KR102278073B1 - Apparatus for treating substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 내부에 처리 공간을 가지는 하우징과 상기 하우징 내에 제1방향을 따라 배열되고, 각각의 길이방향이 상부에서 바라 볼 때 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 샤프트와, 상기 반송 샤프트를 따라 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 롤러를 포함하고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 반송 유닛과 상기 기판으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판에 상기 유체가 공급 될 때, 기판의 떨림을 방지하는 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus. According to an embodiment of the present invention, a housing having a processing space therein and a second direction are arranged in a first direction in the housing, and each longitudinal direction is provided in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above a conveying unit comprising a plurality of conveying shafts configured to be formed, a plurality of conveying rollers provided in a second direction along the conveying shaft, a conveying unit conveying a substrate in the first direction, and a fluid supplying unit supplying a fluid to the substrate; and an anti-vibration member for preventing vibration of the substrate when the fluid is supplied to the substrate transferred by the transfer unit.

Figure R1020140168743
Figure R1020140168743

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}Substrate processing apparatus {APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}

본 발명은 기판을 처리 하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate.

액정표시장치(Liquid Crystal Display: 이하, LCD)는 인가 전압에 따른 액정의 광 투과도 변화를 이용하여 정보를 표시하는 평판표시장치로서, 소형/경량화, 넓은 시야각, 저소비 전력 등과 같은 다양한 장점으로 인해 그 쓰임이 점차 증가하고 있다.A liquid crystal display (LCD) is a flat panel display device that displays information by using the change in light transmittance of liquid crystal according to an applied voltage, and has various advantages such as small size/light weight, wide viewing angle, and low power consumption. Its use is gradually increasing.

액정 표시 장치 등에 사용되는 기판은 식각 공정, 세정 공정, 건조 공정이 순차적으로 수행하며 제조된다. 식각 공정은 기판에 처리액을 공급하여, 기판을 식각하며, 세정 공정은 세척액을 이용하여 기판의 표면을 세정한 후, 건조 가스를 분사하여 기판을 건조한다. 이러한 공정은 기판을 반송 유닛으로 이송하면서 순차적으로 이루어진다.A substrate used for a liquid crystal display device is manufactured by sequentially performing an etching process, a cleaning process, and a drying process. In the etching process, a treatment liquid is supplied to the substrate to etch the substrate, and in the cleaning process, the surface of the substrate is cleaned using the cleaning liquid, and then a drying gas is sprayed to dry the substrate. These processes are sequentially performed while transferring the substrate to the transfer unit.

기판을 반송하면서, 각 공정에서 처리액, 세척액 그리고 건조 가스 등은 기판의 상부에 위치한 공급 유닛을 통해서 기판의 상면으로 직접 공급되나 최근 액정 표시 장치 등에 사용 되는 기판의 두께가 얇아져 건조 가스 등의 공급시 기판에 떨림이 발생하여 공정에 불량을 야기한다.While transporting the substrate, in each process, the processing liquid, cleaning liquid, and drying gas are directly supplied to the upper surface of the substrate through the supply unit located on the upper part of the substrate. When the substrate is shaken, it causes a defect in the process.

본 발명은 기판 처리 공정에 효율을 향상 시키기 위한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus for improving efficiency in a substrate processing process.

또한, 본 발명은 기판 처리 공정 시 기판의 떨림을 방지하기 위한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus for preventing vibration of a substrate during a substrate processing process.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. The present invention provides a substrate processing apparatus.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기판 처리 장치는 내부에 처리 공간을 가지는 하우징과 상기 하우징 내에 제1방향을 따라 배열되고, 각각의 길이방향이 상부에서 바라 볼 때 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 샤프트와, 상기 반송 샤프트를 따라 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 롤러를 포함하고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 반송 유닛과 상기 기판으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판에 상기 유체가 공급 될 때, 기판의 떨림을 방지하는 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus includes a housing having a processing space therein, and is arranged in a first direction in the housing, and each longitudinal direction is perpendicular to the first direction when viewed from above. A conveying unit comprising a plurality of conveying shafts provided in a second direction and a plurality of conveying rollers provided in a second direction along the conveying shaft, the conveying unit conveying a substrate in the first direction and supplying a fluid to the substrate It may include a fluid supply unit and an anti-shake member for preventing the substrate from shaking when the fluid is supplied to the substrate transferred by the transfer unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판의 상면과 접촉하는 상부 접촉 롤러를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the anti-shake member may include an upper contact roller in contact with the upper surface of the substrate transferred by the transfer unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 상류에 배치되는 상류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the anti-shake member may include an upstream anti-shake member disposed upstream of the fluid supply unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 상류 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2상류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the upstream anti-shake member may include a first upstream anti-shake member provided adjacent to one edge of the fluid supply unit and a second upstream anti-shake member provided adjacent to the other edge of the fluid supply unit. can

