable in the axial direction, even if the temperature of the rotary shaft of the lower roller rises, the extension of the rotary shaft due to this temperature rise is allowed. Further, the upper roller is composed of a first upper roller that presses one end of the substrate and a second upper roller that presses the other end of the substrate, and the first upper roller is supported by the first holding member supported by the first frame, Since the second upper rollers are respectively held by the second holding members supported by the second frame, even if the temperature of the rotation shaft of each upper roller rises, the extension of the rotation shaft due to this temperature rise is not restricted.

したがって、本発明では、各ローラが温度上昇したときにこれらの回転軸が伸長可能であるので、回転軸が変形して撓むのを防止することができる。これにより、基板を所定方向にまっすぐに搬送することができない、基板が割れるといった基板搬送上の問題が生じるのを防止することができる。   Accordingly, in the present invention, since the rotation shafts can be extended when the temperature of each roller rises, it is possible to prevent the rotation shafts from being deformed and bent. Thereby, it is possible to prevent problems in substrate conveyance such that the substrate cannot be conveyed straight in a predetermined direction or the substrate is broken.

また、メンテナンス時などにおいて各上ローラを取り外す際には、各保持部材を第1嵌入部から取り出すだけで良く、当該作業が容易である。一方、各上ローラを取り付ける際には、凹溝及び突起が嵌合するように各保持部材を第1嵌入部に嵌め込むだけで良く、当該作業が容易であり、しかも、凹溝及び突起の嵌合により高い取付精度で取り付けることができる。   Further, when each upper roller is removed during maintenance or the like, it is only necessary to remove each holding member from the first insertion portion, and this operation is easy. On the other hand, when attaching each upper roller, it is only necessary to fit each holding member into the first insertion portion so that the concave groove and the protrusion are fitted, and the operation is easy. It can be mounted with high mounting accuracy by fitting.

尚、前記各上ローラは、それぞれ1つのローラ本体を備え、前記下ローラは、その回転軸の軸線方向に複数のローラ本体を備えるとともに、これらのローラ本体の内、両端に位置するローラ本体が前記各上ローラのローラ本体と上下に対向するように構成され、少なくとも、前記第2上ローラのローラ本体及び前記下ローラの、第2上ローラに対応したローラ本体は、その一方の外周面が半円形に形成され、他方の外周面が一定幅を有する平坦面に形成されていても良い。   Each of the upper rollers includes a roller body, and the lower roller includes a plurality of roller bodies in the axial direction of the rotation shaft, and roller bodies positioned at both ends of these roller bodies. The roller body of each upper roller is configured to face vertically, and at least the roller body corresponding to the second upper roller of the roller body of the second upper roller and the lower roller has one outer peripheral surface thereof. It may be formed in a semicircular shape, and the other outer peripheral surface may be formed as a flat surface having a certain width.

通常、各ローラのローラ本体の外周面は半円形に形成されている。この場合、下ローラ及び上ローラにより基板を挟持して搬送すると、次のような問題を生じる。即ち、各ローラの昇温によりその回転軸が伸長し、下ローラのローラ本体の位置と各上ローラのローラ本体の位置とが回転軸の軸線方向にずれると、基板に剪断方向の力が作用することになるため、このような剪断方向の力によって、基板が破損するという問題や、基板が蛇行して搬送されるといった問題を生じるのである。   Usually, the outer peripheral surface of the roller body of each roller is formed in a semicircular shape. In this case, if the substrate is sandwiched and conveyed by the lower roller and the upper roller, the following problem occurs. That is, when the temperature of each roller rises, its rotating shaft extends, and when the position of the roller body of the lower roller and the position of the roller body of each upper roller shift in the axial direction of the rotating shaft, a shearing force acts on the substrate. Therefore, such a shearing force causes a problem that the substrate is damaged and a problem that the substrate is meandered and conveyed.

尚、下ローラの回転軸は、その他端部が軸線方向に変位可能に第2架台により支持されているので、第1上ローラのローラ本体と、下ローラの、第1上ローラに対応したローラ本体とはさほど位置ずれせず、この位置ずれを考慮しなくても良い場合がある。   In addition, since the other end of the rotating shaft of the lower roller is supported by the second frame so that it can be displaced in the axial direction, the roller body of the first upper roller and the roller corresponding to the first upper roller of the lower roller There is a case where the positional deviation does not have to be taken into consideration because the positional deviation is not so much from the main body.

そこで、上述のように、少なくとも、第2上ローラのローラ本体及び下ローラの、第2上ローラに対応したローラ本体について、その一方の外周面を半円形とし、他方の外周面を一定幅の平坦面とすれば、ローラの回転軸が伸長して、第2上ローラのローラ本体の位置と、下ローラの、第2上ローラに対応したローラ本体の位置とが回転軸の軸線方向にずれても、外周面が平坦面のローラ本体によって、外周面が半円形のローラ本体により基板に作用する力を受けることができる。これにより、基板に剪断方向の力が作用して、基板が破損するという問題や、基板が蛇行して搬送されるといった問題が生じるのを防止することができる。   Therefore, as described above, at least the roller body corresponding to the second upper roller of the roller body and the lower roller of the second upper roller has one outer peripheral surface made semicircular and the other outer peripheral surface has a constant width. If the surface is flat, the rotation axis of the roller extends, and the position of the roller body of the second upper roller and the position of the roller body of the lower roller corresponding to the second upper roller deviate in the axial direction of the rotation axis. However, a force acting on the substrate can be received by the roller body having a flat outer peripheral surface and the roller body having a semicircular outer peripheral surface. Thereby, it is possible to prevent the problem that the substrate is damaged due to the shearing force acting on the substrate and the problem that the substrate is meandered and conveyed.

また、前記下ローラ及び各上ローラの上下のローラ間隔が前記基板の厚みより小さく設定されている場合において、前記突起の先端と凹溝との間、及び、前記突起の付け根と凹溝の開口部との間には、隙間がそれぞれ形成されるとともに、前記各保持部材と第1嵌入部との間には、前記凹溝の下部側又は下方で前記隙間と前記第1嵌入部外の空間とを連通させる連通部がそれぞれ形成されていても良い。   Further, when the upper and lower roller intervals of the lower roller and each upper roller are set smaller than the thickness of the substrate, the opening between the tip of the protrusion and the groove and the root of the protrusion and the groove A gap is formed between the holding member and the first insertion portion, and a space outside the gap and the first insertion portion is provided below or below the concave groove between the holding member and the first insertion portion. A communication portion that communicates with each other may be formed.

流体吐出手段から処理液を吐出させる場合、その態様によっては、吐出された処理液が各保持部材や各架台にかかって凹溝と突起との間に入り込み、この入り込んだ処理液が外部に流出せずに結晶化して、生成された結晶が凹溝の内面や突起の外面に固着する。一方、基板が下ローラ及び各上ローラの間を通過する際には、各保持部材及び各上ローラが凹溝及び突起により案内されつつ上方に移動する。そして、処理液が結晶化して固着しているときには、凹溝と突起が相対移動し難くなって各保持部材が上方に移動し難くなるので、基板が下ローラ及び各上ローラの間を通過する際に各保持部材の一方又は両方が上昇せず、基板に力が作用して、基板が割れる原因や欠ける原因となる。   When the processing liquid is discharged from the fluid discharge means, depending on the mode, the discharged processing liquid is applied to each holding member or each base and enters between the concave groove and the projection, and the processing liquid that has entered flows out to the outside. The resulting crystals are fixed to the inner surface of the groove and the outer surface of the protrusion. On the other hand, when the substrate passes between the lower roller and the upper rollers, the holding members and the upper rollers move upward while being guided by the concave grooves and protrusions. When the processing liquid is crystallized and fixed, the concave groove and the protrusion are difficult to move relative to each other, and the holding members are difficult to move upward, so that the substrate passes between the lower roller and the upper roller. At this time, one or both of the holding members do not rise, and a force acts on the substrate, causing the substrate to break or chip.

そこで、上述のように、突起の先端と凹溝との間、及び、突起の付け根と凹溝の開口部との間には隙間を形成し、保持部材と第1嵌入部との間には、凹溝の下部側又は下方で前記隙間と第1嵌入部外の空間とを連通させる連通部を形成すれば、凹溝と突起との間に流入した液体を隙間及び連通部を介して第1嵌入部外に効果的に流出させることができる。これにより、流体吐出手段から吐出された処理液が結晶化して凹溝の内面や突起の外面に固着するのを防止することができる。したがって、基板が下ローラ及び各上ローラの間を通過する際に各保持部材を確実に上昇させることができるので、基板が割れる、基板が欠けるといった問題が生じるのを防止することができる。   Therefore, as described above, a gap is formed between the tip of the protrusion and the groove, and between the root of the protrusion and the opening of the groove, and between the holding member and the first insertion portion. If the communicating portion that communicates the gap and the space outside the first insertion portion is formed on the lower side or below the recessed groove, the liquid that has flowed in between the recessed groove and the protrusion is changed through the gap and the communicating portion. It is possible to effectively flow out of the one insertion portion. Thereby, it can prevent that the process liquid discharged from the fluid discharge means crystallizes and adheres to the inner surface of the groove and the outer surface of the protrusion. Therefore, since each holding member can be reliably raised when the substrate passes between the lower roller and each upper roller, it is possible to prevent problems such as breakage of the substrate and chipping of the substrate.

また、前記各保持部材は、予め設定された荷重で前記基板を押さえるための錘をそれぞれ備えていても良い。第1保持部材及び第1上ローラ全体の重量や、第2保持部材及び第2上ローラ全体の重量によって加えることが可能な荷重よりも高い荷重を基板に加える場合、ばねを用いることも可能であるが、このばねは、通常、金属から構成され、耐薬品性に劣っていることから被覆する必要がある。したがって、錘で基板に掛かる荷重を調整すれば、錘を被覆するにしても、ばねに比べて容易であるし、また、各保持部材に錘収容用の収容穴を形成してこの収容穴内に収容すれば、簡単に錘を設けることができる。このとき、収容穴の形成位置を、例えば、各保持部材の基板側とは反対側の側面など、流体吐出手段から吐出される流体の影響を受け難い位置にすれば、錘を特に被覆することなく設けることも可能である。   Each holding member may include a weight for holding the substrate with a preset load. When a load higher than the load that can be applied by the weight of the entire first holding member and the first upper roller or the weight of the entire second holding member and the second upper roller is applied to the substrate, a spring can be used. However, this spring is usually made of metal and has poor chemical resistance, so it needs to be covered. Therefore, if the load applied to the substrate with the weight is adjusted, even if the weight is covered, it is easier than the spring, and each holding member is formed with a receiving hole for receiving the weight, and the holding hole is formed in the receiving hole. If accommodated, a weight can be easily provided. At this time, if the formation position of the accommodation hole is set to a position that is not easily affected by the fluid discharged from the fluid discharge means, such as the side surface opposite to the substrate side of each holding member, the weight is particularly covered. It is also possible to provide without.

