KR102156741B1 - Apparatus for treating substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 세정 처리하는 장치를 제공한다. 기판처리장치는 기판을 지지 및 반송하는 반송유닛, 상기 반송유닛으로부터 지지된 기판의 상면을 세정처리하는 상부브러쉬부재를 가지는 세정유닛, 그리고 상기 세정유닛이 영점 높이에 위치되도록 상기 세정유닛의 높이를 안내하는 영점조절부재를 포함하되, 상기 상부브러쉬부재는 상기 반송유닛의 상부에 위치되는 롤 샤프트, 상기 롤 샤프트의 외주면을 감싸도록 제공되는 롤 브러쉬, 그리고 상기 롤 샤프트를 상하방향으로 이동시키는 샤프트이동부재를 포함하고, 상기 영점조절부재는 상기 롤샤프트의 일단에 탈착 가능한 지그부재 및 상기 영점높이를 설정하도록 상기 지그부재에 고정결합되는 영점부재를 포함한다. 영점조절부재는 브러쉬부재를 파지한 상태에서 브러쉬부재가 영점높이에 위치되도록 이동되므로, 브러쉬부재는 기준점을 가질 수 있다.The present invention provides an apparatus for cleaning a substrate. The substrate processing apparatus includes a transfer unit for supporting and transferring a substrate, a cleaning unit having an upper brush member for cleaning an upper surface of a substrate supported by the transfer unit, and a height of the cleaning unit so that the cleaning unit is positioned at a zero point height. Including a zero-adjustment member to guide, wherein the upper brush member is a roll shaft positioned above the conveying unit, a roll brush provided to surround the outer circumferential surface of the roll shaft, and a shaft movement for moving the roll shaft in a vertical direction Including a member, the zero point adjustment member includes a jig member detachable to one end of the roll shaft and a zero point member fixedly coupled to the jig member to set the zero point height. Since the zero adjustment member is moved so that the brush member is positioned at the zero point height while holding the brush member, the brush member may have a reference point.

Description

기판처리장치{Apparatus for treating substrate}Substrate processing device {Apparatus for treating substrate}

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 세정처리하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for processing a substrate, and more particularly, to an apparatus for cleaning a substrate.

액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널을 제조하기 위해 베이크, 도포, 현상, 세정 등 다양한 공정들이 요구된다. 이들 공정들 중 세정 공정은 기판 상에 부착된 파티클 등과 같이 오염 물질을 제거하는 공정으로서, 박막 트랜지스터 등의 소자 손실을 최소화하여 수율을 향상시키기 위한 공정이 수행된다. In order to manufacture a flat panel display panel such as a liquid crystal display (LCD), various processes such as baking, coating, development, and cleaning are required. Among these processes, the cleaning process is a process of removing contaminants such as particles attached to a substrate, and a process for improving yield by minimizing device loss such as a thin film transistor is performed.

일반적으로, 세정공정으로는 반송샤프트 및 반송롤러에 의해 일방향을 따라 반송되는 기판으로 세정액을 공급하고, 이를 롤 브러쉬로 세정하는 장치가 사용된다. 롤 브러쉬는 반송샤프트와 평행한 길이방향을 가지며, 그 중심축을 중심으로 회전하여 기판을 세정된다. In general, as a cleaning process, an apparatus for supplying a cleaning liquid to a substrate carried along one direction by a transfer shaft and a transfer roller and cleaning it with a roll brush is used. The roll brush has a longitudinal direction parallel to the transfer shaft, and rotates about its central axis to clean the substrate.

롤 브러쉬는 그 높이가 조절되어 기판과의 간격을 조절하고, 롤 브러쉬와 기판 간의 간격에 따라 세정력을 달라진다. 그러나 롤 브러쉬와 기판 간의 간격이 너무 가까우면 기판이 손상될 위험이 있고, 너무 멀면 세정효율이 낮다. 이로 인해 기판의 종류에 따라 기판과 롤 브러쉬 간에 간격을 지속적으로 조절해야 한다.The height of the roll brush is adjusted to control the distance from the substrate, and the cleaning power varies according to the distance between the roll brush and the substrate. However, if the distance between the roll brush and the substrate is too close, there is a risk of damaging the substrate, and if it is too far, the cleaning efficiency is low. For this reason, the distance between the substrate and the roll brush must be continuously adjusted according to the type of substrate.

