JP5667827B2 - Substrate processing apparatus and transfer apparatus - Google Patents

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Description

この発明は基板を処理液で処理しながら搬送する基板の処理装置及び搬送装置に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus and a transfer apparatus that transfer a substrate while processing the substrate with a processing liquid.

例えば、液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板には、リソグラフィープロセス等が採用され、その表面に回路パターンが形成される。基板は、連続して並設された処理装置内を順次通過することで、処理液によって基板を処理する工程、処理液による処理後に洗浄液によって洗浄する工程、基板表面にエアーを噴射して乾燥させる工程等の回路パターンを形成する処理が行われる。   For example, a lithography process or the like is employed for a glass substrate used for a liquid crystal display panel, and a circuit pattern is formed on the surface thereof. The substrate sequentially passes through the processing apparatuses arranged side by side, thereby processing the substrate with the processing liquid, cleaning with the cleaning liquid after processing with the processing liquid, and drying by spraying air onto the substrate surface. A process of forming a circuit pattern such as a process is performed.

具体的には、これらの工程を行う処理装置は、処理槽と、それぞれの工程で処理を行うための処理手段と、基板の搬送装置とを有し、工程順に並設してなる。また、処理装置は、処理槽の壁面に基板の搬入口及び搬出口を有し、隣り合う処理装置の搬出口と搬入口とが隣接する。   Specifically, the processing apparatus that performs these steps includes a processing tank, processing means for performing processing in each step, and a substrate transfer device, and is arranged in parallel in the order of the steps. In addition, the processing apparatus has a substrate inlet / outlet on the wall surface of the processing tank, and an outlet and an inlet of an adjacent processing apparatus are adjacent to each other.

搬送装置は、これら搬入口及び搬出口を介して順次処理槽内へ基板を搬送することで、各処理装置内で基板が処理される。なお、搬送装置は、例えば進行方向に向って回転する複数の搬送軸及び搬送軸にそれぞれ複数設けられた支持ローラを備え、この支持ローラにより基板の下面を支持し、且つ、搬送軸の回転駆動により基板を搬送する搬送ローラ機構を備える。   The transfer device sequentially transfers the substrate into the processing tank through the carry-in port and the carry-out port, whereby the substrate is processed in each processing device. The transport device includes, for example, a plurality of transport shafts that rotate in the traveling direction, and a plurality of support rollers provided on each of the transport shafts. The support rollers support the lower surface of the substrate, and the transport shaft is driven to rotate. A transport roller mechanism for transporting the substrate.

基板は、このような構成の処理装置や搬送装置により、各工程において設けられた複数の処理装置の処理槽内に順次搬送されながら各処理手段により処理がなされる。このように、基板は、各工程の処理装置の処理槽内に移動し、各工程で処理を行いながら、次工程への移動を繰り返すことで複数の処理装置により処理がなされ、回路パターンが形成されることとなる。   The substrate is processed by each processing means while being sequentially transferred into the processing tanks of a plurality of processing apparatuses provided in each step by the processing apparatus and the transfer apparatus having such a configuration. In this way, the substrate moves into the processing tank of the processing device of each process, and processing is performed by a plurality of processing devices by repeatedly moving to the next process while processing is performed in each process, thereby forming a circuit pattern. Will be.

ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、基板に供給された処理液の重量によって基板の撓みが大きくなり、基板の搬送が円滑に行なえなくなるということがある。しかも、基板の上面に多量の処理液が残留した状態で、基板が処理部から搬出されることになるから、処理液を回収して再利用する場合、処理液の消費量が多くなり、ランニングコストの上昇を招く一因になる。   Recently, glass substrates used in liquid crystal display devices tend to be larger and thinner. For this reason, when the substrate is transported horizontally, the substrate may be bent more greatly due to the weight of the processing liquid supplied to the substrate, and the substrate may not be transported smoothly. Moreover, since the substrate is unloaded from the processing section with a large amount of processing liquid remaining on the upper surface of the substrate, when the processing liquid is recovered and reused, the consumption of the processing liquid increases and running This contributes to an increase in cost.

このような問題を解決するため、最近では基板を所定の角度で傾斜させて搬送する処理装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。このような処理装置を用いることで、基板の板面に供給された処理液を円滑に流出させ、基板の撓みを少なくすることが可能となる。   In order to solve such a problem, a processing apparatus that conveys a substrate at a predetermined angle is recently known (see, for example, Patent Document 1). By using such a processing apparatus, it is possible to smoothly flow out the processing liquid supplied to the plate surface of the substrate and reduce the bending of the substrate.

また、基板の大型化に伴い、基板の下面を支持する搬送ローラ機構だけでは、基板を搬送する駆動力が不足することもある。そこで、基板の上面に所謂上乗せローラ機構を設け、基板を確実に搬送させる技術も知られている。   In addition, with the increase in size of the substrate, the driving force for transporting the substrate may be insufficient with only the transport roller mechanism that supports the lower surface of the substrate. Therefore, a technique is also known in which a so-called extra roller mechanism is provided on the upper surface of the substrate to reliably convey the substrate.

特開2005−286001号公報JP 2005-286001 A

上述した基板の処理装置では、以下の問題があった。即ち、基板を傾斜して搬送する処理装置においては、上乗せローラ機構は、基板の上面に設けられる構成である。このため、基板に噴射した処理液が、傾斜方向に勢い良く流れ、上乗せローラ機構のローラの上面側に傾斜して位置する主面に衝突する。当該衝突した処理液は、ローラの主面方向、換言すると、基板の搬送方向に飛散することとなる。このため、主として、隣接する処理装置の処理槽へと、処理液が浸入することとなる。   The substrate processing apparatus described above has the following problems. That is, in the processing apparatus that conveys the substrate at an angle, the upper roller mechanism is provided on the upper surface of the substrate. For this reason, the processing liquid sprayed on the substrate vigorously flows in the tilt direction and collides with a main surface that is tilted and positioned on the upper surface side of the roller of the addition roller mechanism. The impinging treatment liquid is scattered in the main surface direction of the roller, in other words, in the substrate transport direction. For this reason, a process liquid will mainly infiltrate into the processing tank of an adjacent processing apparatus.