일 실시 예에 따르면, 상기 제1상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공될 수 있다. According to an embodiment, the distance between the first upstream anti-shake member and the fluid supply unit may be the same as the distance between the second upstream anti-shake member and the fluid supply unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 하류에 배치되는 하류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다. According to an embodiment, the anti-shake member may include a downstream anti-shake member disposed downstream of the fluid supply unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 하류 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2하류 떨림 방지 부재를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the downstream anti-shake member may include a first downstream anti-shake member provided adjacent to one edge of the fluid supply unit and a second downstream anti-shake member provided adjacent to the other edge of the fluid supply unit. can

일 실시 예에 따르면, 상기 제1하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공될 수 있다. According to an embodiment, the distance between the first downstream anti-shake member and the fluid supply unit may be the same as the distance between the second downstream anti-shake member and the fluid supply unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 떨림 방지 부재는 상기 상부 접촉 롤러와 상하로 대향되도록 배치되고, 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판의 하부와 접촉되는 하부 접촉 롤러를 포함할 수 있다. According to an embodiment, the anti-shake member may include a lower contact roller that is disposed to face the upper contact roller and is in contact with a lower portion of the substrate transferred by the transfer unit.

일 실시 예에 따르면, 상기 상부 접촉 롤러와 상기 하부 접촉 롤러는 프리 롤러로 제공될 수 있다.According to an embodiment, the upper contact roller and the lower contact roller may be provided as free rollers.

일 실시 예에 따르면, 상기 유체 공급 유닛은 상기 기판에 건조가스를 분사하며, 그 길이가 상기 제2방향을 따른 기판의 길이와 동일하거나 이보다 길게 제공되는 노즐부를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the fluid supply unit may include a nozzle unit that sprays a drying gas to the substrate and is provided with a length equal to or longer than the length of the substrate in the second direction.

일 실시 예에 따르면, 상기 노즐부는 상부에서 바라 볼 때, 상기 제1방향을 따라 경사지게 제공될 수 있다.According to an embodiment, the nozzle part may be provided to be inclined along the first direction when viewed from the top.

본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 반송하여 공정 처리시 기판의 상부 및 하부를 지지하는 떨림 방지 부재를 제공하여 기판 처리 공정의 효율을 향상시킨다. According to one embodiment of the present invention, the efficiency of the substrate processing process is improved by providing an anti-shake member for supporting the upper and lower portions of the substrate during processing by transferring the substrate.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 반송하여 공정 처리 시 기판을 상부 및 하부에서 지지하는 떨림 방지 부재를 제공하여 공정 시 기판의 떨림을 방지하여 기판 처리 공정의 효율을 향상시킨다.In addition, according to an embodiment of the present invention, an anti-vibration member for supporting the substrate at the upper and lower portions during processing by transporting the substrate is provided to prevent vibration of the substrate during processing, thereby improving the efficiency of the substrate processing process.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이다.
도 2는 도 1에 반송 유닛, 유체 공급 유닛 그리고 떨림 방지 부재를 나타낸 평면도이다.
도 3의 유체 공급 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 2의 떨림 방지 부재를 보여주는 단면도이다.
도 5는 반송 유닛으로 기판을 이송시 반송 롤러와 떨림 방지 부재로 기판을 지지하는 모습을 보여주는 도면이다. 1 is a schematic side view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view illustrating a conveying unit, a fluid supply unit, and an anti-shake member of FIG. 1 .
It is a cross-sectional view showing the fluid supply unit of FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating the anti-shake member of FIG. 2 .
5 is a view showing a state in which the substrate is supported by the transfer roller and the anti-shake member when the substrate is transferred to the transfer unit.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Accordingly, the shapes of elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이고, 도 2는 도 1에 반송 유닛, 유체 공급 유닛 그리고 떨림 방지 부재를 나타낸 평면도이고, 도 3의 유체 공급 유닛을 보여주는 단면도이며, 도 4는 도 2의 떨림 방지 부재를 보여주는 단면도이다. 이하 도 1 내지 도 4를 참조하면, 1 is a side view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view showing a conveying unit, a fluid supply unit, and an anti-shake member in FIG. 1 , and showing the fluid supply unit of FIG. 3 It is a cross-sectional view, and FIG. 4 is a cross-sectional view showing the anti-shake member of FIG. 1 to 4 below,

본 발명의 실시 예에서는 기판으로 평판 표시 패널를 예로 들어 설명한다. 그러나 기판은 평판 표시 패널 이외에 반도체 웨이퍼, 포토마스크 등 다양한 종류의 기판일 수 있다. In the embodiment of the present invention, a flat panel display panel will be described as an example as a substrate. However, the substrate may be various types of substrates, such as a semiconductor wafer and a photomask, in addition to the flat panel display panel.