また、前記第1保持部材の錘は、前記第1保持部材及び第1上ローラ全体の重量により5N〜35Nの荷重で前記基板の一端部を押さえることが可能な重さであり、前記第2保持部材の錘は、前記第2保持部材及び第2上ローラ全体の重量により5N〜35Nの荷重で前記基板の他端部を押さえることが可能な重さであることが好ましい。   The weight of the first holding member is a weight capable of pressing one end of the substrate with a load of 5N to 35N according to the weight of the first holding member and the first upper roller. It is preferable that the weight of the holding member has a weight capable of pressing the other end of the substrate with a load of 5N to 35N based on the weight of the second holding member and the second upper roller.

基板を押さえるのに必要な荷重を設定するに当たっては、例えば、流体吐出手段から吐出される流体の種類、流体吐出手段から吐出される流体が薬液である場合にその薬液の種類(例えば、界面活性剤が含まれているかどうかなど)、基板サイズ、基板の表面状態(例えば、表面粗さやぬれ性など)、流体吐出手段から吐出された流体が基板に当たったときの打力に基づく反力(基板を押し戻す力)などを考慮する必要がある。ここで、流体の種類を考慮する必要があるのは、吐出される流体がエア,純水又は薬液であるとすると、エア,純水及び薬液の順にローラが滑って空転し易くなるからであり、また、反力を考慮する必要があるのは、例えば、エアを吐出して行う液切りを行う場合で、エアの吐出方向が基板搬送方向に対して逆方向且つ斜め下方向に設定されているときには、特に反力が大きくなるからである。そして、このような観点から前記錘を上記のようなものとすれば、何ら不都合を生じることなく、基板を確実に搬送することができる。尚、基板を押さえ付ける力が5Nより小さい場合には、上ローラや下ローラが空転して確実な基板搬送に支障を生じ、基板を押さえ付ける力が35Nより大きい場合には、基板が割れるといった不都合を生じる。   In setting the load required to hold the substrate, for example, the type of fluid discharged from the fluid discharge means, and the type of chemical liquid (for example, surface activity) when the fluid discharged from the fluid discharge means is a chemical liquid. Reaction force based on the striking force when the fluid discharged from the fluid discharge means hits the substrate (such as whether or not an agent is contained), the substrate size, the surface condition of the substrate (for example, surface roughness and wettability) It is necessary to consider the force that pushes back the substrate. Here, it is necessary to consider the type of fluid, because if the fluid to be discharged is air, pure water or chemical liquid, the rollers will easily slip and run idle in the order of air, pure water and chemical liquid. Also, the reaction force needs to be taken into account, for example, when performing liquid draining by discharging air, and the air discharge direction is set to be opposite to the substrate transport direction and obliquely downward. This is because the reaction force is particularly large when the user is present. From this point of view, if the weight is as described above, the substrate can be reliably conveyed without causing any inconvenience. When the force for pressing the substrate is smaller than 5N, the upper roller and the lower roller are idled to hinder reliable substrate conveyance, and when the force for pressing the substrate is larger than 35N, the substrate is cracked. Cause inconvenience.

また、前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第1軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第2軸受が設けられ、前記第1架台の第1嵌入部には、その下側に、前記第1軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第1保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、前記第2架台の第1嵌入部には、その下側に、前記第2軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、前記第1嵌入部の、少なくとも前記各保持部材が嵌め込まれる部分には、前記凹溝又は突起が形成され、前記第1軸受又は第1架台には、この第1軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられていても良い。   In addition, a first bearing that rotatably supports the one end portion is provided at one end portion of the rotating shaft of the lower roller, and the other end portion is rotated at the other end portion of the rotating shaft of the lower roller. A second bearing that is freely supported is provided, and a portion in which the first bearing is detachably fitted is formed on the lower side of the first insertion portion of the first frame, and on the upper side, A portion in which the first holding member is detachably fitted is formed, and a portion in which the second bearing is detachably fitted in the first insertion portion of the second mount so as to be detachable and movable in the axial direction. In addition, a portion into which the second holding member is detachably fitted is formed on the upper side, and at least a portion of the first fitting portion into which each holding member is fitted has the groove or protrusion. The first bearing or the first mount is formed The regulating member may be provided for regulating the movement in the axial direction of the first bearing.

このようにすれば、下ローラについても第1嵌入部に対して着脱可能であるので、メンテナンス時などにおいて、各保持部材及び各上ローラと同様、下ローラを容易に着脱することができる。また、一旦取り外した下ローラを高精度に各架台に取り付けることができる。   In this way, since the lower roller can also be attached to and detached from the first insertion portion, the lower roller can be easily attached and detached as in the case of each holding member and each upper roller during maintenance. Moreover, the once removed lower roller can be attached to each frame with high accuracy.

また、前記各架台の第1嵌入部の、前記各軸受が嵌め込まれる部分と、前記各保持部材が嵌め込まれる部分との間には、前記各保持部材の下端に当接して前記各上ローラの高さ位置を位置決めするためのスペーサがそれぞれ設けられていても良い。   Further, between the portion where each bearing is fitted and the portion where each holding member is fitted of the first fitting portion of each frame, the lower roller of each holding member is brought into contact with the lower roller of each holding member. Spacers for positioning the height position may be provided.

このようにすれば、各保持部材を第1嵌入部に嵌め込んだときに、スペーサにより各保持部材の下方への移動が規制され、各保持部材を所定の高さ位置に設置することができるので、各保持部材の取り付けをより簡単にすることができるだけでなく、各保持部材の再取付後においても、下ローラ及び各上ローラの上下のローラ間隔を高精度なものとすることができる。   If it does in this way, when each holding member is inserted in the 1st insertion part, movement to the lower part of each holding member will be controlled by a spacer, and each holding member can be installed in a predetermined height position. Therefore, not only can the attachment of each holding member be simplified, but also the interval between the upper and lower rollers of the lower roller and each upper roller can be made highly accurate even after the attachment of each holding member.

また、前記流体吐出手段は、前記基板の搬送方向と交差する方向においてこの基板の全幅に渡るように細長く形成され、前記支持手段は、前記流体吐出手段の長手方向の一端部を支持する第1支持部材と、前記流体吐出手段の長手方向の他端部を支持する第2支持部材とを備え、前記第1架台及び第2架台は、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の第2嵌入部をそれぞれ有し、この第2嵌入部に前記第1支持部材及び第2支持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成されていても良い。   The fluid ejecting means is formed to be elongated so as to cover the entire width of the substrate in a direction intersecting the transport direction of the substrate, and the support means supports a first end portion in the longitudinal direction of the fluid ejecting means. A support member and a second support member for supporting the other end of the fluid discharge means in the longitudinal direction. The first frame and the second frame are formed in a U-shape formed by cutting out the upper part thereof. It has a 2nd insertion part, respectively, and it may be constituted so that the 1st support member and the 2nd support member may be inserted in this 2nd insertion part so that attachment or detachment is possible.

流体吐出手段と基板との間の間隔は、処理内容に応じて最適な間隔が設定されており、この間隔が変わると、基板処理の条件が変わって最適な基板処理を行うことができなくなる。したがって、メンテナンス時などにおいて、一旦取り外した流体吐出手段を設置する際には前記間隔が最適な間隔となるように調整しなければならず、当該調整作業が煩わしい。また、流体吐出手段の基板搬送方向における位置も、流体吐出手段から吐出された流体が下ローラによって支持されている部分にほぼ当たるように設定されており、この位置が変わって前記吐出された流体が下ローラにより支持されていない部分に当たると、前記吐出された流体が基板に当たったときの打力により、処理内容によっては処理ムラが生じるといった問題を生じる。したがって、前記間隔と同様、流体吐出手段の基板搬送方向における位置についても、流体吐出手段を再設置する際には所定位置に配置されるように調整しなければならず、当該調整作業が煩わしい。   The optimal interval between the fluid ejection means and the substrate is set according to the processing content. If this interval changes, the substrate processing conditions change and the optimal substrate processing cannot be performed. Therefore, when installing the fluid ejecting means once removed during maintenance or the like, the interval must be adjusted so as to be an optimum interval, and the adjustment work is troublesome. Further, the position of the fluid discharge means in the substrate transport direction is also set so that the fluid discharged from the fluid discharge means almost hits the portion supported by the lower roller. If it hits a portion that is not supported by the lower roller, there is a problem that processing unevenness occurs depending on processing contents due to the striking force when the discharged fluid hits the substrate. Therefore, as with the interval, the position of the fluid discharge means in the substrate transport direction must be adjusted so that the fluid discharge means is disposed at a predetermined position when the fluid discharge means is reinstalled, and the adjustment work is troublesome.

そこで、上述のように、各支持部材により流体吐出手段の長手方向の両端部を支持し、各支持部材を第2嵌入部に嵌め込むようにすれば、各支持部材を第2嵌入部に嵌め込むだけで、流体吐出手段と基板との間の間隔、及び流体吐出手段の基板搬送方向における位置が所定の間隔及び位置となるように流体吐出手段を配置することができ、流体吐出手段を各架台に精度良く取り付けることができる。また、流体吐出手段を簡単に着脱することができる。   Therefore, as described above, if each support member supports both ends in the longitudinal direction of the fluid discharge means and each support member is fitted into the second insertion portion, each support member is fitted into the second insertion portion. The fluid ejection means can be arranged so that the distance between the fluid ejection means and the substrate and the position of the fluid ejection means in the substrate transport direction are the predetermined distance and position. It can be attached to the mount with high accuracy. Further, the fluid discharge means can be easily attached and detached.

また、前記各架台の第2嵌入部の少なくとも一方には、前記第1支持部材又は第2支持部材が前記流体吐出手段の長手方向に変位可能に嵌め込まれていても良い。   In addition, the first support member or the second support member may be fitted in at least one of the second insertion portions of each of the mounts so as to be displaceable in the longitudinal direction of the fluid discharge means.