例えば、洗浄工程として、基板を純水(処理液)で洗浄する処理装置においては、その一次側は、基板上を例えばブラシ室と呼ばれるブラシ及び洗剤で基板を洗浄するブラシ工程を行う処理装置が配置される。しかし、洗浄工程で用いる純水がブラシ工程を行う処理槽内に浸入すると、当該処理装置で循環して使用する洗剤に純水が混じり、洗剤の濃度が低減する。このため、当該洗剤の使用回数の低減や洗浄効果の減少等となり、製造コストが増大する虞がある。   For example, in a processing apparatus that cleans a substrate with pure water (treatment liquid) as a cleaning process, the primary side is a processing apparatus that performs a brush process for cleaning the substrate with a brush and a detergent called a brush chamber on the substrate. Be placed. However, when the pure water used in the cleaning process enters the treatment tank in which the brush process is performed, the pure water is mixed with the detergent that is circulated and used in the treatment apparatus, and the concentration of the detergent is reduced. For this reason, the number of times of use of the detergent is reduced, the cleaning effect is reduced, and the production cost may be increased.

他方、水の飛散を防止するために上乗せローラ機構を用いない場合には、搬送できる基板に制限が発生する等の弊害がある。また、例えば、水の飛散を防止するために、上乗せローラ機構や処理手段の配置を変更すると、処理装置自体の大型化となる虞もある。   On the other hand, when the additional roller mechanism is not used in order to prevent scattering of water, there are problems such as restrictions on the substrates that can be transported. Further, for example, if the arrangement of the upper roller mechanism or the processing means is changed in order to prevent water from scattering, the processing apparatus itself may be increased in size.

これらのことから、基板の処理装置は、大型化を防止するとともに、製造コストの低減が求められている。   For these reasons, substrate processing apparatuses are required to prevent an increase in size and to reduce manufacturing costs.

そこで本発明は、傾斜して基板を搬送する搬送装置に上乗せローラ機構を設けても、処理液の飛散を防止することが可能な基板の処理装置及び搬送装置を提供することを目的としている。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a transport apparatus that can prevent the processing liquid from being scattered even if an upper roller mechanism is provided in a transport apparatus that transports a substrate at an angle.

前記課題を解決し目的を達成するために、次のように構成された基板の処理装置及び搬送装置が提供される。   In order to solve the above problems and achieve the object, a substrate processing apparatus and a transport apparatus configured as follows are provided.

本発明の一態様として、所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と垂直な方向に搬送される基板の上面を処理液によって処理する基板の処理装置であって、前記基板を搬入する搬入口及び前記基板を搬出する搬出口を有する処理槽と、前記搬入口から前記搬出口まで複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸及びこれら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構、及び、前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ及び前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構を具備する搬送装置と、前記処理液を前記搬送装置により搬送された前記基板に供給する供給装置と、を備えることを特徴とする基板の処理装置が提供される。 As one aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus for processing a top surface of a substrate that is tilted at a predetermined angle and is transported in a direction perpendicular to the tilting direction with a processing liquid, A plurality of processing tanks having a carry-out port for carrying out the substrate; a plurality of transfer shafts that are provided from the carry-in port to the carry-out port, and that are inclined and rotated at the predetermined angle; A conveying roller mechanism having a supporting roller for supporting, a rotating shaft provided to face at least one of the plurality of conveying shafts, a roller provided on the rotating shaft and in contact with upper surfaces of both end portions of the substrate; A transport apparatus comprising an upper roller mechanism having a truncated cone shape or a conical rectifying member provided on an upper slope of the roller contacting the lower end of the inclined substrate; and The substrate processing apparatus, characterized in that it comprises a supply device for supplying to the substrate conveyed by the conveying device management solution is provided.

本発明の一態様として、給装置から供給される処理液によって処理する基板を、所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と垂直な方向に前記基板を搬送する搬送装置であって、前記基板の搬送方向に沿って複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸及びこれら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構と、前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ、及び、前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構と、を備えることを特徴とする搬送装置が提供される。 One aspect of the present invention, the substrate to be processed by the processing liquid supplied from the supply device, is inclined at a predetermined angle, a transfer device for transferring the substrate in the inclination direction perpendicular, the substrate multiple provided along the conveying direction of the conveying roller mechanism having a support roller for supporting the substrate provided with a plurality of each of the conveying shaft and these conveying shaft rotates inclined at said predetermined angle, said plurality A rotating shaft provided to face at least one of the conveying shafts, a roller provided on the rotating shaft and in contact with upper surfaces of both end portions of the substrate, and a lower end portion of the inclined substrate. And an upper roller mechanism having a truncated cone shape or a conical rectifying member provided on the upper slope of the roller in contact therewith.

この発明によれば、傾斜して基板を搬送する搬送装置に上乗せローラを設けても、処理液の飛散を防止することが可能な基板の処理装置及び搬送装置を提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a substrate processing apparatus and a transport apparatus that can prevent the processing liquid from being scattered even if an additional roller is provided on the transport apparatus that transports the substrate at an inclination.