도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 이하, 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)의 공정 챔버들(10,20,30)은 식각 챔버(10), 세정 챔버(20) 그리고 건조 챔버(30)를 포함한다. 식각 챔버(10), 세정 챔버(20), 그리고 건조 챔버(30)는 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 식각 챔버(10), 세정 챔버(20), 그리고 건조 챔버(30)가 배열된 방향을 제1방향(12)이라 한다. 그리고 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하고, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직한 방향을 제3방향(16)이라 한다. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, referring to FIG. 1 , the process chambers 10 , 20 , and 30 of the substrate processing apparatus 1 include an etching chamber 10 , a cleaning chamber 20 , and a drying chamber 30 . The etching chamber 10 , the cleaning chamber 20 , and the drying chamber 30 are sequentially arranged in a line. Hereinafter, a direction in which the etching chamber 10 , the cleaning chamber 20 , and the drying chamber 30 are arranged is referred to as a first direction 12 . And when viewed from the top, a direction perpendicular to the first direction 12 is referred to as a second direction 14 , and a direction perpendicular to the plane including the first direction 12 and the second direction 14 is referred to as a third direction. It is called direction (16).

각각의 공정 챔버(10,20,30)들은 내부가 빈 대체로 직육면체 형상을 가진다. 공정 챔버들(10,20,30)은 일렬로 나란하게 배치된다. 각각의 공정 챔버(10,20,30)의 일측면에는 공정 챔버(10,20,30)로 기판(W)이 유입되는 유입구가 제공되고, 이와 마주보는 타측면에는 공정 챔버(10,20,30)로부터 기판(W)이 유출되는 유출구가 제공된다. 기판은 가장 전방에 위치된 공정 챔버부터 순차적으로 가장 후방에 위치된 공정 챔버까지 이동된다. 각 공정 챔버(10,20,30) 내에서는 기판에 대해 소정 공정이 수행된다. Each of the process chambers 10 , 20 , and 30 has a substantially rectangular parallelepiped shape with an empty interior. The process chambers 10 , 20 , and 30 are arranged side by side in a line. One side of each of the process chambers 10, 20, 30 is provided with an inlet through which the substrate W is introduced into the process chambers 10, 20, and 30, and the other side facing the process chamber 10, 20, An outlet through which the substrate W flows from the 30) is provided. The substrate is sequentially moved from the frontmost process chamber to the rearmost process chamber. A predetermined process is performed on a substrate in each of the process chambers 10 , 20 , and 30 .

식각 챔버(10)는 기판에 대해 식각 공정을 수행한다. 식각 챔버(10)에는 케미칼 공급 유닛(11)이 포함된다. 케미칼 공급 유닛(11)은 기판의 이송시 기판의 상면에 케미칼 용액을 공급하며, 기판에 대해 식각 공정을 수행한다.The etching chamber 10 performs an etching process on the substrate. The etching chamber 10 includes a chemical supply unit 11 . The chemical supply unit 11 supplies a chemical solution to the upper surface of the substrate when the substrate is transferred, and performs an etching process on the substrate.

세정 챔버(20)는 기판에 대해 세정 공정을 수행한다. 세정 챔버(20)는 유체 공급 유닛(21)을 포함한다. 유체 공급 유닛(21)은 기판의 이송시 기판의 상면에 유체를 공급하여 기판에 대해 세정 공정을 수행한다. The cleaning chamber 20 performs a cleaning process on the substrate. The cleaning chamber 20 includes a fluid supply unit 21 . The fluid supply unit 21 performs a cleaning process on the substrate by supplying a fluid to the upper surface of the substrate when the substrate is transferred.

건조 챔버(30)에서는 기판에 대해 건조 공정을 수행한다. 건조 챔버(30)에서는 기판에 대해 건조 가스를 공급하여 기판에 대해 건조 공정을 수행한다. In the drying chamber 30 , a drying process is performed on the substrate. In the drying chamber 30 , a drying process is performed on the substrate by supplying a drying gas to the substrate.

본 발명의 반송 유닛(100)이 제공되는 건조 챔버(30)에 대해서 설명한다. 다만, 본 발명은 건조 챔버에 제공되는 반송 유닛 및 떨림 방지 부재에 한정되지 않으며, 기판을 이송하여 처리하는 장치에 모두 적용될 수 있다.A drying chamber 30 in which the conveying unit 100 of the present invention is provided will be described. However, the present invention is not limited to the transfer unit and the anti-shake member provided in the drying chamber, and may be applied to an apparatus for transferring and processing a substrate.

건조 챔버(30)는 하우징(40), 반송 유닛(100), 유체 공급 유닛(60) 그리고 떨림 방지 부재(300)를 포함한다. 하우징(40)은 기판의 이송되는 공간을 제공한다. 하우징(40)은 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 하우징(40)에는 다른 챔버와 연결되는 기판이 유입되는 유입구(41)와 유출구(43)가 형성된다.The drying chamber 30 includes a housing 40 , a conveying unit 100 , a fluid supply unit 60 , and an anti-shake member 300 . The housing 40 provides a space for transferring the substrate. The housing 40 may be provided in a rectangular parallelepiped shape. The housing 40 has an inlet 41 and an outlet 43 through which a substrate connected to another chamber is introduced.