流体供給手段から流体吐出手段に供給される流体が所定温度に加熱されている場合、供給された流体によって流体吐出手段が加熱され、熱膨張する。このとき、流体吐出手段の熱膨張が規制されていると、当該流体吐出手段が変形して、流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなり、また、流体吐出手段の流体吐出口の形状が変化する。そして、流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなると、処理条件が不均一になるという問題を生じ、流体吐出口の形状が変化すると、この流体吐出口から吐出される流体の流量が不均一になって基板処理を均一に行うことができないという問題を生じる。尚、基板の大型化に伴い、流体吐出手段の長手方向の長さが長くなっているため、流体吐出手段が温度上昇したときに長手方向の伸長量は大きく、このような問題がより顕著に現れる。また、耐薬品性を考慮して流体吐出手段が塩化ビニル樹脂から構成されているような場合には、塩化ビニル樹脂の線膨張係数が大きいことから熱膨張時の伸長量は極めて大きい。   When the fluid supplied from the fluid supply means to the fluid discharge means is heated to a predetermined temperature, the fluid discharge means is heated by the supplied fluid and thermally expands. At this time, if the thermal expansion of the fluid discharge means is restricted, the fluid discharge means is deformed, the interval between the fluid discharge means and the substrate is not constant, and the fluid discharge port of the fluid discharge means The shape changes. If the distance between the fluid discharge means and the substrate is not constant, the processing conditions become non-uniform, and when the shape of the fluid discharge port changes, the flow rate of the fluid discharged from the fluid discharge port Becomes non-uniform and the substrate processing cannot be performed uniformly. In addition, since the length of the longitudinal direction of the fluid discharge means is increased with the increase in the size of the substrate, the amount of elongation in the longitudinal direction is large when the temperature of the fluid discharge means rises, and this problem becomes more prominent. appear. Further, when the fluid discharge means is made of vinyl chloride resin in consideration of chemical resistance, the amount of elongation at the time of thermal expansion is extremely large because the linear expansion coefficient of vinyl chloride resin is large.

そこで、上述のように、各支持部材の少なくとも一方を流体吐出手段の長手方向に変位可能に第2嵌入部に嵌め込むようにすれば、流体吐出手段が温度上昇してもその長手方向に伸長可能であるので、流体吐出手段が変形して、当該流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなることや、当該流体吐出手段の流体吐出口の形状が変化するのを防止することができる。これにより、流体吐出手段と基板との間の間隔が一定でなくなって基板処理条件が不均一になり、或いは、流体吐出口の形状が変化して、この流体吐出口から吐出される流体の流量が不均一になり、均一な基板処理を実施することができないといった問題が生じるのを防止することができる。   Therefore, as described above, if at least one of the support members is fitted in the second insertion portion so as to be displaceable in the longitudinal direction of the fluid discharge means, the fluid discharge means expands in the longitudinal direction even if the temperature rises. Therefore, it is possible to prevent the fluid discharge means from being deformed and the interval between the fluid discharge means and the substrate from becoming constant and the shape of the fluid discharge port of the fluid discharge means from changing. it can. As a result, the interval between the fluid discharge means and the substrate is not constant and the substrate processing conditions become non-uniform, or the shape of the fluid discharge port changes, and the flow rate of fluid discharged from the fluid discharge port Can be prevented from becoming non-uniform and a problem that uniform substrate processing cannot be performed.

また、前記第2嵌入部についても、前記第1嵌入部と同様、下ローラ及び各保持部材が嵌め込まれるように構成されていても良い。   Also, the second insertion portion may be configured such that the lower roller and each holding member are inserted, similarly to the first insertion portion.

また、前記各架台の第1嵌入部と第2嵌入部は、同一形状に形成されていても良い。このようにすれば、第1嵌入部と第2嵌入部を区別して形成する必要がないので、製造の容易化を図ることができる。   Moreover, the 1st insertion part and the 2nd insertion part of each said mount may be formed in the same shape. In this way, since it is not necessary to distinguish and form the first insertion portion and the second insertion portion, manufacturing can be facilitated.

尚、前記基板処理としては、例えば、エアを吐出して行う液切り処理、エアを吐出して行う乾燥処理、現像液を吐出して行う現像処理、エッチング液を吐出して行うエッチング処理、レジスト剥離液を吐出して行うレジスト剥離処理、洗浄液を吐出して行う洗浄処理などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、このような処理の対象となる基板としては、例えば、シリコン基板やガラス基板などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the substrate processing include a liquid draining process performed by discharging air, a drying process performed by discharging air, a developing process performed by discharging a developer, an etching process performed by discharging an etching solution, and a resist. Examples include, but are not limited to, a resist stripping process performed by discharging a stripping solution and a cleaning process performed by discharging a cleaning liquid. Moreover, examples of the substrate to be treated include a silicon substrate and a glass substrate, but are not limited thereto.

以上のように、本発明に係る基板処理装置によれば、基板搬送用のローラが温度上昇したときにこのローラの回転軸が変形するのを防止し、基板搬送上の問題が生じるのを防止することができる。   As described above, according to the substrate processing apparatus of the present invention, when the temperature of the roller for transporting the substrate rises, the rotating shaft of the roller is prevented from being deformed, and the problem in transporting the substrate is prevented. can do.

本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示した断面図である。It is sectional drawing which showed schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図1における矢示A−A方向の断面図である。It is sectional drawing of the arrow AA direction in FIG. 図1における矢示B−B方向の断面図である。It is sectional drawing of the arrow BB direction in FIG. 本実施形態に係る下ローラ,第1上ローラ及び第2上ローラの保持構造を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the holding structure of the lower roller which concerns on this embodiment, a 1st upper roller, and a 2nd upper roller. 図4における矢示C−C方向の断面図である。It is sectional drawing of the arrow CC direction in FIG. 図4における矢示D−D方向の断面図である。It is sectional drawing of the arrow DD direction in FIG. 図5における矢示E−E方向の断面図である。It is sectional drawing of the arrow EE direction in FIG. 図7におけるF部の詳細図である。It is detail drawing of the F section in FIG. 各架台の嵌入部に各保持部材,スペーサ,下ローラ及び各支持部材が嵌め込まれる前の状態を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the state before each holding member, a spacer, a lower roller, and each support member were fitted by the insertion part of each base. 図3における矢示G−G方向の断面図である。It is sectional drawing of the arrow GG direction in FIG. 下ローラが軸線方向に伸長した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the lower roller extended | stretched to the axial direction.

以下、本発明の具体的な実施形態について、添付図面に基づき説明する。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1乃至図3に示すように、本例の基板処理装置1は、一定内容積を有する処理チャンバ10と、処理チャンバ10内に水平に配置された複数の下ローラ21,第1上ローラ22及び第2上ローラ23により基板Kを水平な搬送方向に搬送する基板搬送機構20と、処理チャンバ10内に配設され、各ローラ21,22,23を回転自在に保持するローラ保持機構30と、基板搬送機構20によって搬送される基板Kの上面に向けて処理液を吐出する処理液吐出機構70と、処理液吐出機構70に処理液を供給する処理液供給機構75と、処理チャンバ10内に設けられ、処理液吐出機構70を支持する支持機構80と、処理チャンバ10を支持するフレーム(図示せず)とを備えて構成される。   As shown in FIGS. 1 to 3, the substrate processing apparatus 1 of this example includes a processing chamber 10 having a constant internal volume, a plurality of lower rollers 21 and first upper rollers 22 arranged horizontally in the processing chamber 10. And a substrate transport mechanism 20 that transports the substrate K in the horizontal transport direction by the second upper roller 23, and a roller holding mechanism 30 that is disposed in the processing chamber 10 and rotatably holds the rollers 21, 22, and 23. The processing liquid discharge mechanism 70 that discharges the processing liquid toward the upper surface of the substrate K transferred by the substrate transfer mechanism 20, the processing liquid supply mechanism 75 that supplies the processing liquid to the processing liquid discharge mechanism 70, and the inside of the processing chamber 10 And a support mechanism 80 that supports the processing liquid discharge mechanism 70 and a frame (not shown) that supports the processing chamber 10.

前記基板搬送機構20は、図1乃至図4に示すように、前記下ローラ21,第1上ローラ22及び第2上ローラ23の他、これらのローラ21,22,23を駆動して回転させる回転駆動部25を備えており、下ローラ21,第1上ローラ22及び第2上ローラ23が基板搬送方向に所定間隔で配設されている。尚、下ローラ21は、各上ローラ22,23よりも短い間隔で設けられている。また、各上ローラ22,23の配置間隔について、ここで詳述しないが、後述する、基板Kを押さえるのに必要な荷重を設定するときの考え方と同様の考え方で設定することができる。   As shown in FIGS. 1 to 4, the substrate transport mechanism 20 drives and rotates these rollers 21, 22, 23 in addition to the lower roller 21, the first upper roller 22, and the second upper roller 23. A rotation drive unit 25 is provided, and a lower roller 21, a first upper roller 22, and a second upper roller 23 are arranged at predetermined intervals in the substrate transport direction. The lower roller 21 is provided at a shorter interval than the upper rollers 22 and 23. Further, although the arrangement interval between the upper rollers 22 and 23 is not described in detail here, it can be set in the same way as the way of thinking described later when setting a load necessary to hold the substrate K.

前記下ローラ21は、基板Kの下側に配置されるもので、基板搬送方向と垂直な水平方向に設けられる回転軸21aと、回転軸21aの軸線方向に所定間隔で設けられ、基板Kを支持する複数のローラ本体21bと、複数のローラ本体21bの内、両端に位置するローラ本体21bの外周部にそれぞれ設けられた、断面が矩形でゴム製のリング部材21cとから構成される。   The lower roller 21 is disposed on the lower side of the substrate K. The lower roller 21 is provided at a predetermined interval in the axial direction of the rotating shaft 21a and the rotating shaft 21a provided in a horizontal direction perpendicular to the substrate transport direction. A plurality of roller main bodies 21b to be supported and a ring member 21c made of rubber and having a rectangular cross section provided on the outer periphery of the roller main bodies 21b located at both ends of the plurality of roller main bodies 21b.

前記第1上ローラ22及び第2上ローラ23は、基板Kの上側に同軸に配置され、それぞれ同じ構成を備えており、下ローラ21の回転軸21aの上方にこれと平行に配置される回転軸22a,23aと、回転軸22a,23aの一端に設けられ、基板Kを押さえる1つのローラ本体22b,23bと、ローラ本体22b,23bの外周部に設けられる、断面が円形でゴム製のリング部材22c,23cとから構成される。   The first upper roller 22 and the second upper roller 23 are coaxially disposed on the upper side of the substrate K, have the same configuration, and are disposed above and parallel to the rotation shaft 21a of the lower roller 21. A ring made of rubber having a circular cross section provided on one end of the shafts 22a and 23a and one end of the rotating shafts 22a and 23a, and on the outer periphery of the roller bodies 22b and 23b. It comprises members 22c and 23c.

前記各ローラ本体22b,23bは、下ローラ21の、前記両端に位置するローラ本体21bの真上に配置されており、これらのローラ本体21b,22b,23bにより基板Kが挟持される。また、各ローラ本体22b,23b及びローラ本体21bの上下のローラ間隔は、基板Kの厚みよりも小さく設定されている。尚、前記各リング部材21c,22c,23cは、グリップ力を高めて確実に基板Kを搬送するために設けられている。   Each of the roller bodies 22b and 23b is disposed right above the roller body 21b located at the both ends of the lower roller 21, and the substrate K is sandwiched between the roller bodies 21b, 22b and 23b. The upper and lower roller intervals of the roller bodies 22b and 23b and the roller body 21b are set smaller than the thickness of the substrate K. Each of the ring members 21c, 22c, and 23c is provided to increase the gripping force and reliably transport the substrate K.