本発明の一実施の形態に係る基板の処理装置の構成を模式的に示す説明図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Explanatory drawing which shows typically the structure of the processing apparatus of the board | substrate which concerns on one embodiment of this invention. 同処理装置の構成を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the processing apparatus typically. 同処理装置に用いられる搬送装置の要部構成を模式的に示す上面図。The top view which shows typically the principal part structure of the conveying apparatus used for the processing apparatus. 同搬送装置の要部構成を示す側面図。The side view which shows the principal part structure of the conveying apparatus. 同搬送装置の要部構成の一部を示す側面図。The side view which shows a part of principal part structure of the same conveying apparatus. 同搬送装置の要部構成の一部を示す側面図。The side view which shows a part of principal part structure of the same conveying apparatus. 同搬送装置の要部構成の一部を示す側面図。The side view which shows a part of principal part structure of the same conveying apparatus. 本発明の変形例に係る基板の処理装置の傾斜ローラの構成を模式的に示す説明図。Explanatory drawing which shows typically the structure of the inclination roller of the processing apparatus of the board | substrate which concerns on the modification of this invention.

以下、本発明の一実施の形態に係る基板100の処理装置1を、図1乃至図7を用いて説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板100の処理装置1の構成を模式的に示す説明図、図2は処理装置1の構成、特に搬送装置4の構成を示す正面図、図3は搬送装置4の上乗せローラ機構15の要部構成を模式的に示す上面図、図4は同上乗せローラ機構15のキャップ32を示す側面図、図5は上乗せローラ機構15のローラ31の構成を一部断面で示す側面図、図6は同上乗せローラ機構15のキャップ32の構成を示す側面図、図7は上乗せローラ機構15のスペーサ34の構成を示す側面図である。なお、図1中、Fは基板100の搬送方向を示す。
Hereinafter, a processing apparatus 1 for a substrate 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing the configuration of a processing apparatus 1 for a substrate 100 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a front view showing the configuration of the processing apparatus 1, particularly the configuration of a transfer apparatus 4. 3 is a top view schematically showing the configuration of the main part of the upper roller mechanism 15 of the conveying device 4, FIG. 4 is a side view showing the cap 32 of the upper roller mechanism 15, and FIG. 5 is the configuration of the roller 31 of the upper roller mechanism 15. FIG. 6 is a side view showing the configuration of the cap 32 of the upper roller mechanism 15, and FIG. 7 is a side view showing the configuration of the spacer 34 of the upper roller mechanism 15. In FIG. 1, F indicates the transport direction of the substrate 100.

図1に示すように、基板100の処理装置1は、基板100の処理工程の一である洗浄工程又は基板100の純水等の洗浄液による洗浄工程等に用いられる。なお、処理装置1の一次側には、基板100をブラシ113及び洗剤等の薬液により洗浄する洗浄工程に用いられる処理装置110が設けられる。また、処理装置1の二次側には、洗浄した基板100を乾燥させる乾燥工程に用いられる処理装置120が設けられる。   As shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 for a substrate 100 is used in a cleaning process that is one of the processing processes for the substrate 100 or a cleaning process for the substrate 100 using a cleaning liquid such as pure water. On the primary side of the processing apparatus 1, there is provided a processing apparatus 110 used in a cleaning process for cleaning the substrate 100 with a chemical solution such as a brush 113 and a detergent. Further, on the secondary side of the processing apparatus 1, a processing apparatus 120 used in a drying process for drying the cleaned substrate 100 is provided.

なお、処理装置110は、処理槽111と、搬送装置112と、ブラシ113と、エアーナイフ114と、処理手段である薬液の供給装置(不図示)と、を備えている。処理槽111は、基板100の搬入口(不図示)と、搬出口116と、を備えている。搬送装置112は、基板100を、搬入口から搬出口116まで搬送する搬送ローラ機構117を複数有している。   The processing device 110 includes a processing tank 111, a transport device 112, a brush 113, an air knife 114, and a chemical solution supply device (not shown) as processing means. The processing tank 111 includes a carry-in port (not shown) for the substrate 100 and a carry-out port 116. The transport apparatus 112 includes a plurality of transport roller mechanisms 117 that transport the substrate 100 from the transport inlet to the transport outlet 116.

ブラシ113は、基板100の処理手段であり、供給装置により供給された薬液とともに、基板100の上下面を洗浄可能に形成されている。エアーナイフ114は、処理装置110で処理した基板100の上下面にエアーを噴射し、基板100に付着した薬液を飛散させることが可能に形成されている。   The brush 113 is a processing means for the substrate 100, and is formed so that the upper and lower surfaces of the substrate 100 can be cleaned together with the chemical solution supplied by the supply device. The air knife 114 is formed such that air is sprayed onto the upper and lower surfaces of the substrate 100 processed by the processing apparatus 110 so that the chemical solution attached to the substrate 100 can be scattered.

エアーナイフ114は、搬出口116の付近に配置される。なお、処理装置110で用いられる薬液は、基板100を洗浄する洗剤である。このような洗剤は、処理装置110内に設けられた循環装置で、所定回数繰り返し使用される。   The air knife 114 is disposed in the vicinity of the carry-out port 116. Note that the chemical solution used in the processing apparatus 110 is a detergent that cleans the substrate 100. Such a detergent is repeatedly used a predetermined number of times in a circulation device provided in the processing apparatus 110.

処理装置120は、処理槽121と、搬送装置122と、処理手段である乾燥装置(不図示)と、を備えている。処理槽121は、基板100の搬入口123と、搬出口と、を備えている。   The processing device 120 includes a processing tank 121, a transport device 122, and a drying device (not shown) as processing means. The processing tank 121 includes a carry-in port 123 for the substrate 100 and a carry-out port.