반송 유닛(100)은 건조 챔버(30)내부에 설치된다. 반송 유닛(100)은 건조 챔버(30) 내부로 유입되는 기판을 제1방향(12)으로 이송한다. The transfer unit 100 is installed inside the drying chamber 30 . The transfer unit 100 transfers the substrate flowing into the drying chamber 30 in the first direction 12 .

반송 유닛(100)은 반송 샤프트(110), 반송 롤러(120) 그리고 회전 구동부(130)을 포함한다. The conveying unit 100 includes a conveying shaft 110 , a conveying roller 120 , and a rotation driving unit 130 .

각각의 반송 샤프트(110)는 그 길이 방향이 기판(W)의 제2방향(14)으로 배치되고, 반송 샤프트들(110)은 제1방향(12)을 따라 서로 나란하게 배치된다. 반송 샤프트들(110)의 양단은 베어링 부재(미도시)에 의해 회전 가능하게 지지된다. 각각의 반송 샤프트(110)에는 기판(W)과 접촉하는 다수의 반송 롤러(120)가 결합된다. 반송 롤러들(120)은 기판(W)의 반송 샤프트(110)의 길이 방향으로 서로 이격되어 위치한다. 반송 롤러들(120)은 반송 샤프트(110)의 외주면에 끼워진다. 각각의 반송 롤러(120)는 링 형상을 갖고, 반송 샤프트(110)와 함께 회전한다.Each of the transport shafts 110 is disposed in the second direction 14 of the substrate W in the longitudinal direction thereof, and the transport shafts 110 are disposed in parallel with each other along the first direction 12 . Both ends of the transport shafts 110 are rotatably supported by a bearing member (not shown). A plurality of conveying rollers 120 in contact with the substrate W are coupled to each conveying shaft 110 . The conveying rollers 120 are positioned to be spaced apart from each other in the longitudinal direction of the conveying shaft 110 of the substrate W. The conveying rollers 120 are fitted to the outer peripheral surface of the conveying shaft 110 . Each conveying roller 120 has a ring shape and rotates together with the conveying shaft 110 .

반송 샤프트(110)에는 회전 구동부(130)가 결합된다. 회전 구동부(130)는 다수의 풀리(131), 구동 모터(132), 그리고 다수의 밸트(133)를 포함한다. 풀리(131)는 반송 샤프트(110)의 일측에 결합되고, 다수의 풀리(131) 중 구동 모터(132)와 인접한 풀리(131)는 구동 모터(132)와 연결된다. 구동 모터(132)는 회전력을 발생시켜 연결된 풀리(131)에 회전력을 제공한다. 구동 모터(132)에 연결된 풀리(131)는 회전력을 연결된 반송 샤프트(110)에 제공하여 반송 샤프트(110)를 회전시킨다.A rotation driving unit 130 is coupled to the conveying shaft 110 . The rotation driving unit 130 includes a plurality of pulleys 131 , a driving motor 132 , and a plurality of belts 133 . The pulley 131 is coupled to one side of the conveying shaft 110 , and a pulley 131 adjacent to the driving motor 132 among the plurality of pulleys 131 is connected to the driving motor 132 . The driving motor 132 generates a rotational force to provide the rotational force to the connected pulley 131 . The pulley 131 connected to the drive motor 132 provides rotational force to the connected conveying shaft 110 to rotate the conveying shaft 110 .

다수의 풀리들(131) 중 서로 인접한 두 개의 풀리들(131)은 밸트(133)에 의해 서로 연결된다. 밸트들(133)은 다수의 풀리(131)를 서로 연결하여 구동 모터(132)와 연결된 풀리(131)로부터 제공되는 회전력을 인접 풀리(131)로 전달한다. 이에 따라, 상기 다수의 풀리(131)가 회전하고, 다수의 풀리(131)의 회전력에 의해 다수의 반송 샤프트(110)가 회전한다. 또한, 다수의 풀리(131)와 다수의 밸트(133)는 반송 샤프트들(110)의 타측에도 설치된다.Two pulleys 131 adjacent to each other among the plurality of pulleys 131 are connected to each other by a belt 133 . The belts 133 connect the plurality of pulleys 131 to each other to transmit the rotational force provided from the pulley 131 connected to the driving motor 132 to the adjacent pulley 131 . Accordingly, the plurality of pulleys 131 rotate, and the plurality of conveying shafts 110 rotate by the rotational force of the plurality of pulleys 131 . In addition, the plurality of pulleys 131 and the plurality of belts 133 are also installed on the other side of the conveying shafts 110 .