前記回転駆動部25は、下ローラ21の両端にそれぞれ固設された第1伝達ギア26と、各上ローラ22,23の他端に固設され、第1伝達ギア26とそれぞれ噛合する第2伝達ギア27と、下ローラ21の、回転軸21aの一端側に固設された第1伝達ギア26と噛合する駆動ギア28aを有し、この駆動ギア28aを回転させることで、各伝達ギア26,27を介して各回転軸21a,22a,23a(下ローラ21及び各上ローラ22,23)を回転させる駆動機構28とから構成される。   The rotational drive unit 25 is a second transmission gear 26 fixed to both ends of the lower roller 21 and a second transmission gear 26 fixed to the other ends of the upper rollers 22 and 23 and meshed with the first transmission gear 26, respectively. The transmission gear 27 has a drive gear 28a that meshes with a first transmission gear 26 fixed to one end of the rotating shaft 21a of the lower roller 21, and each transmission gear 26 is rotated by rotating the drive gear 28a. , 27 through a drive mechanism 28 for rotating the rotary shafts 21a, 22a, 23a (the lower roller 21 and the upper rollers 22, 23).

前記ローラ保持機構30は、図2乃至図9に示すように、前記基板搬送機構20によって搬送される基板Kの両外側で前記処理チャンバ10の底面に配設された第1ベース31及び第2ベース32と、これらのベース31,32上に配設され、前記下ローラ21の回転軸21aの端部をそれぞれ支持する第1架台33及び第2架台34と、第1架台33に支持され、前記第1上ローラ22の回転軸22aの他端を回転自在に保持する第1保持部材50と、第2架台34に支持され、前記第2上ローラ23の回転軸23aの他端を回転自在に保持する第2保持部材51とを備える。   As shown in FIGS. 2 to 9, the roller holding mechanism 30 includes a first base 31 and a second base disposed on the bottom surface of the processing chamber 10 on both outer sides of the substrate K transported by the substrate transport mechanism 20. The base 32, the first base 33 and the second base 34, which are disposed on the bases 31 and 32 and support the end of the rotating shaft 21a of the lower roller 21, respectively, are supported by the first base 33, A first holding member 50 that rotatably holds the other end of the rotation shaft 22a of the first upper roller 22 and a second frame 34 are supported, and the other end of the rotation shaft 23a of the second upper roller 23 is rotatable. And a second holding member 51 to be held.

前記各架台33,34は、基板搬送方向にそれぞれ細長く形成された平板状の部材から構成され、基板Kを間に挟んで対向している。また、各架台33,34には、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の嵌入部35,36が長手方向に複数形成されており、これらの嵌入部35,36は、その下部側が下ローラ21の回転軸21aの嵌め込み部分(下ローラ嵌込部)35a,36aと、上部側が各保持部材50,51の嵌め込み部分(上ローラ嵌込部)35b,36bと、下ローラ嵌込部35a,36aと上ローラ嵌込部35b,36bとの間がスペーサ37,38の嵌め込み部分(スペーサ嵌込部)35c,36cとなっている。尚、前記上ローラ嵌込部35b,36bは、後述するように、スリットノズル体71を支持する各支持部材81,82の嵌め込み部分としても機能するようになっている。   Each of the pedestals 33 and 34 is composed of a plate-like member that is elongated in the substrate transport direction, and faces each other with the substrate K interposed therebetween. Each of the pedestals 33 and 34 is formed with a plurality of U-shaped insertion portions 35 and 36 formed by cutting out the upper portions thereof in the longitudinal direction, and these insertion portions 35 and 36 are formed at the lower portions thereof. On the side is the fitting portion (lower roller fitting portion) 35a, 36a of the rotating shaft 21a of the lower roller 21, and on the upper side is the fitting portion (upper roller fitting portion) 35b, 36b of each holding member 50, 51, and lower roller fitting Between the portions 35a, 36a and the upper roller fitting portions 35b, 36b are fitting portions (spacer fitting portions) 35c, 36c of the spacers 37, 38. The upper roller fitting portions 35b and 36b also function as fitting portions for the support members 81 and 82 that support the slit nozzle body 71, as will be described later.

前記下ローラ21の回転軸21aには、その一端部にこの一端部を回転自在に支持する第1軸受39が設けられるとともに、他端部には、この他端部を回転自在に支持する第2軸受40が設けられており、前記第1軸受39が前記第1架台33の下ローラ嵌込部35aに着脱可能に嵌め込まれ、前記第2軸受40が前記第2架台34の下ローラ嵌込部36aに着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれている。前記下ローラ嵌込部35aに嵌め込まれた第1軸受39は、この第1軸受39を挟持するように第1架台33の両側面にねじ込まれる複数の固定ボルト(規制部材)41によって、当該第1軸受39の軸線方向における移動が規制されている。   The rotating shaft 21a of the lower roller 21 is provided with a first bearing 39 that rotatably supports the one end at one end thereof, and a second bearing that rotatably supports the other end at the other end. Two bearings 40 are provided, the first bearing 39 is detachably fitted into the lower roller fitting portion 35a of the first frame 33, and the second bearing 40 is fitted to the lower roller of the second frame 34. The part 36a is detachably fitted and movably fitted in the axial direction. The first bearing 39 fitted in the lower roller fitting portion 35a is provided with a plurality of fixing bolts (regulating members) 41 screwed into both side surfaces of the first mount 33 so as to sandwich the first bearing 39. The movement of the one bearing 39 in the axial direction is restricted.

前記各スペーサ嵌込部35c,36cは、前記各嵌入部35,36の両側壁に、各架台33,34の両側面に開口するように形成された貫通溝42,43から構成されており、これらの貫通溝42,43内に平板状のスペーサ37,38が水平に嵌め込まれるようになっている。スペーサ37,38には、その長手方向の一端から横方向に突出した突出部37a,38aが形成されており、この突出部37a,38aが、各架台33,34の基板K側の側面にねじ込まれる固定ボルト44,45によって各架台33,34に固定されている。   Each of the spacer fitting portions 35c, 36c is formed of through grooves 42, 43 formed on both side walls of the fitting portions 35, 36 so as to open on both side surfaces of the mounts 33, 34, Flat spacers 37 and 38 are horizontally fitted in the through grooves 42 and 43. The spacers 37 and 38 are formed with projecting portions 37a and 38a projecting laterally from one end in the longitudinal direction, and the projecting portions 37a and 38a are screwed into the side surfaces of the respective platforms 33 and 34 on the substrate K side. The fixing bolts 44 and 45 are fixed to the mounts 33 and 34.

前記各上ローラ嵌込部35b,36bは、その両側壁間の間隔が下ローラ嵌込部35a,36aの両側壁間の間隔よりも広く形成され、また、両側壁には、凹溝46,47が上下方向に沿うように形成されている。   Each of the upper roller fitting portions 35b, 36b is formed such that the interval between both side walls is wider than the interval between both side walls of the lower roller fitting portions 35a, 36a. 47 is formed along the vertical direction.

前記各保持部材50,51は、それぞれ直方体ブロック状の部材から構成され、長手方向が上下方向となるように設けられる。また、各保持部材50,51は、前記各上ローラ22,23の回転軸22a,23aの他端を回転自在に支持する軸受52,53と、基板K側の面からその反対側の面に貫通し、内部に軸受52,53が設けられる保持穴50a,51aと、所定の荷重で基板Kを押さえるための錘54,55と、上部に形成され、錘54,55が収容される収容穴50b,51bと、下部側の側面で前記各嵌入部35,36の両側壁と対向する部分に形成され、この両側壁に当接する凸部50c,51cと、凸部50c,51cに上下方向に沿うように形成され、前記凹溝46,47と嵌合可能な突起50d,51dとを備えている。   The holding members 50 and 51 are each composed of a rectangular parallelepiped block-like member, and are provided such that the longitudinal direction is the vertical direction. The holding members 50 and 51 are respectively provided with bearings 52 and 53 that rotatably support the other ends of the rotation shafts 22a and 23a of the upper rollers 22 and 23, and from the surface on the substrate K side to the opposite surface. Holding holes 50a and 51a that pass through and are provided with bearings 52 and 53 therein, weights 54 and 55 for holding the substrate K with a predetermined load, and accommodation holes that are formed in the upper part and accommodate the weights 54 and 55 50b and 51b, and formed on the lower side surface at the portions facing both side walls of the fitting portions 35 and 36, and projecting portions 50c and 51c in contact with the both side walls and the projecting portions 50c and 51c in the vertical direction. Protrusions 50d and 51d that are formed along the concave grooves 46 and 47 and can be fitted are provided.

また、各保持部材50,51は、凹溝46,47及び突起50d,51dが嵌合することで、前記各上ローラ嵌込部35b,36bに着脱可能に嵌め込まれるとともに、凹溝46,47及び突起50d,51dが嵌合した状態で上下方向に移動可能となっている。各上ローラ嵌込部35b,36bに嵌め込まれた各保持部材50,51は、その下面がスペーサ37,38の上面に当接し、これによって、当該各保持部材50,51の高さ位置が位置決めされ、各ローラ本体22b,23b及びローラ本体21bの上下のローラ間隔が所定間隔に設定される。   The holding members 50 and 51 are detachably fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b by fitting the concave grooves 46 and 47 and the protrusions 50d and 51d, and the concave grooves 46 and 47. In addition, the projections 50d and 51d can be moved in the vertical direction in a state where they are fitted. The lower surfaces of the holding members 50 and 51 fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b are in contact with the upper surfaces of the spacers 37 and 38, whereby the height positions of the holding members 50 and 51 are positioned. The upper and lower roller intervals of the roller bodies 22b and 23b and the roller body 21b are set to a predetermined interval.

前記突起50d,51dは、その突出量が前記凹溝46,47の深さより低く、また、その先端面の両角部が面取りされており、これによって、突起50d,51dの先端部と凹溝46,47との間に隙間56,57が形成されている。また、凹溝46,47の開口角部が面取りされており、これによって、突起50d,51dの付け根と凹溝46,47の開口部との間に隙間58,59が形成されるようになっている。前記各保持部材50,51の下端近傍の側面には前記凸部50c,51cが設けられておらず、これによって、当該側面と前記各嵌入部35,36の両側壁との間には、前記隙間56,57,58,59と各嵌入部35,36の外部とを連通させる隙間(連通部)60,61が形成されている。   The protrusions 50d and 51d have a protrusion amount lower than the depth of the concave grooves 46 and 47, and both corners of the front end surfaces are chamfered, whereby the front ends of the protrusions 50d and 51d and the concave grooves 46 are formed. , 47 are formed between the gaps 56, 57. Further, the opening corners of the concave grooves 46 and 47 are chamfered, whereby gaps 58 and 59 are formed between the roots of the protrusions 50d and 51d and the openings of the concave grooves 46 and 47. ing. The convex portions 50c, 51c are not provided on the side surfaces in the vicinity of the lower ends of the holding members 50, 51, so that the gaps between the side surfaces and the side walls of the fitting portions 35, 36 are as described above. Clearances (communication portions) 60 and 61 for communicating the clearances 56, 57, 58 and 59 with the outsides of the fitting portions 35 and 36 are formed.