図1に示すように、搬送装置122は、複数の搬送ローラ124と、上乗せローラ機構125と、を備えている。乾燥装置は、例えば、複数のエアーナイフであり、基板100の上下面に空気を噴射し、基板100表面を乾燥可能に形成されている。   As shown in FIG. 1, the transport device 122 includes a plurality of transport rollers 124 and an upper roller mechanism 125. The drying device is, for example, a plurality of air knives, and is formed such that air is sprayed onto the upper and lower surfaces of the substrate 100 so that the surface of the substrate 100 can be dried.

なお、これら処理装置110,120は、一例であって、他の処理を行う装置であってもよい。   In addition, these processing apparatuses 110 and 120 are an example, Comprising: The apparatus which performs another process may be sufficient.

処理装置1は、基板100を所定の角度で傾斜させるとともにこの傾斜方向と交差する方向に搬送し、且つ、基板100上に純水等の流体(処理液)を噴射することで、基板100を洗浄処理が可能に形成されている。具体的に説明すると、処理装置1は、処理槽3と、搬送装置4と、処理手段5と、エアーナイフ6を備えている。   The processing apparatus 1 tilts the substrate 100 at a predetermined angle, conveys the substrate 100 in a direction crossing the tilting direction, and ejects a fluid (processing liquid) such as pure water onto the substrate 100 to thereby clean the substrate 100. The cleaning process is possible. If it demonstrates concretely, the processing apparatus 1 is provided with the processing tank 3, the conveying apparatus 4, the processing means 5, and the air knife 6. FIG.

処理槽3は、箱型状に形成され、その内部に搬送装置4、処理手段5及びエアーナイフ6を配置可能に形成されている。処理槽3は、その側面であって、所定の方向の一端面に搬入口10が、他端面に搬出口11が、形成されている。なお、所定の方向とは、基板100の搬送方向であり、図1中矢印Fで示す。これら搬入口10及び搬出口11は、基板100を処理槽3内に搬入及び搬出可能な形状に形成されている。   The processing tank 3 is formed in a box shape, and is formed so that the transfer device 4, the processing means 5, and the air knife 6 can be disposed therein. The processing tank 3 is a side surface, and a carry-in port 10 is formed on one end surface in a predetermined direction, and a carry-out port 11 is formed on the other end surface. Note that the predetermined direction is a direction in which the substrate 100 is transported, and is indicated by an arrow F in FIG. The carry-in port 10 and the carry-out port 11 are formed in a shape that allows the substrate 100 to be carried into and out of the processing tank 3.

搬送装置4は、図1中矢印Fで示す所定の方向に沿って一定間隔に配置された複数の搬送ローラ機構13と、搬送ローラ機構13を駆動させる駆動手段14と、搬送ローラ機構13の一部と対向して設けられた上乗せローラ機構15と、を備えている。搬送装置4は、駆動手段14により駆動された搬送ローラ機構13の回転により、搬送ローラ機構13上の基板100を搬送可能に形成されている。   The conveyance device 4 includes a plurality of conveyance roller mechanisms 13 arranged at regular intervals along a predetermined direction indicated by an arrow F in FIG. 1, a drive unit 14 that drives the conveyance roller mechanism 13, and one of the conveyance roller mechanisms 13. And an additional roller mechanism 15 provided to face the portion. The transport device 4 is formed so that the substrate 100 on the transport roller mechanism 13 can be transported by the rotation of the transport roller mechanism 13 driven by the driving unit 14.

また、搬送装置4は、図2に示すように、矩形枠状のフレーム16を有する。このフレーム16は、処理槽3内の幅方向一端と他端とに設けられた受け部材17によって支持されている。一方の受け部材17には高さ調整部材18が設けられている。それによって、フレーム16は処理槽3の幅方向に対して所定の角度、例えば5度の角度で傾斜している。   Moreover, the conveying apparatus 4 has the frame 16 of a rectangular frame shape as shown in FIG. The frame 16 is supported by receiving members 17 provided at one end and the other end in the width direction in the processing tank 3. One receiving member 17 is provided with a height adjusting member 18. Thereby, the frame 16 is inclined at a predetermined angle, for example, an angle of 5 degrees with respect to the width direction of the processing tank 3.

搬送ローラ機構13は、フレーム16に設けられ、その軸線を処理槽3の幅方向に沿わせた複数の搬送軸21と、複数の支持ローラ22と、を備えている。搬送ローラ機構13は、搬入口10から搬出口11まで基板100を搬送可能に搬送軸21が複数配置されている。搬送軸21は、処理槽3の長手方向に対して所定間隔で複数設けられている。また、搬送軸21は、受け部材17及び調整部材18により傾斜するフレーム16に設けられることで、当該フレーム16と同様に所定の角度で傾斜して設けられる。   The transport roller mechanism 13 is provided on the frame 16 and includes a plurality of transport shafts 21 whose axes are aligned in the width direction of the processing tank 3 and a plurality of support rollers 22. The transport roller mechanism 13 includes a plurality of transport shafts 21 that can transport the substrate 100 from the transport inlet 10 to the transport outlet 11. A plurality of transport shafts 21 are provided at predetermined intervals with respect to the longitudinal direction of the processing tank 3. Further, the conveyance shaft 21 is provided on the frame 16 that is inclined by the receiving member 17 and the adjusting member 18, so that the conveyance shaft 21 is inclined at a predetermined angle similarly to the frame 16.

支持ローラ22は、搬送軸21に、その長手方向に沿って所定間隔で複数設けられている。支持ローラ22は、円板状に形成されるとともに、その外周面にOリング(図2中、不図示)を有し、このOリングが基板100と当接することで、基板100を支持可能に形成されている。   A plurality of support rollers 22 are provided on the transport shaft 21 at predetermined intervals along the longitudinal direction thereof. The support roller 22 is formed in a disk shape, and has an O-ring (not shown in FIG. 2) on the outer peripheral surface thereof. The O-ring comes into contact with the substrate 100 so that the substrate 100 can be supported. Is formed.