유체 공급 유닛(60)은 기판의 상면에 건조 가스를 공급한다. 일 에로 유체 공급 유닛(60)은 에어 나이프로 제공된다. 유체 공급 유닛(60)은 기판의 상부 및 하부에 제공 될 수 있다. 선택적으로 기판의 상부 및 하부 중 한 곳에 제공될 수 있다. The fluid supply unit 60 supplies a drying gas to the upper surface of the substrate. One ero fluid supply unit 60 is provided as an air knife. The fluid supply unit 60 may be provided above and below the substrate. Optionally, it may be provided on one of the upper and lower portions of the substrate.

유체 공급 유닛(60)은 반송 유닛에 의해 반송 되는 기판의 상부에 제공된다. 유체 공급 유닛(60)은 기판의 대각선 방향으로 제공된다. 유체 공급 유닛(60)은 세정 공정에서 사용되어 기판의 표면에 잔존하는 처리액 예를 들어, 순수(DeIonized Water:DIW) 등의 세정액 또는 린스액을 제거하기 위하여 기판의 상부 또는/및 하부에서 기판의 표면으로 에어를 분사한다.The fluid supply unit 60 is provided on top of the substrate conveyed by the conveying unit. The fluid supply unit 60 is provided in a diagonal direction of the substrate. The fluid supply unit 60 is used in the cleaning process to remove a treatment liquid remaining on the surface of the substrate, for example, a cleaning liquid such as deionized water (DIW) or a rinse liquid, from the upper and/or lower portions of the substrate. air is sprayed onto the surface of

상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64) 각각은 기판까지의 거리가 동일하도록 설치된다. 상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64)은 기판의 전체 표면에 균일하게 에어를 분사할 수 있도록 충분한 길이를 갖는다. 상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64)들은 기판의 표면에 대해 일정 각도 경사지게 설치된다. 이는 분사되는 에어에 의해 기판이 물리적으로 손상 및 진동되는 것을 방지하기 위함이다.Each of the upper and lower fluid supply units 62 and 64 is installed such that the distance to the substrate is the same. The upper and lower fluid supply units 62 and 64 have sufficient length to uniformly spray air over the entire surface of the substrate. The upper and lower fluid supply units 62 and 64 are installed to be inclined at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate. This is to prevent the substrate from being physically damaged and vibrated by the sprayed air.

상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64)은 몸체(622), 유로(624), 버퍼(626) 그리고 노즐부(628)를 포함한다. 몸체(622)는 일측면에서 에어를 받아들이고 유로(624)를 통해 노즐부(628)로 에어가 흐르도록 제공된다. 몸체(622)의 내부에는 유로(624)와 버퍼(626)가 제공된다. 몸체(622)의 형상은 상부 및 하부 유체 공급 유닛(62,64) 모두 동일한 형상으로 제공될 수 있다. 유로(624)는 외부로부터 공급되는 에어가 이동하는 통로이다. 유로(624)에는 적어도 하나 이상의 버퍼(626)가 제공된다. 버퍼(626)는 에어가 노즐부(628)를 통해 균등한 유량이 분사되도록 임시로 에어가 머무르는 공간이다. The upper and lower fluid supply units 62 and 64 include a body 622 , a flow path 624 , a buffer 626 , and a nozzle unit 628 . The body 622 receives air from one side and is provided so that the air flows to the nozzle unit 628 through the flow path 624 . A flow path 624 and a buffer 626 are provided inside the body 622 . The shape of the body 622 may be provided to have the same shape for both the upper and lower fluid supply units 62 and 64 . The flow path 624 is a passage through which air supplied from the outside moves. At least one buffer 626 is provided in the flow path 624 . The buffer 626 is a space in which air temporarily stays so that an equal flow rate of the air is sprayed through the nozzle unit 628 .

노즐부(628)에서는 유로(626)에서 공급된 에어가 기판으로 토출된다. 노즐부(628)는 복수의 홀들로 형성되거나 슬릿 형태로 형성된다. 노즐부(628)는 그 길이가 제2방향에 따른 기판의 길이와 동일하게 제공될 수 있다. 이와는 달리 노즐부(628)의 길이는 기판의 길이보다 길게 제공될 수 있다. 노즐부(628)는 상부에서 바라 볼 때, 제1방향을 따라 경사지게 제공될 수 있다.In the nozzle unit 628 , the air supplied from the flow path 626 is discharged to the substrate. The nozzle part 628 is formed in the form of a plurality of holes or a slit. The nozzle unit 628 may have the same length as the length of the substrate in the second direction. Alternatively, the length of the nozzle unit 628 may be longer than the length of the substrate. The nozzle part 628 may be provided to be inclined along the first direction when viewed from the top.

떨림 방지 부재(300)는 반송 유닛(100)에 의해 이송되는 기판에 유체가 공급 될 때, 기판의 떨림을 방지한다. The anti-shake member 300 prevents vibration of the substrate when the fluid is supplied to the substrate transferred by the transfer unit 100 .