前記錘54は、第1保持部材50及び第1上ローラ22の全体重量により5N〜35Nの荷重で基板Kを押さえることが可能な重さに設定され、前記錘55は、第2保持部材51及び第2上ローラ23の全体重量により5N〜35Nの荷重で基板Kを押さえることが可能な重さに設定される。   The weight 54 is set to a weight capable of pressing the substrate K with a load of 5N to 35N according to the total weight of the first holding member 50 and the first upper roller 22, and the weight 55 is set to the second holding member 51. The weight of the second upper roller 23 is set to a weight that can hold the substrate K with a load of 5N to 35N.

尚、前記下ローラ21の回転軸21aは、その軸線方向の中間部についても保持することが好ましく、本例では、例えば、前記処理チャンバ10の底面に配設された複数の中間部保持部材65により回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持されている。また、前記各架台33,34の、基板K側の側面と反対側の側面には、取付板67が設けられており、この取付板67が前記処理チャンバ10の側壁に設けられた支持部材68に接続されている。   In addition, it is preferable that the rotating shaft 21a of the lower roller 21 also holds an intermediate portion in the axial direction. In this example, for example, a plurality of intermediate portion holding members 65 disposed on the bottom surface of the processing chamber 10 are used. Is held so as to be rotatable and displaceable in the axial direction. A mounting plate 67 is provided on the side surface of each of the mounts 33 and 34 opposite to the side surface on the substrate K side, and the mounting plate 67 is provided on the side wall of the processing chamber 10. It is connected to the.

前記処理液吐出機構70は、図1,図3及び図10に示すように、各ローラ21,22,23によって搬送される基板Kの上方且つ下ローラ21の真上に配置されるスリットノズル体71及び複数のスプレーノズル体72とから構成されており、スリットノズル体71がスプレーノズル体72より基板搬送方向上流側に配置される。   As shown in FIGS. 1, 3 and 10, the processing liquid discharge mechanism 70 is a slit nozzle body disposed above the substrate K and just above the lower roller 21 conveyed by the rollers 21, 22 and 23. 71 and a plurality of spray nozzle bodies 72, and the slit nozzle body 71 is arranged upstream of the spray nozzle body 72 in the substrate transport direction.

前記スリットノズル体71は、基板搬送方向と垂直な方向における基板Kの全幅に渡るように、基板Kの上面と平行且つ基板搬送方向と垂直な方向に細長く形成される。また、スリットノズル体71は、中空部71aと、下面に開口し、中空部71aに接続したスリット状の吐出穴71bとを備え、前記処理液供給機構75から中空部71a内に供給される処理液を吐出穴71bから下方の基板Kに向けて真下に吐出する。   The slit nozzle body 71 is elongated in a direction parallel to the upper surface of the substrate K and perpendicular to the substrate transport direction so as to cover the entire width of the substrate K in the direction perpendicular to the substrate transport direction. The slit nozzle body 71 includes a hollow portion 71a and a slit-like discharge hole 71b that is open on the lower surface and connected to the hollow portion 71a, and is supplied from the processing liquid supply mechanism 75 into the hollow portion 71a. The liquid is discharged directly from the discharge hole 71b toward the lower substrate K.

前記スプレーノズル体72は、前記スリットノズル体71より上方に配置され、基板搬送方向にも、基板搬送方向と垂直な方向にも並設されており、前記処理液供給機構75から供給される処理液を下方の基板Kに向けて吐出する。   The spray nozzle body 72 is disposed above the slit nozzle body 71, arranged in parallel in the substrate transport direction and in the direction perpendicular to the substrate transport direction, and is supplied from the processing liquid supply mechanism 75. The liquid is discharged toward the lower substrate K.

前記処理液供給機構75は、前記スリットノズル体71に処理液を供給するための第1供給管76と、第1供給管76とスリットノズル体71の中空部71aとを接続する複数の接続管77と、前記各スプレーノズル体72に処理液を供給するための複数の第2供給管78と、これらの供給管76,78に処理液を供給する処理液供給部79とを備える。   The treatment liquid supply mechanism 75 includes a first supply pipe 76 for supplying a treatment liquid to the slit nozzle body 71, and a plurality of connection pipes that connect the first supply pipe 76 and the hollow portion 71a of the slit nozzle body 71. 77, a plurality of second supply pipes 78 for supplying the processing liquid to the spray nozzle bodies 72, and a processing liquid supply unit 79 for supplying the processing liquid to the supply pipes 76 and 78.

前記第1供給管76は、その一部が前記処理チャンバ10内でスリットノズル体71の上方に基板搬送方向と垂直に設けられる。前記接続管77は、第1供給管76の軸線方向に一定間隔で設けられる。前記各第2供給管78は、これらの一部が前記処理チャンバ10内で基板搬送方向と垂直に設けられ、基板搬送方向に一定間隔を隔てて平行に配置される。また、これらの第2供給管78の下部には、その軸線方向に一定間隔で前記スプレーノズル体72が固設されている。   A part of the first supply pipe 76 is provided above the slit nozzle body 71 in the processing chamber 10 and perpendicular to the substrate transport direction. The connection pipes 77 are provided at regular intervals in the axial direction of the first supply pipe 76. A part of each of the second supply pipes 78 is provided in the processing chamber 10 in a direction perpendicular to the substrate transport direction, and is arranged in parallel with a certain interval in the substrate transport direction. The spray nozzle body 72 is fixed to the lower part of the second supply pipes 78 at regular intervals in the axial direction.

前記支持機構80は、図3,図5,図6,図9及び図10に示すように、前記スリットノズル体71を支持するもので、このスリットノズル体71の長手方向の一端部を支持する第1支持部材81と、長手方向の他端部を支持する第2支持部材82とから構成されている。   As shown in FIGS. 3, 5, 6, 9, and 10, the support mechanism 80 supports the slit nozzle body 71 and supports one end portion in the longitudinal direction of the slit nozzle body 71. The first support member 81 and a second support member 82 that supports the other end portion in the longitudinal direction are configured.

前記各支持部材81,82は、それぞれ矩形平板状の部材から構成され、長手方向が上下方向となるように設けられる。また、各支持部材81,82は、それぞれ取付部材83,84を介してスリットノズル体71の長手方向の端部を支持しており、前記各上ローラ嵌込部35b,36bに着脱可能に嵌め込まれるようになっている。尚、各支持部材81,82は、各上ローラ嵌込部35b,36bに嵌め込まれた状態において、外面が前記各嵌入部35,36の両側壁と当接しているが、スリットノズル体71の長手方向には移動可能となっている。   Each of the support members 81 and 82 is formed of a rectangular flat plate member, and is provided such that the longitudinal direction is the vertical direction. The support members 81 and 82 support end portions in the longitudinal direction of the slit nozzle body 71 via attachment members 83 and 84, respectively, and are detachably fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b. It is supposed to be. The support members 81 and 82 are in contact with both side walls of the fitting portions 35 and 36 in the state where the supporting members 81 and 82 are fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b. It is movable in the longitudinal direction.

また、各支持部材81,82の、スリットノズル体71の長手方向と垂直な両側面には、その上部に、横方向に張り出した張出部81a,82aが形成され、これらの張出部81a,82aには、下端が突出して各架台33,34の上面に当接する高さ調整ボルト85,86が上側からそれぞれねじ込まれている。各上ローラ嵌込部35b,36bに嵌め込まれた各支持部材81,82は、各高さ調整ボルト85,86の下端が各架台33,34の上面に当接することで、高さ位置が位置決めされ、これにより、スリットノズル体71と基板Kとの間の間隔が所定間隔に設定される。   Further, on both side surfaces of each support member 81, 82 perpendicular to the longitudinal direction of the slit nozzle body 71, overhang portions 81a, 82a projecting in the lateral direction are formed on the upper portions, and these overhang portions 81a. , 82a are respectively screwed from above with height adjusting bolts 85, 86 that project from the lower ends and come into contact with the upper surfaces of the mounts 33, 34. The supporting members 81 and 82 fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b are positioned at their height positions by the lower ends of the height adjusting bolts 85 and 86 coming into contact with the upper surfaces of the mounts 33 and 34. Thus, the interval between the slit nozzle body 71 and the substrate K is set to a predetermined interval.

尚、前記スリットノズル体71は、その長手方向の中間部についても支持することが好ましく、本例では、例えば、上端が処理チャンバ10の天井面に接続した複数の第3支持部材87の下端部によって支持されている。また、この第3支持部材87は、その中間部で前記第1供給管76を支持している。   In addition, it is preferable that the slit nozzle body 71 also supports an intermediate portion in the longitudinal direction. In this example, for example, the lower ends of a plurality of third support members 87 whose upper ends are connected to the ceiling surface of the processing chamber 10. Is supported by. Further, the third support member 87 supports the first supply pipe 76 at an intermediate portion thereof.

以上のように構成された本例の基板処理装置1によれば、回転駆動部25により下ローラ21及び各上ローラ22,23が駆動されて回転し、基板Kが処理チャンバ10内を所定の搬送方向に沿って搬送される。その際、基板Kが下ローラ21及び各上ローラ22,23の間を通過するときには、各保持部材50,51及び各上ローラ22,23が凹溝46,47及び突起50d,51dにより案内されつつ上方に移動し、各保持部材50,51及び各上ローラ22,23の重量で基板Kが押さえられる。   According to the substrate processing apparatus 1 of this example configured as described above, the rotation roller 25 drives and rotates the lower roller 21 and the upper rollers 22 and 23 to rotate the substrate K in the processing chamber 10 in a predetermined manner. It is transported along the transport direction. At this time, when the substrate K passes between the lower roller 21 and the upper rollers 22 and 23, the holding members 50 and 51 and the upper rollers 22 and 23 are guided by the concave grooves 46 and 47 and the protrusions 50d and 51d. While moving upward, the substrate K is pressed by the weights of the holding members 50 and 51 and the upper rollers 22 and 23.

ここで、各上ローラ22,23が基板Kを押さえ付ける荷重をそれぞれ5N〜35Nとすることが可能な錘54,55を各保持部材50,51に設けているので、押さえ付ける力が小さ過ぎ、上ローラ22,23や下ローラ21が空転して確実な基板搬送に支障を生じることもないし、逆に、押さえ付ける力が大き過ぎ、基板Kが割れるといった不都合を生じることもない。したがって、何ら不都合を生じることなく、確実に基板Kを搬送することができる。   Here, since the holding members 50 and 51 are provided with the weights 54 and 55 capable of setting the loads for the upper rollers 22 and 23 to press the substrate K to 5N to 35N, the pressing force is too small. Further, the upper rollers 22 and 23 and the lower roller 21 do not slip and cause trouble in reliable substrate conveyance, and conversely, the pressing force is too large and the problem that the substrate K breaks does not occur. Therefore, the substrate K can be reliably transported without causing any inconvenience.