그러나 롤 브러쉬은 그 높이에 대한 기준점이 불분명하다. 이로 인해 작업자들에 따라 롤 브러쉬를 세팅하는 높이가 각각 상이해지고, 세정효율이 달라질 수 있다.However, the reference point for the height of the roll brush is unclear. For this reason, the height of setting the roll brush may be different depending on the workers, and the cleaning efficiency may vary.

본 발명은 롤 브러쉬의 기준점을 정의하는 새로운 구조의 장치를 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a device of a new structure for defining a reference point of a roll brush.

본 발명의 실시예는 기판을 세정 처리하는 장치를 제공한다. 기판처리장치는 기판을 지지 및 반송하는 반송유닛, 상기 반송유닛으로부터 지지된 기판의 상면을 세정처리하는 상부브러쉬부재를 가지는 세정유닛, 그리고 상기 세정유닛이 영점 높이에 위치되도록 상기 세정유닛의 높이를 안내하는 영점조절부재를 포함하되, 상기 상부브러쉬부재는 상기 반송유닛의 상부에 위치되는 롤 샤프트, 상기 롤 샤프트의 외주면을 감싸도록 제공되는 롤 브러쉬, 그리고 상기 롤 샤프트를 상하방향으로 이동시키는 샤프트이동부재를 포함하고, 상기 영점조절부재는 상기 롤샤프트의 일단에 탈착 가능한 지그부재 및 상기 영점높이를 설정하도록 상기 지그부재에 고정결합되는 영점부재를 포함한다. An embodiment of the present invention provides an apparatus for cleaning a substrate. The substrate processing apparatus includes a transfer unit for supporting and transferring a substrate, a cleaning unit having an upper brush member for cleaning an upper surface of a substrate supported by the transfer unit, and a height of the cleaning unit so that the cleaning unit is positioned at a zero point height. Including a zero-adjustment member to guide, wherein the upper brush member is a roll shaft positioned above the conveying unit, a roll brush provided to surround the outer circumferential surface of the roll shaft, and a shaft movement for moving the roll shaft in a vertical direction Including a member, the zero point adjustment member includes a jig member detachable to one end of the roll shaft and a zero point member fixedly coupled to the jig member to set the zero point height.

상기 영점부재는 상기 롤 샤프트의 이동에 따라 상기 기판과 접촉되는 영점위치 및 상기 기판과 이격되는 설정위치로 이동될 수 있다. 상기 지그부재의 외측면에는 상기 롤 샤프트의 외주면이 삽입 가능한 장착홈이 형성될 수 있다. 상기 상부 브러쉬부재는 복수 개로 제공되며, 각각의 상기 상부 브러쉬부재는 수평방향을 따라 나란하게 위치되되, 상기 지그부재에는 상기 롤 샤프트들 각각에 탈착 가능하도록 상기 장착홈이 복수 개로 제공될 수 있다. 상기 장착홈은 상기 롤 샤프트의 외주면과 대응되는 형상을 가지도록 제공될 수 있다. 상기 세정유닛은 상기 반송유닛으로부터 지지된 기판의 저면을 세정처리하는 하부 브러쉬부재를 더 포함하되, 상기 지그부재는 상기 하부 브러쉬부재에 탈착 가능하도록 제공될 수 있다. 상기 지그부재는 상기 롤 샤프트의 타단에 장착 가능하도록 제공될 수 있다.The zero member may be moved to a zero position contacting the substrate and a set position spaced apart from the substrate according to the movement of the roll shaft. A mounting groove into which the outer peripheral surface of the roll shaft can be inserted may be formed on an outer surface of the jig member. A plurality of upper brush members may be provided, and each of the upper brush members may be positioned side by side in a horizontal direction, and a plurality of mounting grooves may be provided in the jig member so as to be detachable to each of the roll shafts. The mounting groove may be provided to have a shape corresponding to the outer peripheral surface of the roll shaft. The cleaning unit may further include a lower brush member for cleaning a bottom surface of the substrate supported by the transfer unit, and the jig member may be provided to be detachable from the lower brush member. The jig member may be provided to be mountable to the other end of the roll shaft.

본 발명의 실시예에 의하면, 영점조절부재는 브러쉬부재를 파지한 상태에서 브러쉬부재가 영점높이에 위치되도록 이동되므로, 브러쉬부재는 기준점을 가질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, since the zero control member is moved so that the brush member is positioned at a zero height while holding the brush member, the brush member may have a reference point.