떨림 방지 부재(300)는 상부 접촉 롤러(310)와 하부 접촉 롤러(330)를 포함한다. 상부 접촉 롤러(310)는 반송 유닛(100)에 의해 이송되는 기판의 상면과 접촉하고, 기판의 상면을 지지한다. 상부 접촉 롤러(310)는 롤러를 제공하여 기판의 상면을 지지한다. 롤러는 지지부에 의해 지지한다. 지지부는 롤러를 지지하는 수평부(311)와 수평부와 수직으로 제공되는 수직부(313)를 가진다. 수직부(313)는 프레임(400)과 연결된다.The anti-shake member 300 includes an upper contact roller 310 and a lower contact roller 330 . The upper contact roller 310 contacts the upper surface of the substrate transferred by the conveying unit 100 and supports the upper surface of the substrate. The upper contact roller 310 provides a roller to support the upper surface of the substrate. The roller is supported by the support. The support portion has a horizontal portion 311 for supporting the roller and a vertical portion 313 provided perpendicular to the horizontal portion. The vertical part 313 is connected to the frame 400 .

하부 접촉 롤러(330)는 반송 유닛(100)에 의해 이송되는 기판의 하면과 접촉하고, 기판의 하면을 지지 한다. 하부 접촉 롤러(330)는 상부 접촉 롤러(310)와 상하로 대향되도록 배치된다. 하부 접촉 롤러(330)는 롤러를 제공하여 기판의 하면을 지지한다. 롤러는 별도의 지지대를 통해서 지지된다. The lower contact roller 330 is in contact with the lower surface of the substrate transferred by the transfer unit 100 and supports the lower surface of the substrate. The lower contact roller 330 is disposed to face the upper contact roller 310 vertically. The lower contact roller 330 provides a roller to support the lower surface of the substrate. The rollers are supported through separate supports.

상부 접촉 롤러(310)와 하부 접촉 롤러(330)는 모두 프리 롤러로 제공된다. Both the upper contact roller 310 and the lower contact roller 330 are provided as free rollers.

떨림 방지 부재(300)는 상류 떨림 방지 부재(301)와 하류 떨림 방지 부재(302)를 포함한다.The anti-shake member 300 includes an upstream anti-shake member 301 and a downstream anti-shake member 302 .

상류 떨림 방지 부재(301)는 기판이 유체 공급 유닛(60)의 상류로 이송 시 기판을 지지하여 기판의 떨림을 방지한다. 상류 떨림 방지 부재(301)는 유체 공급 유닛(60)의 상류에 배치된다. 상류 떨림 방지 부재(301)는 제1상류 떨림 방지 부재(301a)와 제2상류 떨림 방지 부재(301b)를 포함한다. 제1상류 떨림 방지 부재(301a)는 유체 공급 유닛(60)의 일측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제2상류 떨림 방지 부재(301b)는 유체 공급 유닛(60)의 타측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제1상류 떨림 방지 부재(301a)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리는 제2상류 떨림 방지 부재(301b)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리와 동일하게 제공된다. The upstream anti-vibration member 301 prevents the substrate from shaking by supporting the substrate when the substrate is transferred upstream of the fluid supply unit 60 . The upstream anti-shake member 301 is disposed upstream of the fluid supply unit 60 . The upstream anti-shake member 301 includes a first upstream anti-shake member 301a and a second upstream anti-shake member 301b. The first upstream anti-shake member 301a is provided adjacent to one edge of the fluid supply unit 60 . The second upstream anti-shake member 301b is provided adjacent to the other edge of the fluid supply unit 60 . The distance between the first upstream anti-shake member 301a and the fluid supply unit 60 is provided equal to the distance between the second upstream anti-shake member 301b and the fluid supply unit 60 .

하류 떨림 방지 부재(302)은 기판이 유체 공급 유닛(60)의 하류로 이송 시 기판을 지지하여 기판의 떨림을 방지한다. 하류 떨림 방지 부재(302)는 유체 공급 유닛(60)의 하류에 배치된다. 하류 떨림 방지 부재(302)는 제1하류 떨림 방지 부재(302a)와 제2하류 떨림 방지 부재(302b)를 포함한다. 제1하류 떨림 방지 부재(302a)는 유체 공급 유닛(60)의 일측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제2하류 떨림 방지 부재(302b)는 유체 공급 유닛(60)의 타측 가장자리에 인접하여 제공된다. 제1하류 떨림 방지 부재(302a)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리는 제2하류 떨림 방지 부재(302b)와 유체 공급 유닛(60)과의 거리와 동일하게 제공된다.The downstream anti-shake member 302 prevents the substrate from shaking by supporting the substrate when the substrate is transferred downstream of the fluid supply unit 60 . The downstream anti-shake member 302 is disposed downstream of the fluid supply unit 60 . The downstream anti-shake member 302 includes a first downstream anti-shake member 302a and a second downstream anti-shake member 302b. The first downstream anti-shake member 302a is provided adjacent to one edge of the fluid supply unit 60 . The second downstream anti-shake member 302b is provided adjacent to the other edge of the fluid supply unit 60 . The distance between the first downstream anti-shake member 302a and the fluid supply unit 60 is provided equal to the distance between the second downstream anti-shake member 302b and the fluid supply unit 60 .