尚、基板Kを押さえるのに必要な荷重を設定するに当たっては、例えば、スリットノズル体71及び各スプレーノズル体72から吐出される流体の種類、スリットノズル体71及び各スプレーノズル体72から吐出される流体が薬液である場合にその薬液の種類(例えば、界面活性剤が含まれているかどうかなど)、基板サイズ、基板Kの表面状態(例えば、表面粗さやぬれ性など)、スリットノズル体71及び各スプレーノズル体72から吐出された流体が基板Kに当たったときの打力に基づく反力(基板Kを押し戻す力)などに応じて設定すれば良い。また、吐出される流体を考慮する必要があるのは、吐出される流体がエア,純水又は薬液であるとすると、エア,純水及び薬液の順にローラが滑って空転し易くなるからであり、また、反力を考慮する必要があるのは、例えば、エアを吐出して行う液切りを行う場合で、エアの吐出方向が基板搬送方向に対して逆方向且つ斜め下方向に設定されているときには、特に反力が大きくなるからである。   In setting the load necessary to hold the substrate K, for example, the type of fluid discharged from the slit nozzle body 71 and each spray nozzle body 72, the discharge from the slit nozzle body 71 and each spray nozzle body 72, and the like. When the fluid to be treated is a chemical solution, the type of the chemical solution (for example, whether a surfactant is included), the substrate size, the surface state of the substrate K (for example, surface roughness, wettability, etc.), the slit nozzle body 71 And it may be set according to the reaction force (force to push back the substrate K) based on the striking force when the fluid discharged from each spray nozzle body 72 hits the substrate K. In addition, it is necessary to consider the fluid to be discharged because if the fluid to be discharged is air, pure water, or chemical liquid, the rollers are likely to slip and run idle in the order of air, pure water, and chemical liquid. Also, the reaction force needs to be taken into account, for example, when performing liquid draining by discharging air, and the air discharge direction is set to be opposite to the substrate transport direction and obliquely downward. This is because the reaction force is particularly large when the user is present.

また、第1保持部材50及び第1上ローラ22の全体重量や、第2保持部材51及び第2上ローラ23の全体重量によって加えることが可能な荷重よりも高い荷重を基板Kに加えるには、ばねを用いることも可能であるが、このばねは、通常、金属から構成され、耐薬品性に劣っていることから被覆する必要がある。したがって、錘54,55で基板Kに掛かる荷重を調整すれば、錘54,55を被覆するにしても、ばねに比べて容易であるし、また、各保持部材50,51に錘収容用の収容穴50b,51bを形成してこの収容穴50b,51b内に収容すれば、簡単に錘54,55を設けることができる。このとき、本例のように、収容穴50b,51bの形成位置を、例えば、各保持部材50,51の、基板K側とは反対側の側面など、スリットノズル体71及び各スプレーノズル体72から吐出される処理液の影響を受け難い位置にすれば、錘54,55を特に被覆することなく設けることも可能である。   In addition, a load higher than the load that can be applied by the total weight of the first holding member 50 and the first upper roller 22 and the total weight of the second holding member 51 and the second upper roller 23 is applied to the substrate K. Although it is possible to use a spring, this spring is usually made of a metal and is poor in chemical resistance, so it needs to be covered. Therefore, if the load applied to the substrate K by the weights 54 and 55 is adjusted, even if the weights 54 and 55 are covered, it is easier than the spring, and the holding members 50 and 51 are provided for weight storage. If the accommodation holes 50b and 51b are formed and accommodated in the accommodation holes 50b and 51b, the weights 54 and 55 can be easily provided. At this time, as in this example, the formation positions of the accommodation holes 50b and 51b are set to the slit nozzle body 71 and the spray nozzle bodies 72 such as the side surfaces of the holding members 50 and 51 opposite to the substrate K side. The weights 54 and 55 can be provided without being particularly covered if the position is not easily affected by the processing liquid discharged from the head.

そして、このようにして搬送される基板Kの上面には、処理液供給部79から第1供給管76及び接続管77を介してスリットノズル体71に、処理液供給部79から第2供給管78を介して各スプレーノズル体72にそれぞれ供給される処理液が、これらスリットノズル体71及び各スプレーノズル体72から吐出され、これにより、基板Kに所定の処理が施される。   Then, on the upper surface of the substrate K transported in this manner, the processing liquid supply unit 79 passes through the first supply pipe 76 and the connection pipe 77 to the slit nozzle body 71, and the processing liquid supply unit 79 connects to the second supply pipe. The processing liquid supplied to each spray nozzle body 72 via 78 is discharged from the slit nozzle body 71 and each spray nozzle body 72, whereby a predetermined process is performed on the substrate K.

各スプレーノズル体72から吐出された処理液は、各保持部材50,51や各架台33,34にかかって凹溝46,47と突起50d,51dとの間に入り込むが、本例では、前記突起50d,51dの先端部と凹溝46,47との間に隙間56,57を、突起50d,51dの付け根と凹溝46,47の開口部との間に隙間58,59を、各保持部材50,51の下端近傍の側面と各嵌入部35,36の両側壁との間に前記隙間56,57,58,59と各嵌入部35,36の外部とを連通させる隙間60,61を形成しているので、凹溝46,47と突起50d,51dとの間に流入した処理液を、これらの隙間56,57,58,59,60,61を介して嵌入部35,36の外部に効果的に流出させることができ、吐出された処理液が結晶化して凹溝46,47の内面や突起50d,51dの外面に固着するのを防止することができる。これにより、基板Kが下ローラ21及び各上ローラ22,23の間を通過するときに各保持部材50,51を確実に上昇させることができ、基板が割れる、基板が欠けるといった問題が生じるのを防止することができる。   The processing liquid discharged from each spray nozzle body 72 enters between the concave grooves 46 and 47 and the protrusions 50d and 51d on the holding members 50 and 51 and the mounts 33 and 34. The gaps 56 and 57 are held between the tips of the protrusions 50d and 51d and the grooves 46 and 47, and the gaps 58 and 59 are held between the roots of the protrusions 50d and 51d and the openings of the grooves 46 and 47, respectively. Gap 60, 61 for communicating the gaps 56, 57, 58, 59 and the outside of the fitting portions 35, 36 between the side surfaces near the lower ends of the members 50, 51 and the side walls of the fitting portions 35, 36. Since it is formed, the processing liquid that has flowed in between the concave grooves 46 and 47 and the protrusions 50d and 51d is passed through the gaps 56, 57, 58, 59, 60, and 61 to the outside of the fitting portions 35 and 36. The discharged processing liquid can be effectively discharged The inner surface and the projection 50d of the groove 46, 47 is crystallized, from sticking to the outer surface of the 51d can be prevented. Thereby, when the board | substrate K passes between the lower roller 21 and each upper roller 22,23, each holding member 50,51 can be raised reliably, and the problem that a board | substrate cracks or a board | substrate is missing arises. Can be prevented.

また、下ローラ21の他端部を支持する第2軸受40が第2架台34の下ローラ嵌込部36aに軸線方向に移動可能に嵌め込まれているので、スリットノズル体71及び各スプレーノズル体72から吐出された処理液や、当該処理液により昇温せしめられた処理チャンバ10内の雰囲気によって下ローラ21が加熱され、温度上昇しても、この温度上昇による回転軸21aの伸長が許容される。一方、各上ローラ22,23については、第1上ローラ22を保持する第1保持部材50が第1架台33により、第2上ローラ23を保持する第2保持部材51が第2架台34によりそれぞれ支持されているので、各上ローラ22,23が温度上昇してもこの温度上昇による回転軸22a,23aの伸長が規制されない。   In addition, since the second bearing 40 that supports the other end of the lower roller 21 is fitted in the lower roller fitting portion 36a of the second frame 34 so as to be movable in the axial direction, the slit nozzle body 71 and each spray nozzle body The lower roller 21 is heated by the processing liquid discharged from 72 and the atmosphere in the processing chamber 10 heated by the processing liquid, and even if the temperature rises, the rotation shaft 21a is allowed to extend due to the temperature rise. The On the other hand, for each of the upper rollers 22 and 23, the first holding member 50 that holds the first upper roller 22 is provided by the first frame 33, and the second holding member 51 that holds the second upper roller 23 is provided by the second frame 34. Since each is supported, even if the temperature of each upper roller 22, 23 rises, the extension of the rotating shafts 22a, 23a due to this temperature rise is not restricted.

したがって、各ローラ21,22,23が温度上昇したときにこれらの回転軸21a,22a,23aが伸長可能であるので、回転軸21a,22a,23aが変形して撓むのを防止することができる。これにより、基板Kを所定の搬送方向にまっすぐに搬送することができないという問題を生じるのを防止することができ、また、基板Kが割れるのを防止することができる。   Therefore, since the rotation shafts 21a, 22a, and 23a can be extended when the temperatures of the rollers 21, 22, and 23 rise, it is possible to prevent the rotation shafts 21a, 22a, and 23a from being deformed and bent. it can. Accordingly, it is possible to prevent the problem that the substrate K cannot be transported straight in a predetermined transport direction, and it is possible to prevent the substrate K from cracking.

また、このように、下ローラ21の回転軸21aが伸長すると、図11に示すように、下ローラ21のローラ本体21bの位置と各上ローラ22,23のローラ本体22b,23bの位置とが回転軸21a,22a,23aの軸線方向にずれる。このとき、各ローラ21,22,23のローラ本体21b,22b,23bの外周面が半円形に形成されていると、基板Kに剪断方向の力が作用して、基板Kが破損する、リング部材21c,22c,23cが損傷する、基板Kが蛇行して搬送されるといった問題を生じる。尚、図11において、符号α,βは、軸線方向の位置ずれ量をそれぞれ示している。   Further, when the rotating shaft 21a of the lower roller 21 is extended in this way, as shown in FIG. 11, the position of the roller body 21b of the lower roller 21 and the position of the roller bodies 22b and 23b of the upper rollers 22 and 23 are changed. The rotation shafts 21a, 22a, 23a are displaced in the axial direction. At this time, if the outer peripheral surfaces of the roller bodies 21b, 22b, and 23b of the rollers 21, 22, and 23 are formed in a semicircular shape, a shearing direction force acts on the substrate K, and the substrate K is damaged. There arises a problem that the members 21c, 22c, and 23c are damaged, and the substrate K is meandered and conveyed. In FIG. 11, symbols α and β indicate the amount of positional deviation in the axial direction.