도1은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도2는 도1의 기판처리장치를 보여주는 평면도이다.
도3은 도1의 브러쉬부재를 보여주는 사시도이다.
도4는 상부 브러쉬부재가 장착된 영점조절부재를 보여주는 사시도이다.
도5 내지 도8은 영점조절부재가 브러쉬부재를 영점높이로 이동시키는 과정을 보여주는 과정도이다.1 is a cross-sectional view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view showing the substrate processing apparatus of FIG. 1.
Figure 3 is a perspective view showing the brush member of Figure 1;
Fig. 4 is a perspective view showing a zero point adjustment member equipped with an upper brush member.
5 to 8 are process diagrams showing a process of moving the brush member to the height of the zero point adjustment member.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Therefore, the shape of the element in the drawings is exaggerated to emphasize a more clear description.

본 실시예에서 기판(S)은 평판 표시 패널 제조에 사용되는 기판(S)을 예로 들어 설명한다. 그러나 이와 달리 기판(S)은 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼일 수 있다. 또한 본 실시예에는 기판(S)을 세정 처리하는 공정에 대해 설명한다. 이하, 본 발명은 도1 내지 도8을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.In the present embodiment, the substrate S will be described taking the substrate S used for manufacturing the flat panel display as an example. However, unlike this, the substrate S may be a wafer used for manufacturing a semiconductor chip. In addition, in this embodiment, a process of cleaning the substrate S will be described. Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 8.

도1은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이고, 도2는 도1의 기판처리장치를 보여주는 평면도이다. 도1 및 도2를 참조하면, 기판처리장치는 기판을 세정처리하는 공정을 수행한다. 기판 처리 장치는 세정모듈(350) 및 건조모듈(330)을 포함한다. 세정모듈(350)은 기판(S) 상에 잔류된 이물을 세정처리하고, 건조모듈(330)은 기판(S) 상에 잔류된 기판 처리액을 건조 처리한다. 세정모듈(350) 및 건조모듈(330)은 제1방향(12)을 따라 일렬로 배치된다.1 is a cross-sectional view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing the substrate processing apparatus of FIG. 1. 1 and 2, the substrate processing apparatus performs a process of cleaning a substrate. The substrate processing apparatus includes a cleaning module 350 and a drying module 330. The cleaning module 350 cleans the foreign matter remaining on the substrate S, and the drying module 330 dries the substrate processing liquid remaining on the substrate S. The cleaning module 350 and the drying module 330 are arranged in a line along the first direction 12.

세정모듈(350)은 세정챔버(351), 반송유닛(310), 스팀공급유닛(360), 브러쉬부재(450), 그리고 영점조절부재(500)를 포함한다. 세정챔버(351)는 직육면체 형상을 가지도록 제공된다. 세정챔버(351)는 내부에 제1처리공간을 제공한다. 세정챔버(351)의 양단에는 개구가 형성된다. 세정챔버(351)의 일단에 형성된 개구(353)는 기판(S)이 반입되는 입구로 제공되고, 세정챔버(351)의 타단에 형성된 개구(352)는 기판(S)이 반입되는 출구로 제공된다. 세정챔버(351)의 출구(352)는 건조챔버(331)의 입구(333)와 대향되게 위치된다. 세정챔버(351)의 입구(353) 및 출구(352)는 동일 높이에 형성된다. 세정챔버(351)의 출구는 건조모듈(330)과 대향되게 위치된다. 세정챔버(351)의 제1처리공간은 건조모듈(330)의 내부와 서로 통하도록 제공된다.The cleaning module 350 includes a cleaning chamber 351, a conveying unit 310, a steam supply unit 360, a brush member 450, and a zero control member 500. The cleaning chamber 351 is provided to have a rectangular parallelepiped shape. The cleaning chamber 351 provides a first processing space therein. Openings are formed at both ends of the cleaning chamber 351. An opening 353 formed at one end of the cleaning chamber 351 is provided as an inlet through which the substrate S is carried, and an opening 352 formed at the other end of the cleaning chamber 351 is provided as an outlet through which the substrate S is carried in. do. The outlet 352 of the cleaning chamber 351 is positioned opposite to the inlet 333 of the drying chamber 331. The inlet 353 and the outlet 352 of the cleaning chamber 351 are formed at the same height. The outlet of the cleaning chamber 351 is positioned to face the drying module 330. The first processing space of the cleaning chamber 351 is provided to communicate with the interior of the drying module 330.