駆動手段14は、搬送軸21及び後述する回転軸27の両端を回転可能に支持するフレーム16の幅方向両端に設けられた軸受23と、搬送軸21及び回転軸27を回転駆動させる駆動源24と、この駆動源24の駆動力を搬送軸21に伝達する歯車機構等の伝達手段25と、を備えている。なお、駆動手段14は、搬送軸21及び回転軸27を回転駆動させる構成であれば、適宜設定可能である。   The driving means 14 includes bearings 23 provided at both ends in the width direction of the frame 16 that rotatably supports both ends of the transport shaft 21 and a rotation shaft 27 described later, and a drive source 24 that rotationally drives the transport shaft 21 and the rotation shaft 27. And a transmission means 25 such as a gear mechanism for transmitting the driving force of the driving source 24 to the conveying shaft 21. The driving unit 14 can be set as appropriate as long as the conveying shaft 21 and the rotating shaft 27 are driven to rotate.

上乗せローラ機構15は、フレーム16に設けられ、その軸線を処理槽3の幅方向に沿わせた回転軸27と、複数、例えば回転軸27の両端側に2つ設けられた押圧ローラ28と、を備えている。回転軸27は、駆動手段14により回転駆動する。回転軸27は、搬入口10に近接して配置された搬送軸21と対向して設けられる。   The upper roller mechanism 15 is provided on the frame 16 and has a rotation shaft 27 whose axis is aligned with the width direction of the processing tank 3 and a plurality of, for example, two pressure rollers 28 provided on both ends of the rotation shaft 27. It has. The rotating shaft 27 is rotationally driven by the driving means 14. The rotating shaft 27 is provided so as to face the transport shaft 21 disposed in the vicinity of the carry-in port 10.

図3乃至図7に示すように、押圧ローラ28は、基板100の両端部の上面と当接し、且つ、基板100を押圧するローラ31を備えている。また、傾斜した回転軸27の下方の端側に位置する押圧ローラ28は、ローラ31に設けられたキャップ32をさらに備えている。   As shown in FIGS. 3 to 7, the pressing roller 28 includes rollers 31 that are in contact with the upper surfaces of both end portions of the substrate 100 and press the substrate 100. The pressing roller 28 located on the lower end side of the inclined rotating shaft 27 further includes a cap 32 provided on the roller 31.

図5に示すように、ローラ31は、円盤状に形成され、回転軸27に固定されている。また、ローラ31は、その一部が基板100と接触するOリング31aと、Oリング31aが挿入される挿入溝31bと、その側面に設けられた溝部31cと、を備えている。ローラ31は、Oリング31aが基板100に接触することで、所定の力で基板100を搬送ローラ機構13へ押圧可能、且つ、基板100の上面に駆動力を伝達可能に形成されている。   As shown in FIG. 5, the roller 31 is formed in a disk shape and is fixed to the rotating shaft 27. Further, the roller 31 includes an O-ring 31a, a part of which is in contact with the substrate 100, an insertion groove 31b into which the O-ring 31a is inserted, and a groove portion 31c provided on the side surface. The roller 31 is formed such that when the O-ring 31 a contacts the substrate 100, the substrate 100 can be pressed against the transport roller mechanism 13 with a predetermined force, and a driving force can be transmitted to the upper surface of the substrate 100.

キャップ32は、ローラ31の少なくとも一方の主面に設けられた、円錐台形状に形成された整流部材である。具体的には、キャップ32は、傾斜する基板100の下方の端部と当接するローラ31の上斜面に設けられる。尚、上斜面とは、ローラ31の、上方に向って傾斜する主面である。   The cap 32 is a rectifying member formed in a truncated cone shape provided on at least one main surface of the roller 31. Specifically, the cap 32 is provided on the upper slope of the roller 31 that contacts the lower end of the tilted substrate 100. The upper slope is a main surface of the roller 31 that is inclined upward.

例えば、キャップ32は、図4及び図6に示すように、キャップ32が半分に分割された半円錐台形状の組立部材33と、これら組立部材33間に介在される一対のスペーサ34と、を備えている。   For example, as shown in FIGS. 4 and 6, the cap 32 includes a semi-conical truncated conical member 33 in which the cap 32 is divided in half, and a pair of spacers 34 interposed between the assembling members 33. I have.

組立部材33は、その中心に回転軸27が挿入される溝33aが形成されている。組立部材33は、円筒状の材料を、例えば切削等により円錐台形状に形成するとともに、分割することで形成されている。   The assembly member 33 has a groove 33a into which the rotary shaft 27 is inserted at the center thereof. The assembly member 33 is formed by dividing a cylindrical material into a truncated cone shape by cutting or the like, for example.

スペーサ34は、組立部材33の断面の一と略同一形状に形成されている。このスペーサ34は、組立部材33の分割により発生する、回転軸27へ組立部材33を組み立てた際の組立部材33間の隙間に介在される。なお、組立部材33を回転軸27へ固定した際に、組立部材33間に隙間が発生しない場合には、スペーサ34を用いなくてもよい。   The spacer 34 is formed in substantially the same shape as one of the cross sections of the assembly member 33. The spacer 34 is interposed in a gap between the assembly members 33 when the assembly member 33 is assembled to the rotating shaft 27, which is generated by dividing the assembly member 33. In addition, when the assembly member 33 is fixed to the rotating shaft 27, if no gap is generated between the assembly members 33, the spacer 34 may not be used.

組立部材33及びスペーサ34は、溝部31cに挿入され、位置合わせされる突起部35を備えている。組立部材33及びスペーサ34は、接着剤等により、回転軸27及びローラ31に固定される。   The assembly member 33 and the spacer 34 include a protrusion 35 that is inserted into the groove 31c and aligned. The assembly member 33 and the spacer 34 are fixed to the rotating shaft 27 and the roller 31 with an adhesive or the like.