このため、下ローラ21の、各上ローラ22,23に対応したローラ本体21bの外周部に、断面が矩形のリング部材21cを設けて、ローラ本体21bの外周面を一定幅の平坦面としている。したがって、上記のような位置ずれが生じても、前記リング部材21cによって、各上ローラ22,23のローラ本体22b,23bにより基板Kに作用する力を受けることができる。これにより、基板Kに剪断方向の力が作用して、基板Kが破損するという問題や、リング部材21c,22c,23cが損傷するという問題、基板Kが蛇行して搬送されるという問題が生じるのを防止することができる。   For this reason, a ring member 21c having a rectangular cross section is provided on the outer peripheral portion of the roller main body 21b corresponding to each of the upper rollers 22 and 23 of the lower roller 21, and the outer peripheral surface of the roller main body 21b is a flat surface having a constant width. . Therefore, even if the above positional deviation occurs, the ring member 21c can receive the force acting on the substrate K by the roller bodies 22b and 23b of the upper rollers 22 and 23. As a result, there arises a problem that the shearing force is applied to the substrate K to break the substrate K, the ring members 21c, 22c, and 23c are damaged, and the substrate K is meandered and conveyed. Can be prevented.

また、スリットノズル体71の長手方向の両端部を支持する第1支持部材81及び第2支持部材82が、下ローラ嵌込部35a,36aにスリットノズル体71の長手方向に移動可能に嵌め込まれているので、処理液供給部79からスリットノズル体71に供給される処理液により当該スリットノズル体71が加熱され、熱膨張しても、スリットノズル体71はその長手方向に伸長することができる。   Further, the first support member 81 and the second support member 82 that support both ends in the longitudinal direction of the slit nozzle body 71 are fitted into the lower roller fitting portions 35a and 36a so as to be movable in the longitudinal direction of the slit nozzle body 71. Therefore, even if the slit nozzle body 71 is heated and thermally expanded by the processing liquid supplied from the processing liquid supply unit 79 to the slit nozzle body 71, the slit nozzle body 71 can extend in the longitudinal direction. .

したがって、スリットノズル体71の熱膨張が規制されていることにより当該スリットノズル体71が変形して、スリットノズル体71と基板Kとの間の間隔が一定でなくなることや、スリットノズル体71の吐出穴71bの形状が変化するのを防止することができる。これにより、スリットノズル体71と基板Kとの間の間隔が一定でなくなって基板処理条件が不均一になり、或いは、吐出穴71bの形状が変化して、この吐出穴71bから吐出される処理液の流量が不均一になり、均一な基板処理を実施することができなくなるのを防止することができる。   Therefore, when the thermal expansion of the slit nozzle body 71 is restricted, the slit nozzle body 71 is deformed, and the interval between the slit nozzle body 71 and the substrate K is not constant. It is possible to prevent the shape of the discharge hole 71b from changing. As a result, the interval between the slit nozzle body 71 and the substrate K is not constant, the substrate processing conditions become non-uniform, or the shape of the discharge hole 71b changes, and the process is discharged from the discharge hole 71b. It can be prevented that the flow rate of the liquid becomes non-uniform and uniform substrate processing cannot be performed.

また、メンテナンス時などにおいて各上ローラ22,23を取り外す際には、各保持部材50,51を各上ローラ嵌込部35b,36bから取り出すだけで良く、当該作業が容易である。一方、各上ローラ22,23を取り付ける際には、凹溝46,47及び突起50d,51dが嵌合するように各保持部材50,51を各上ローラ嵌込部35b,36bに嵌め込むだけで良く、当該作業が容易であり、しかも、凹溝46,47及び突起50d,51dの嵌合により高精度に取り付けることができる。また、下ローラ21についても、各上ローラ22,23と同様、下ローラ嵌込部35a,36aに着脱可能に嵌め込むようにしているので、上記と同様の効果を得ることができる。   Moreover, when removing each upper roller 22 and 23 at the time of maintenance etc., it is only necessary to take out each holding member 50 and 51 from each upper roller fitting part 35b and 36b, and the said operation | work is easy. On the other hand, when the upper rollers 22 and 23 are attached, the holding members 50 and 51 are simply fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b so that the concave grooves 46 and 47 and the protrusions 50d and 51d are fitted. The operation is easy, and it can be attached with high accuracy by fitting the concave grooves 46 and 47 and the projections 50d and 51d. In addition, since the lower roller 21 is detachably fitted into the lower roller fitting portions 35a and 36a in the same manner as the upper rollers 22 and 23, the same effect as described above can be obtained.

また、各保持部材50,51を各上ローラ嵌込部35b,36bに嵌め込む際には、スペーサ37,38により、各上ローラ嵌込部35b,36bに嵌め込まれた各保持部材50,51の下方への移動を規制して、各保持部材50,51を所定の高さ位置に位置決めすることができる。これにより、各保持部材50,51の取り付けをより簡単にすることができるだけでなく、各保持部材50,51の再取付後においても、下ローラ21及び各上ローラ22,23の上下のローラ間隔を高精度なものとすることができる。   Further, when the holding members 50 and 51 are fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b, the holding members 50 and 51 fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b by the spacers 37 and 38, respectively. The holding members 50 and 51 can be positioned at a predetermined height position by restricting the downward movement of the holding members 50 and 51. Thereby, not only can the attachment of the holding members 50 and 51 be simplified, but also the distance between the upper and lower rollers of the lower roller 21 and the upper rollers 22 and 23 after the attachment of the holding members 50 and 51 is improved. Can be made highly accurate.

また、スリットノズル体71と基板Kとの間の間隔は、処理内容に応じて最適な間隔が設定されており、この間隔が変わると、基板処理の条件が変わって最適な基板処理を行うことができなくなるので、スリットノズル体71を再設置する際には前記間隔が最適な間隔となるように調整する必要があり、また、スリットノズル体71の基板搬送方向における位置も、スリットノズル体71から吐出された処理液が下ローラ21によって支持されている部分にほぼ当たるように設定されており、この位置が変わって前記吐出された処理液が下ローラ21により支持されていない部分に当たると、前記吐出された処理液が基板Kに当たったときの打力により、処理内容によっては処理ムラが生じるので、スリットノズル体71を再設置する際には前記位置が前記設定された位置となるように調整する必要があるが、本例では、スリットノズル体71の両端部を支持する各支持部材81,82を各上ローラ嵌込部35b,36bに嵌め込むことや、各支持部材81,82を各上ローラ嵌込部35b,36bから取り出すことで、スリットノズル体71を着脱することができるので、当該着脱作業が容易であり、また、スリットノズル体71を精度良く各架台33,34に取り付けることができる。   In addition, the interval between the slit nozzle body 71 and the substrate K is set to an optimum interval according to the processing content, and when this interval changes, the substrate processing conditions change and the optimum substrate processing is performed. Therefore, when the slit nozzle body 71 is re-installed, it is necessary to adjust the distance so as to be an optimum distance, and the position of the slit nozzle body 71 in the substrate transport direction is also adjusted. Is set so that the processing liquid discharged from the lower roller 21 substantially hits the portion, and when this position is changed and the discharged processing liquid hits a portion not supported by the lower roller 21, When the slit nozzle body 71 is reinstalled, processing irregularities occur depending on the processing content due to the striking force when the discharged processing liquid hits the substrate K. In this example, it is necessary to adjust the support members 81 and 82 that support both ends of the slit nozzle body 71 to the upper roller fitting portions 35b and 36b. Since the slit nozzle body 71 can be attached and detached by fitting or removing the support members 81 and 82 from the upper roller fitting portions 35b and 36b, the attachment / detachment work is easy. The body 71 can be attached to each mount 33, 34 with high accuracy.

また、各上ローラ嵌込部35b,36bに各保持部材50,51と各支持部材81,82の両方を嵌め込むことができるので、保持部材50,51用の嵌込部と支持部材81,82用の嵌込部とをそれぞれ形成する必要がなく、製造の容易化を図ることができる。   Further, since both the holding members 50 and 51 and the supporting members 81 and 82 can be fitted into the upper roller fitting portions 35b and 36b, the fitting portions for the holding members 50 and 51 and the supporting member 81, It is not necessary to form the fitting portion for 82, and the manufacturing can be facilitated.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限定されるものではない。   As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, the specific aspect which this invention can take is not limited to this at all.

例えば、スリットノズル体71から吐出される処理液の吐出方向は真下でなくても良く、また、スリットノズル体71の長手方向は基板搬送方向に垂直でなくても良い。また、搬送される基板Kは水平でなくても良い。   For example, the discharge direction of the processing liquid discharged from the slit nozzle body 71 may not be directly below, and the longitudinal direction of the slit nozzle body 71 may not be perpendicular to the substrate transport direction. Further, the substrate K to be transferred may not be horizontal.

また、前記基板処理は、何ら限定されるものではなく、例えば、エアを吐出して行う液切り処理、エアを吐出して行う乾燥処理、現像液を吐出して行う現像処理、エッチング液を吐出して行うエッチング処理、レジスト剥離液を吐出して行うレジスト剥離処理、洗浄液を吐出して行う洗浄処理などを挙げることができる。また、このような処理の対象となる基板Kについても、何ら限定されるものではなく、例えば、シリコン基板やガラス基板などを挙げることができる。   The substrate processing is not limited in any way. For example, a liquid draining process performed by discharging air, a drying process performed by discharging air, a developing process performed by discharging a developer, and an etching liquid discharged. An etching process performed in this manner, a resist stripping process performed by discharging a resist stripping liquid, a cleaning process performed by discharging a cleaning liquid, and the like can be given. Further, the substrate K to be processed is not limited at all, and examples thereof include a silicon substrate and a glass substrate.

1 基板処理装置
21 下ローラ
22,23 上ローラ
25 回転駆動部
33,34 架台
35,36 嵌入部
46,47 凹溝
50,51 保持部材
50d,51d 突起
71 スリットノズル体
72 スプレーノズル体
81,82 支持部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing apparatus 21 Lower roller 22, 23 Upper roller 25 Rotation drive part 33, 34 Mount 35, 36 Insertion part 46, 47 Groove 50, 51 Holding member 50d, 51d Protrusion 71 Slit nozzle body 72 Spray nozzle body 81, 82 Support member

Claims (11)