반송유닛(310)은 기판(S)을 제1방향(12)으로 반송한다. 반송유닛(310)은 세정모듈(330)과 건조모듈(350)에 각각 배치된다. 반송유닛(310)은 반송샤프트(311), 반송롤러(313), 그리고 동력전달부재(320)를 포함한다. 반송샤프트(311)는 복수 개로 제공된다. 각각의 반송샤프트(311)는 그 길이방향이 제1방향(12)과 수직한 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 반송샤프트(311)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 배치된다. 각각의 반송샤프트(311)는 서로 간에 이격되게 배치된다. 반송샤프트(311)는 입구 및 출구에 대응되는 높이에 위치된다. 선택적으로, 반송샤프트(311)는 기판(S) 상에 잔류된 처리액이 용이하게 제거되도록, 기판(S)을 일정 각도 경사진 상태에서 반송할 수 있다. 반송샤프트(311)들의 양단은 베어링 등의 회전지지부재(미도시)에 의해 지지된다, The transfer unit 310 transfers the substrate S in the first direction 12. The transfer unit 310 is disposed in the cleaning module 330 and the drying module 350, respectively. The conveying unit 310 includes a conveying shaft 311, a conveying roller 313, and a power transmission member 320. The conveying shaft 311 is provided in plural. Each of the conveying shafts 311 is provided so that its longitudinal direction faces in a second direction 14 perpendicular to the first direction 12. The conveying shafts 311 are arranged side by side along the first direction 12. Each of the conveying shafts 311 is disposed to be spaced apart from each other. The conveying shaft 311 is located at a height corresponding to the inlet and the outlet. Optionally, the transport shaft 311 may transport the substrate S in a state inclined at a predetermined angle so that the processing liquid remaining on the substrate S is easily removed. Both ends of the transfer shaft 311 are supported by rotational support members (not shown) such as bearings,

반송롤러(313)는 각각의 반송샤프트(311)에 복수 개로 제공된다. 반송롤러(313)는 반송샤프트(311)에 장착되어 기판(S)의 저면을 지지한다. 반송롤러(313)는 그 중심축에 홀이 형성되고, 반송샤프트(311)는 홀에 강제 끼움된다. 반송롤러(313)는 반송샤프트(311)와 함께 회전된다.A plurality of conveying rollers 313 are provided to each conveying shaft 311. The transfer roller 313 is mounted on the transfer shaft 311 to support the bottom surface of the substrate S. The conveying roller 313 has a hole formed in its central axis, and the conveying shaft 311 is forcibly fitted into the hole. The conveying roller 313 is rotated together with the conveying shaft 311.

반송샤프트(311)들은 동력전달부재(320)에 의해 서로 간에 연결된다. 반송샤프트(311)는 구동부재(326)의 회전력을 반송샤프트(311)에 전달한다. 동력전달부재(320)는 풀리(322), 벨트(324), 그리고 구동부재(326)를 포함한다. 풀리(322) 및 벨트(324)는 복수 개로 제공된다. 풀리(322)는 반송샤프트(311)들의 일단에 각각 제공된다. 벨트(324)는 서로 인접하게 위치된 풀리(322)들을 연결한다. 복수 개의 반송샤프트(311)들 중 일부는 구동부재(326)에 의해 회전됨에 따라 그 회전력을 벨트(324)를 통해 다른 반송샤프트(311)들로 전달될 수 있다. 선택적으로 동력전달부재(320)는 서로 간에 맞물리는 기어로 제공될 수 있다. 또한 동력전달부재(320)는 마찰에 의한 파티클 발생을 방지하기 위해, 자력을 이용하여 회전력을 전달하는 자석부재로 제공될 수 있다.The transport shafts 311 are connected to each other by a power transmission member 320. The conveying shaft 311 transmits the rotational force of the driving member 326 to the conveying shaft 311. The power transmission member 320 includes a pulley 322, a belt 324, and a driving member 326. The pulley 322 and the belt 324 are provided in plural. Pulleys 322 are provided at one end of the conveying shafts 311, respectively. Belt 324 connects pulleys 322 located adjacent to each other. As some of the plurality of conveying shafts 311 are rotated by the driving member 326, their rotational force may be transmitted to the other conveying shafts 311 through the belt 324. Optionally, the power transmission member 320 may be provided as a gear engaged with each other. In addition, the power transmission member 320 may be provided as a magnetic member that transmits rotational force by using magnetic force in order to prevent the generation of particles due to friction.