なお、搬送軸21は処理液が搬送手段14の軸受23へ侵入することを防止するカバー36が取り付けられている。   The transport shaft 21 is provided with a cover 36 that prevents the processing liquid from entering the bearing 23 of the transport means 14.

処理手段5は、処理槽3内に設けられ、搬送ローラ機構13よって搬送された基板100に、純水等の処理液を噴射(供給)可能に形成された処理液の供給装置である。このような処理手段5は、高圧で処理液を基板100に噴射可能なシャワーや、処理液又は処理液と気体を混合させて基板100に噴射するナイフ等である。なお、処理手段5は、図1、2中、搬送装置4の上方にのみ記載し、一部省略した概略図により示すが、基板100の下面に処理液を噴射する処理装置をさらに有していてもよい。   The processing means 5 is a processing liquid supply device that is provided in the processing tank 3 and is formed so that a processing liquid such as pure water can be ejected (supplied) onto the substrate 100 transported by the transport roller mechanism 13. Such a processing means 5 is a shower that can inject a processing liquid onto the substrate 100 at a high pressure, a knife that mixes the processing liquid or the processing liquid and gas, and injects the processing liquid onto the substrate 100. 1 and 2, the processing means 5 is only shown above the transfer device 4 and is shown by a schematic diagram partially omitted, but further includes a processing device for injecting a processing liquid onto the lower surface of the substrate 100. May be.

エアーナイフ6は、搬入口10に隣接して設けられ、処理槽3内で処理手段5から噴射される処理液が搬入口10から処理装置110の処理槽111に流入することを防止可能に形成されている。   The air knife 6 is provided adjacent to the carry-in port 10 and is formed so as to prevent the treatment liquid sprayed from the treatment means 5 in the treatment tank 3 from flowing into the treatment tank 111 of the treatment apparatus 110 from the carry-in port 10. Has been.

なお、エアーナイフ6は、互いに対向して一対設けられ、搬送される基板100の上下面とそれぞれ対向することで、基板100の両面に、処理槽3内側に向ってエアー(気体)を噴射可能に形成されている。   A pair of air knives 6 are provided to face each other, and by facing the upper and lower surfaces of the substrate 100 to be transported, air (gas) can be sprayed to both sides of the substrate 100 toward the inside of the processing tank 3. Is formed.

このように構成された処理装置1は、基板100の洗浄工程において、先ず、処理装置1内に搬送された基板100に対して、エアーナイフ6によりエアーを噴射する。   In the processing apparatus 1 configured as described above, in the step of cleaning the substrate 100, first, air is injected by the air knife 6 onto the substrate 100 transported into the processing apparatus 1.

次に、搬送装置4により基板100を搬送しながら、処理手段5から、高圧、且つ、大量の処理液(純水)を噴射し、基板100表面に付着した前工程の処理液を除去する。このような基板100の洗浄を、処理槽3内を基板100が搬送される間行い、その後基板100が搬出口11から、次工程の処理槽121へと搬送される。   Next, while the substrate 100 is being transported by the transport device 4, a large amount of high-pressure processing liquid (pure water) is sprayed from the processing means 5 to remove the previous processing liquid adhering to the surface of the substrate 100. Such cleaning of the substrate 100 is performed while the substrate 100 is transported in the processing tank 3, and then the substrate 100 is transported from the carry-out port 11 to the processing tank 121 of the next process.

このように構成された処理装置1によれば、基板100は、搬送装置4により、傾斜されながら搬送される。このため、基板100上に噴射された大量の処理液は、基板100の傾斜方向に沿って、基板100の搬送方向と交差する方向へと勢いよく流れる。   According to the processing apparatus 1 configured as described above, the substrate 100 is transported while being tilted by the transport apparatus 4. For this reason, a large amount of the processing liquid sprayed on the substrate 100 flows vigorously in a direction intersecting the transport direction of the substrate 100 along the inclination direction of the substrate 100.

このとき、基板100上を、その傾斜方向に沿って流れる処理液は、上乗せローラ機構15に衝突することとなる。衝突した処理液は、図3に実線で示す処理液の流れMように、傾斜面に沿って移動し、キャップ32の外面に沿って、移動することとなる。
At this time, the processing liquid flowing along the inclination direction on the substrate 100 collides with the addition roller mechanism 15. It collided treatment solution, as the flow M of the treatment liquid shown by a solid line in FIG. 3, moves along the inclined surface, along the outer surface of the cap 32, and be moved.

即ち、図3中、二点鎖線Nで示すように、キャップ32を有さない場合には、処理液は、ローラ31の側面に衝突し、回転軸27と交差する方向に飛散することとなる。しかし、上乗せローラ機構15は、搬入口10の近傍に設けられるため、飛散した処理液は、搬入口10から、隣接する処理装置110の搬出口116を介して、処理槽111内へと侵入する。このため、処理装置110に侵入した処理液が、処理装置110内の処理液と混合することとなる。   That is, as shown by a two-dot chain line N in FIG. 3, when the cap 32 is not provided, the processing liquid collides with the side surface of the roller 31 and scatters in a direction intersecting the rotation shaft 27. . However, since the loading roller mechanism 15 is provided in the vicinity of the carry-in port 10, the scattered processing liquid enters the treatment tank 111 from the carry-in port 10 through the carry-out port 116 of the adjacent processing apparatus 110. . For this reason, the processing liquid that has entered the processing apparatus 110 is mixed with the processing liquid in the processing apparatus 110.