基板を搬送しながらその上面に流体を供給してこの基板を処理する装置であって、
前記基板の搬送方向と垂直な回転軸をそれぞれ有し、前記基板の下方にその搬送方向に沿って並設されてこの基板を支持する複数の下ローラと、前記下ローラの回転軸と平行な回転軸を有し、少なくとも1つの前記下ローラの上方に配置されて、前記基板の幅方向の一端部を押さえる第1上ローラ及び前記基板の幅方向の他端部を押さえる第2上ローラと、少なくとも1つの前記下ローラの回転軸を駆動して回転させる回転駆動機構とを備え、前記下ローラ及び各上ローラにより前記基板を挟持して搬送する基板搬送手段と、
前記各ローラを回転自在に保持するローラ保持手段と、
前記基板搬送手段によって搬送される基板の上方に配置され、その上面に向けて流体を吐出する流体吐出手段と、
前記流体吐出手段に流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段を支持する支持手段とを備えた基板処理装置において、
前記ローラ保持手段は、前記基板の両外側で一定間隔を隔てて対向して前記基板の搬送方向に細長く形成された平板状の第1架台及び第2架台であって、前記下ローラの回転軸の一端部を回転自在に保持する第1架台及び前記下ローラの回転軸の他端部を回転自在に且つ軸線方向に変位可能に保持する第2架台と、前記第1架台に支持され、前記第1上ローラの回転軸を回転自在に保持する第1保持部材と、前記第2架台に支持され、前記第2上ローラの回転軸を回転自在に保持する第2保持部材とを備え、
前記第1架台及び第2架台は、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の第1嵌入部をそれぞれ有し、この第1嵌入部に前記第1保持部材及び第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成され、
前記各第1嵌入部の両側壁、及び各保持部材の外面の、前記第1嵌入部の両側壁に対応する部分には、その一方に凹溝が、他方に突起が上下方向に沿うように且つ互いに嵌合可能に形成され、
前記各保持部材は、前記凹溝及び突起が嵌合して前記第1嵌入部に嵌め込まれるとともに、前記凹溝及び突起が嵌合した状態で上下方向に移動可能に構成されてなることを特徴とする基板処理装置。
An apparatus for processing a substrate by supplying a fluid to the upper surface of the substrate while conveying the substrate,
A plurality of lower rollers each having a rotation axis perpendicular to the transport direction of the substrate, arranged in parallel along the transport direction below the substrate and supporting the substrate, and parallel to the rotation shaft of the lower roller A first upper roller that has a rotation shaft and is disposed above at least one of the lower rollers, and that presses one end in the width direction of the substrate; and a second upper roller that presses the other end in the width direction of the substrate; A rotation driving mechanism for driving and rotating at least one rotation shaft of the lower roller, and a substrate conveying means for nipping and conveying the substrate by the lower roller and each upper roller;
Roller holding means for rotatably holding the rollers;
A fluid ejecting means disposed above the substrate transported by the substrate transporting means and ejecting a fluid toward the upper surface thereof;
Fluid supply means for supplying fluid to the fluid ejection means;
In a substrate processing apparatus comprising a support means for supporting the fluid discharge means,
The roller holding means is a flat plate-like first frame and a second frame that are opposed to each other on both outer sides of the substrate with a predetermined interval and are elongated in the conveyance direction of the substrate. A first frame that rotatably holds one end of the second frame, a second frame that holds the other end of the rotating shaft of the lower roller rotatably and displaceably in the axial direction, and is supported by the first frame, A first holding member that rotatably holds the rotation shaft of the first upper roller; and a second holding member that is supported by the second frame and that rotatably holds the rotation shaft of the second upper roller;
The first frame and the second frame each have a U-shaped first insertion part formed by cutting out the upper part thereof, and the first holding member and the second holding member are provided in the first insertion part. It is configured to be detachably fitted,
In the both side walls of each first insertion portion and the outer surface of each holding member corresponding to both side walls of the first insertion portion, a concave groove is provided on one side, and a protrusion is provided along the vertical direction on the other side. And are formed so that they can be fitted together,
Each of the holding members is configured to be fitted in the first insertion portion by fitting the concave groove and the projection, and to be movable in the vertical direction with the concave groove and the projection fitted. A substrate processing apparatus.
前記各上ローラは、それぞれ1つのローラ本体を備え、
前記下ローラは、その回転軸の軸線方向に複数のローラ本体を備えるとともに、これらのローラ本体の内、両端に位置するローラ本体が前記各上ローラのローラ本体と上下に対向するように構成され、
少なくとも、前記第2上ローラのローラ本体及び前記下ローラの、第2上ローラに対応したローラ本体は、その一方の外周面が半円形に形成され、他方の外周面が一定幅を有する平坦面に形成されてなることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
Each of the upper rollers includes a roller body.
The lower roller includes a plurality of roller bodies in the axial direction of the rotation shaft, and the roller bodies located at both ends of the roller bodies are configured to face the roller bodies of the upper rollers in the vertical direction. ,
At least the roller body corresponding to the second upper roller of the roller body of the second upper roller and the lower roller is a flat surface in which one outer peripheral surface is formed in a semicircular shape and the other outer peripheral surface has a certain width. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus is formed.
前記下ローラ及び各上ローラの上下のローラ間隔が前記基板の厚みより小さく設定されている場合において、
前記突起の先端と凹溝との間、及び、前記突起の付け根と凹溝の開口部との間には、隙間がそれぞれ形成されるとともに、前記各保持部材と第1嵌入部との間には、前記凹溝の下部側又は下方で前記隙間と前記第1嵌入部外の空間とを連通させる連通部がそれぞれ形成されてなることを特徴とする請求項1又は2記載の基板処理装置。
In the case where the upper and lower roller intervals of the lower roller and each upper roller are set smaller than the thickness of the substrate,
A gap is formed between the tip of the protrusion and the groove, and between the root of the protrusion and the opening of the groove, and between each holding member and the first insertion portion. 3. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a communication portion is formed on the lower side or below the concave groove to communicate the gap with the space outside the first insertion portion. 4.
前記各保持部材は、予め設定された荷重で前記基板を押さえるための錘をそれぞれ備えてなることを特徴とする請求項1乃至3記載のいずれかの基板処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein each holding member includes a weight for pressing the substrate with a preset load. 前記第1保持部材の錘は、前記第1保持部材及び第1上ローラ全体の重量により5N〜35Nの荷重で前記基板の一端部を押さえることが可能な重さであり、前記第2保持部材の錘は、前記第2保持部材及び第2上ローラ全体の重量により5N〜35Nの荷重で前記基板の他端部を押さえることが可能な重さであることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。   The weight of the first holding member has a weight capable of pressing one end of the substrate with a load of 5N to 35N according to the weight of the first holding member and the first upper roller, and the second holding member. 5. The weight according to claim 4, wherein the weight is capable of pressing the other end of the substrate with a load of 5 N to 35 N based on the weight of the second holding member and the second upper roller. Substrate processing equipment. 前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第1軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第2軸受が設けられ、
前記第1架台の第1嵌入部には、その下側に、前記第1軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第1保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第2架台の第1嵌入部には、その下側に、前記第2軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第1嵌入部の、少なくとも前記各保持部材が嵌め込まれる部分には、前記凹溝又は突起が形成され、
前記第1軸受又は第1架台には、この第1軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられてなることを特徴とする請求項1乃至5記載のいずれかの基板処理装置。
A first bearing that rotatably supports the one end portion is provided at one end portion of the rotating shaft of the lower roller, and the other end portion is rotatably disposed at the other end portion of the rotating shaft of the lower roller. A supporting second bearing is provided,
The first insertion portion of the first pedestal has a portion in which the first bearing is detachably fitted on the lower side, and a portion in which the first holding member is detachably fitted on the upper side. Formed,
The first insertion portion of the second pedestal has a portion in which the second bearing is fitted detachably and movably in the axial direction on the lower side, and the second holding member on the upper side. Is formed to be detachably fitted,
The groove or protrusion is formed in at least a portion of the first insertion portion into which each holding member is fitted,
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the first bearing or the first mount is provided with a regulating member that regulates movement of the first bearing in the axial direction.
前記各架台の第1嵌入部の、前記各軸受が嵌め込まれる部分と、前記各保持部材が嵌め込まれる部分との間には、前記各保持部材の下端に当接して前記各上ローラの高さ位置を位置決めするためのスペーサがそれぞれ設けられてなることを特徴とする請求項6記載の基板処理装置。   The height of each upper roller is in contact with the lower end of each holding member between the portion into which each bearing is fitted and the portion into which each holding member is fitted in the first fitting portion of each base. The substrate processing apparatus according to claim 6, further comprising a spacer for positioning the position. 前記流体吐出手段は、前記基板の搬送方向と交差する方向においてこの基板の全幅に渡るように細長く形成され、
前記支持手段は、前記流体吐出手段の長手方向の一端部を支持する第1支持部材と、前記流体吐出手段の長手方向の他端部を支持する第2支持部材とを備え、
前記第1架台及び第2架台は、その上部が切り欠かれて形成されるU字状の第2嵌入部をそれぞれ有し、この第2嵌入部に前記第1支持部材及び第2支持部材が着脱可能に嵌め込まれるように構成されてなることを特徴とする請求項1乃至7記載のいずれかの基板処理装置。
The fluid discharge means is formed in an elongated shape so as to extend over the entire width of the substrate in a direction intersecting the transport direction of the substrate.
The support means includes a first support member that supports one end portion in the longitudinal direction of the fluid discharge means, and a second support member that supports the other end portion in the longitudinal direction of the fluid discharge means,
The first frame and the second frame each have a U-shaped second insertion part formed by cutting out the upper part thereof, and the first support member and the second support member are provided in the second insertion part, respectively. 8. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus is configured to be detachably fitted.
前記各架台の第2嵌入部の少なくとも一方には、前記第1支持部材又は第2支持部材が前記流体吐出手段の長手方向に変位可能に嵌め込まれてなることを特徴とする請求項8記載の基板処理装置。   The said 1st support member or the 2nd support member is engage | inserted by at least one of the 2nd insertion part of each said mount so that a displacement in the longitudinal direction of the said fluid discharge means is characterized by the above-mentioned. Substrate processing equipment. 前記下ローラの回転軸の一端部には、この一端部を回転自在に支持する第1軸受が設けられるとともに、前記下ローラの回転軸の他端部には、この他端部を回転自在に支持する第2軸受が設けられ、
前記第1架台の第2嵌入部には、その下側に、前記第1軸受が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第1保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第2架台の第2嵌入部には、その下側に、前記第2軸受が着脱可能に且つ軸線方向に移動可能に嵌め込まれる部分が形成されるとともに、上側には、前記第2保持部材が着脱可能に嵌め込まれる部分が形成され、
前記第1軸受又は第1架台には、この第1軸受の軸線方向における移動を規制する規制部材が設けられてなることを特徴とする請求項8又は9記載の基板処理装置。
A first bearing that rotatably supports the one end portion is provided at one end portion of the rotating shaft of the lower roller, and the other end portion is rotatably disposed at the other end portion of the rotating shaft of the lower roller. A supporting second bearing is provided,
A portion in which the first bearing is detachably fitted is formed on the second insertion portion of the first frame on the lower side, and a portion in which the first holding member is detachably fitted on the upper side. Formed,
A portion of the second insertion portion of the second pedestal is formed on the lower side thereof so that the second bearing is detachably attached and movable in the axial direction, and on the upper side, the second holding member is formed. Is formed to be detachably fitted,
The substrate processing apparatus according to claim 8, wherein the first bearing or the first mount is provided with a regulating member that regulates movement of the first bearing in the axial direction.
前記各架台の第1嵌入部と第2嵌入部は、同一形状に形成されてなることを特徴とする請求項8乃至10記載のいずれかの基板処理装置。   11. The substrate processing apparatus according to claim 8, wherein the first insertion portion and the second insertion portion of each of the mounts are formed in the same shape.
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