제1상류 떨림 방지 부재(301a), 제2상류 떨림 방지 부재(301b), 제1하류 떨림 방지 부재(302a) 그리고 제2하류 떨림 방지 부재(302b)는 각각 상부 접촉 롤러(310)와 하부 접촉 롤러(330)를 포함한다. The first upstream anti-shake member 301a, the second upstream anti-shake member 301b, the first downstream anti-shake member 302a and the second downstream anti-shake member 302b are in lower contact with the upper contact roller 310, respectively. It includes a roller 330 .

상술한 예에서는 제1상류 떨림 방지 부재(301a), 제2상류 떨림 방지 부재(301b), 제1하류 떨림 방지 부재(302a) 그리고 제2하류 떨림 방지 부재(302b)는 각각 하나씩 제공된 예로 설명하였으나, 선택적으로 복수개가 제공될 수 있다. In the above-described example, the first upstream anti-shake member 301a, the second upstream anti-shake member 301b, the first downstream anti-shake member 302a, and the second downstream anti-shake member 302b are provided one by one. , optionally a plurality may be provided.

도 5는 반송 유닛으로 기판을 이송시 반송 롤러와 떨림 방지 부재로 기판을 지지하는 모습을 보여주는 도면이다. 이하, 도 5를 참조하면, 떨림 방지 부재(300)는 점차 얇아지는 기판을 처리할 때 상부 및 하부 접촉 롤러(310,330)를 이용하여 지지한다. 이로 인해, 기판을 더욱 안정적으로 지지 가능하여, 특히 유체 공급 유닛(60)의 전단 및 후단에서의 기판의 떨림이나 뒤틀림 또는 기판이 깨지는 현상을 방지한다. 5 is a view showing a state in which the substrate is supported by the transfer roller and the anti-shake member when the substrate is transferred to the transfer unit. Hereinafter, referring to FIG. 5 , the anti-shake member 300 is supported by using upper and lower contact rollers 310 and 330 when processing a substrate that is gradually thinner. Due to this, the substrate can be supported more stably, and in particular, vibration or distortion of the substrate at the front and rear ends of the fluid supply unit 60 or the breaking of the substrate is prevented.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The above detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the above description shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications are possible within the scope of the concept of the invention disclosed herein, the scope equivalent to the written disclosure, and/or within the scope of skill or knowledge in the art. The written embodiment describes the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required in the specific application field and use of the present invention are possible. Accordingly, the detailed description of the present invention is not intended to limit the present invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed as including other embodiments.

40: 하우징 60: 유체 공급 유닛
100: 반송 유닛 110: 반송 샤프트
120: 반송 롤러 130: 회전 구동부
300: 떨림 방지 부재 301: 상류 떨림 방지 부재
301a: 제1상류 떨림 방지 부재 301b: 제2상류 떨림 방지 부재
302: 하류 떨림 방지 부재 302a: 제1하류 떨림 방지 부재
302b: 제2하류 떨림 방지 부재 622: 몸체
624: 유로 626: 버퍼
628: 노즐부40: housing 60: fluid supply unit
100: conveying unit 110: conveying shaft
120: conveying roller 130: rotary drive unit
300: anti-shake member 301: upstream anti-shake member
301a: first upstream anti-shake member 301b: second upstream anti-shake member
302: downstream anti-shake member 302a: first downstream anti-shake member
302b: second downstream anti-shake member 622: body
624: Euro 626: Buffer
628: nozzle unit

Claims (12)