処理装置110に処理液が侵入することを防止するために、エアーナイフ6の流量を増加させると、エアーの使用量の増加だけでなく、排気流量も増加することとなり、製造コストの増加となる。   Increasing the flow rate of the air knife 6 in order to prevent the processing liquid from entering the processing apparatus 110 not only increases the amount of air used, but also increases the exhaust flow rate, which increases the manufacturing cost. .

しかし、上乗せローラ機構15は、ローラ31の側面を覆うように、キャップ32を設けることで、ローラ31に向かって流れた処理液は、キャップ32に衝突するが、キャップ32の円錐台形状の傾斜面により、衝突した処理液の飛散を防止することが可能となる。換言すると、キャップ32は、基板100の傾斜に沿って移動した処理液の流れを整流することで、処理液の飛散を防止し、隣り合う処理装置110への処理液の侵入を防止することが可能となる。   However, the upper roller mechanism 15 is provided with the cap 32 so as to cover the side surface of the roller 31, so that the processing liquid flowing toward the roller 31 collides with the cap 32, but the cap 32 has a truncated cone-shaped inclination. The surface makes it possible to prevent the colliding processing liquid from scattering. In other words, the cap 32 rectifies the flow of the processing liquid that has moved along the inclination of the substrate 100, thereby preventing the processing liquid from scattering and preventing the processing liquid from entering the adjacent processing apparatus 110. It becomes possible.

また、処理装置1は、上乗せローラ機構15を設けることで、エアーナイフ6の流量を増加させることなく処理装置110に処理液が侵入することを防止可能となり、基板100の製造コストを抑えることが可能となる。   In addition, the processing apparatus 1 can prevent the processing liquid from entering the processing apparatus 110 without increasing the flow rate of the air knife 6 by providing the additional roller mechanism 15, thereby reducing the manufacturing cost of the substrate 100. It becomes possible.

上述したように、処理装置1は、傾斜する搬送ローラ機構13の一部と対向して基板を押圧する上乗せローラ機構15に、ローラ31の側面を覆う円錐台形状のキャップ32を設けることで、その傾斜面(側面)により処理液の流れを整流することが可能となる。これにより、上乗せローラ機構15に向かって移動した処理液の飛散を防止することが可能となる。   As described above, the processing apparatus 1 is provided with the truncated cone-shaped cap 32 that covers the side surface of the roller 31 in the addition roller mechanism 15 that presses the substrate while facing a part of the inclined transport roller mechanism 13. The inclined surface (side surface) can rectify the flow of the processing liquid. As a result, it is possible to prevent the processing liquid that has moved toward the addition roller mechanism 15 from scattering.

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上述した例では、ローラ31は、溝部31cを有し、組立部材33及びスペーサ34は、この溝部31cに挿入される突起部35を有する構成としたが、これに限定されない。例えば、溝部31c及び突起部35を有さなくてもよい。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described example, the roller 31 includes the groove 31c, and the assembly member 33 and the spacer 34 include the protrusion 35 that is inserted into the groove 31c. However, the configuration is not limited thereto. For example, the grooves 31c and the protrusions 35 may not be provided.

また、上述した例では、キャップ32は、組立部材33及びスペーサ34を組み立てる構成を説明したが、これに限定されない。キャップ32は、一体に形成されていてもよい。ただし、ローラ31が回転軸27に設けられた状態で、キャップ32を着脱自在とする場合には、組立部材33及びスペーサ34のように、分解可能な構成のほうが望ましい。また、ローラ31及びキャップ32が一体に形成されている構成であってもよい。   Moreover, although the cap 32 demonstrated the structure which assembles the assembly member 33 and the spacer 34 in the example mentioned above, it is not limited to this. The cap 32 may be integrally formed. However, when the cap 32 is detachable in a state where the roller 31 is provided on the rotating shaft 27, it is desirable to have a structure that can be disassembled, such as the assembly member 33 and the spacer 34. Alternatively, the roller 31 and the cap 32 may be integrally formed.

さらに、上述した例では、図2に示すように、上乗せローラ機構15の回転軸27は、基板100の幅方向に沿って一本用いられる構成を示したが、これに限定されない。例えば、図8に示す、処理装置1の変形例に係わる上乗せローラ機構15Aを示す側面図を用いて、上乗せローラ機構15Aの説明を行う。   Further, in the above-described example, as illustrated in FIG. 2, the rotation shaft 27 of the addition roller mechanism 15 is configured to be used along the width direction of the substrate 100. However, the configuration is not limited thereto. For example, the addition roller mechanism 15A will be described with reference to a side view showing the addition roller mechanism 15A according to a modification of the processing apparatus 1 shown in FIG.

なお、図8中、上述した実施形態に係わる処理装置1の構成と同様の構成には同一符号を付し、その説明は省略する。また、図8において、図2で図示していない支持ローラ22の外周面に設けられるOリングを図示する。   In FIG. 8, the same components as those of the processing apparatus 1 according to the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. 8 shows an O-ring provided on the outer peripheral surface of the support roller 22 not shown in FIG.

図8に示すように、変形例に係わる処理装置1に用いられる上乗せローラ機構15Aは、回転軸27Aと、回転軸27Aに固定される押圧ローラ28Aと、を備える。押圧ローラ28Aは、ローラ31と、このローラ31に設けられるキャップ32Aと、を備える。   As shown in FIG. 8, the addition roller mechanism 15A used in the processing apparatus 1 according to the modification includes a rotating shaft 27A and a pressing roller 28A fixed to the rotating shaft 27A. The pressing roller 28 </ b> A includes a roller 31 and a cap 32 </ b> A provided on the roller 31.