기판을 처리하는 장치에 있어서,
내부에 처리 공간을 가지는 하우징과;
상기 하우징 내에 제1방향을 따라 배열되고, 각각의 길이방향이 상부에서 바라볼 때 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 샤프트와, 상기 반송 샤프트를 따라 제2방향으로 제공되는 복수의 반송 롤러를 포함하고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 반송 유닛과;
상기 기판으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고
상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판에 상기 유체가 공급될 때, 기판의 떨림을 방지하는 복수의 떨림 방지 부재를 포함하고,
상기 복수의 떨림 방지 부재 중 어느 하나는 상기 유체 공급 유닛의 일측 가장자리에 인접하게 배치되고, 다른 하나는 상기 유체 공급 유닛의 타측 가장자리에 인접하게 배치되고,
상기 복수의 떨림 방지 부재는 상기 기판의 반송 방향에 대하여 수직한 방향으로 이격되고,
상기 떨림 방지 부재는,
상기 반송 유닛에 의해 이동되는 기판의 상면과 접촉되는 상부 접촉 롤러와,
상기 상부 접촉 롤러와 상하 방향으로 대향되도록 배치되고, 상기 반송 유닛에 의해 이송되는 기판의 하면과 접촉되는 하부 접촉 롤러를 포함하고,
상기 상부 접촉 롤러는,
상기 기판의 상면에 접촉되고, 서로 이격되는 복수의 상부 롤러와,
상기 복수의 상부 롤러를 지지하는 상부 지지부를 포함하고,
상기 하부 접촉 롤러는 상기 기판의 하면에 접촉되고, 상기 복수의 상부 롤러와 상하 방향으로 대향하는 위치에 배치되며 서로 이격되는 복수의 하부 롤러와, 상기 복수의 하부 롤러를 지지하는 하부 지지부를 포함하는 기판 처리 장치.An apparatus for processing a substrate, comprising:
a housing having a processing space therein;
A plurality of conveying shafts arranged in the housing along a first direction, each longitudinal direction being provided in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and provided in a second direction along the conveying shaft a conveying unit including a plurality of conveying rollers configured to be used and conveying the substrate in the first direction;
a fluid supply unit for supplying a fluid to the substrate; and
and a plurality of anti-shake members for preventing vibration of the substrate when the fluid is supplied to the substrate transferred by the transfer unit;
One of the plurality of anti-shake members is disposed adjacent to one edge of the fluid supply unit, and the other is disposed adjacent to the other edge of the fluid supply unit,
The plurality of anti-shake members are spaced apart in a direction perpendicular to the transport direction of the substrate,
The anti-shake member,
an upper contact roller in contact with the upper surface of the substrate moved by the conveying unit;
and a lower contact roller disposed to face the upper contact roller in a vertical direction and contacting a lower surface of the substrate transferred by the conveying unit,
The upper contact roller,
A plurality of upper rollers in contact with the upper surface of the substrate and spaced apart from each other;
Comprising an upper support for supporting the plurality of upper rollers,
The lower contact roller includes a plurality of lower rollers in contact with the lower surface of the substrate, disposed at positions opposite to the plurality of upper rollers in a vertical direction and spaced apart from each other, and a lower support part supporting the plurality of lower rollers substrate processing equipment. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 상류에 배치되는 상류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.According to claim 1,
and the anti-shake member includes an upstream anti-shake member disposed upstream of the fluid supply unit. 제3항에 있어서,
상기 상류 떨림 방지 부재는,
상기 유체 공급 유닛의 상기 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1상류 떨림 방지 부재와;
상기 유체 공급 유닛의 상기 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2상류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.4. The method of claim 3,
The upstream anti-shake member,
a first upstream anti-shake member provided adjacent to the one edge of the fluid supply unit;
and a second upstream anti-shake member provided adjacent to the other edge of the fluid supply unit. 제4항에 있어서,
상기 제1상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2상류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공되는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
and a distance between the first upstream anti-shake member and the fluid supply unit is the same as a distance between the second upstream anti-shake member and the fluid supply unit. 제3항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서,
상기 떨림 방지 부재는 상기 유체 공급 유닛의 하류에 배치되는 하류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.6. The method according to any one of claims 3 to 5,
and the anti-shake member includes a downstream anti-shake member disposed downstream of the fluid supply unit. 제6항에 있어서,
상기 하류 떨림 방지 부재는,
상기 유체 공급 유닛의 상기 일측 가장자리에 인접하게 제공되는 제1하류 떨림 방지 부재와;
상기 유체 공급 유닛의 상기 타측 가장자리에 인접하게 제공되는 제2하류 떨림 방지 부재를 포함하는 기판 처리 장치.7. The method of claim 6,
The downstream anti-shake member,
a first downstream anti-shake member provided adjacent to the one edge of the fluid supply unit;
and a second downstream anti-shake member provided adjacent to the other edge of the fluid supply unit. 제7항에 있어서,
상기 제1하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리는 상기 제2하류 떨림 방지 부재와 상기 유체 공급 유닛과의 거리와 동일하게 제공되는 기판 처리 장치.8. The method of claim 7,
and a distance between the first downstream anti-shake member and the fluid supply unit is the same as a distance between the second downstream anti-shake member and the fluid supply unit. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 상부 접촉 롤러와 상기 하부 접촉 롤러는 프리 롤러로 제공되는 기판 처리 장치. According to claim 1,
The upper contact roller and the lower contact roller are provided as free rollers. 제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유체 공급 유닛은 상기 기판에 건조가스를 분사하며, 그 길이가 상기 제2방향을 따른 기판의 길이와 동일하거나 이보다 길게 제공되는 노즐부를 포함하는 기판 처리 장치.According to any one of claims 1, 3 to 5,
and the fluid supply unit sprays a drying gas to the substrate and includes a nozzle unit having a length equal to or longer than a length of the substrate in the second direction. 제11항에 있어서,
상기 노즐부는 상부에서 바라볼 때, 상기 제1방향을 따라 경사지게 제공되는 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
When the nozzle part is viewed from above, the substrate processing apparatus is provided to be inclined along the first direction.
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