回転軸27Aは、例えば、カバー36と隣接するローラ31までの長さに形成されている。キャップ32Aは、ローラ31に一体に形成され、その先端が、曲面に形成された円錐台形状に形成されている。   The rotation shaft 27A is formed, for example, to a length up to the roller 31 adjacent to the cover 36. The cap 32A is formed integrally with the roller 31, and the tip of the cap 32A is formed in a truncated cone shape having a curved surface.

このように構成された上乗せローラ機構15Aを用いる処理装置1は、上述した実施形態に係わる処理装置1と同様の効果を得ることが可能となる。なお、キャップ32Aは、ローラ31と別体に設けられていてもよい。また、キャップ32Aは、円錐台形状でなく円錐形状に形成されていてもよい。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。   The processing apparatus 1 using the upper roller mechanism 15A configured as described above can obtain the same effects as the processing apparatus 1 according to the above-described embodiment. The cap 32A may be provided separately from the roller 31. Further, the cap 32A may be formed in a conical shape instead of a truncated cone shape. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

1…処理装置、3…処理槽、4…搬送装置、5…処理手段(供給装置)、6…エアーナイフ、10…搬入口、11…搬出口、13…搬送ローラ機構、14…駆動手段、15…上乗せローラ機構、16…フレーム、17…受け部材、18…調整部材、21…搬送軸、22…支持ローラ、23…軸受、24…駆動源、25…伝達手段、27…回転軸、28…押圧ローラ、31…ローラ、31a…Oリング、31b…挿入溝、31c…溝部、32…キャップ(整流部材)、33…組立部材、33a…溝、34…スペーサ、35…突起部、36…カバー、100…基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Processing apparatus, 3 ... Processing tank, 4 ... Conveyance apparatus, 5 ... Processing means (supply apparatus), 6 ... Air knife, 10 ... Carry-in inlet, 11 ... Carry-out outlet, 13 ... Conveyance roller mechanism, 14 ... Drive means, DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 ... Add-on roller mechanism, 16 ... Frame, 17 ... Receiving member, 18 ... Adjustment member, 21 ... Conveyance shaft, 22 ... Support roller, 23 ... Bearing, 24 ... Drive source, 25 ... Transmission means, 27 ... Rotating shaft, 28 ... Pressing roller, 31 ... Roller, 31a ... O-ring, 31b ... Insertion groove, 31c ... Groove, 32 ... Cap (rectifying member), 33 ... Assembly member, 33a ... Groove, 34 ... Spacer, 35 ... Protrusion, 36 ... Cover, 100 ... substrate.

Claims (7)

所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と垂直な方向に搬送される基板の上面を処理液によって処理する基板の処理装置であって、
前記基板を搬入する搬入口及び前記基板を搬出する搬出口を有する処理槽と、
前記搬入口から前記搬出口まで複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸及びこれら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構、及び、前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ及び前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構を具備する搬送装置と、
前記処理液を前記搬送装置により搬送された前記基板に供給する供給装置と、
を備えることを特徴とする基板の処理装置。
A substrate processing apparatus for processing a top surface of a substrate that is inclined at a predetermined angle and is transported in a direction perpendicular to the inclination direction with a processing liquid,
A treatment tank having a carry-in port for carrying in the substrate and a carry-out port for carrying out the substrate;
A plurality of conveyance rollers provided from the carry-in port to the carry-out port, and a conveyance roller mechanism having a conveyance roller that is inclined and rotated at the predetermined angle, and a support roller that supports the plurality of substrates provided on the respective conveyance shafts; and A rotating shaft provided to face at least one of the plurality of transport shafts, a roller provided on the rotating shaft and in contact with the upper surface of both end portions of the substrate, and a lower end portion of the inclined substrate A transport device comprising an upper roller mechanism having a truncated cone shape or a conical rectifying member provided on the upper slope of the roller;
A supply device for supplying the processing liquid to the substrate transported by the transport device;
A substrate processing apparatus comprising:
前記上乗せローラ機構の前記回転軸は、前記搬入口に近接して設けられた前記搬送軸と対向して設けられることを特徴とする請求項1に記載の基板の処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the rotation shaft of the addition roller mechanism is provided to face the conveyance shaft provided in the vicinity of the carry-in entrance. 前記整流部材は、前記ローラと着脱自在に形成されることを特徴とする請求項1に記載の基板の処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the rectifying member is detachably attached to the roller. 前記整流部材は、前記ローラと一体に形成されることを特徴とする請求項1に記載の基板の処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the rectifying member is formed integrally with the roller. 給装置から供給される処理液によって処理する基板を、所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と垂直な方向に前記基板を搬送する搬送装置であって、
前記基板の搬送方向に沿って複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸及びこれら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構と、
前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ、及び、前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構と、
を備えることを特徴とする搬送装置。
The substrate to be processed by the processing liquid supplied from the supply device, is inclined at a predetermined angle, a transfer device for transferring the substrate in the inclination direction perpendicular,
Multiple provided along the conveying direction of the substrate, and the conveying roller mechanism having a support roller for supporting the substrate provided with a plurality of each of the conveying shaft and these conveying shaft rotates inclined at said predetermined angle,
A rotating shaft provided to face at least one of the plurality of transport shafts, a roller provided on the rotating shaft and in contact with the upper surfaces of both end portions of the substrate, and a lower end portion of the inclined substrate An upper roller mechanism having a truncated cone shape or a conical rectifying member provided on the upper slope of the roller in contact with
A conveying device comprising:
前記整流部材は、前記ローラと着脱自在に形成されることを特徴とする請求項5に記載の搬送装置。   The conveying device according to claim 5, wherein the rectifying member is detachably formed with the roller. 前記整流部材は、前記ローラと一体に形成されることを特徴とする請求項5に記載の搬送装置。   The conveying device according to claim 5, wherein the rectifying member is formed integrally with the roller.
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