스팀공급유닛(360)은 제1처리공간에 위치된 기판(S)으로 스팀을 공급한다. 스팀공급유닛(360)은 복수 개의 스팀노즐들(361)을 포함한다. 스팀노즐들(361) 각각은 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 스팀노즐(361)은 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 일 예에 의하면, 스팀노즐(361)의 길이는 기판(S)의 폭과 대응되거나 이보다 길게 제공될 수 있다. 스팀노즐들(361) 각각에는 슬릿 형상의 분사구들이 형성된다. 분사구의 길이방향은 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 복수 개의 스팀노즐들(361) 중 일부는 반송샤프트(311)의 상부에 위치되고, 다른 일부는 하부에 위치된다. 상부스팀노즐(361a)에는 분사구가 아래를 향하도록 제공되고, 하부스팀노즐(361b)에는 분사구가 위를 향하도록 제공된다. 상부스팀노즐(361a)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 위치된다. 하부스팀노즐(361b)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 위치된다. 하부스팀노즐(361b)은 상부스팀노즐(361a)과 일대일 대응되도록 위치된다. The steam supply unit 360 supplies steam to the substrate S located in the first processing space. The steam supply unit 360 includes a plurality of steam nozzles 361. Each of the steam nozzles 361 is provided to have the same shape. The steam nozzle 361 has a bar shape and is provided so that its longitudinal direction faces the second direction 14. According to an example, the length of the steam nozzle 361 may correspond to or longer than the width of the substrate S. Each of the steam nozzles 361 is formed with slit-shaped injection ports. The longitudinal direction of the injection port is provided to face the second direction 14. Some of the plurality of steam nozzles 361 are located above the conveying shaft 311, and other parts are located below. The upper steam nozzle 361a is provided with the injection port facing downward, and the lower steam nozzle 361b is provided with the injection port facing upward. The upper steam nozzles 361a are positioned side by side along the first direction 12. The lower steam nozzles 361b are positioned side by side along the first direction 12. The lower steam nozzle 361b is positioned to correspond to the upper steam nozzle 361a one-to-one.

브러쉬부재(450)는 기판(S)을 물리적 접촉력을 사용하여 세정한다. 브러쉬부재(450)는 스팀공급유닛(360)에 의해 세정이 이뤄진 기판(S)을 2 차 세정한다. 브러시부재는 스팀에 의해 기판(S)에 대한 부착력이 저하된 파티클을 기판(S)으로부터 제거한다. 브러쉬부재(450)는 제1처리공간에서 기판(S)의 반송방향에 대해 스팀공급유닛(360)보다 하류에 위치된다. 브러쉬부재(450)는 복수 개로 제공된다. 브러쉬부재(450)는 반송샤프트(311)의 상부 및 하부에 각각 위치된다. 일 예에 의하면, 반송샤프트(311)의 상부에 위치된 상부 브러쉬부재(450a)와 하부에 위치된 하부 브러쉬부재(450b)는 각각 2 개로 제공될 수 있다. 상부 브러쉬부재들(450a) 및 하부 브러쉬부재들(450b) 각각은 제1방향(12)을 따라 나란히 배치될 수 있다. 상부 브러쉬부재들(450a)과 하부 브러쉬부재들(450b)은 상하방향을 따라 서로 대향되게 위치될 수 있다. The brush member 450 cleans the substrate S using a physical contact force. The brush member 450 secondaryly cleans the substrate S cleaned by the steam supply unit 360. The brush member removes from the substrate S particles whose adhesion to the substrate S is lowered by steam. The brush member 450 is located downstream from the steam supply unit 360 with respect to the conveying direction of the substrate S in the first processing space. The brush member 450 is provided in plural. The brush member 450 is positioned above and below the conveying shaft 311, respectively. According to an example, two upper brush members 450a positioned above the transport shaft 311 and two lower brush members 450b positioned below the transport shaft 311 may be provided. Each of the upper brush members 450a and the lower brush members 450b may be arranged side by side along the first direction 12. The upper brush members 450a and the lower brush members 450b may be positioned to face each other along the vertical direction.

도3은 도1의 브러쉬부재를 보여주는 사시도이다. 도3을 참조하면, 상부 브러쉬부재(450a)는 롤샤프트(452), 브러쉬모(454), 그리고 샤프트이동부재(430)를 포함한다. 롤샤프트(452)는 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 롤샤프트(452)는 구동부재(426)에 의해 그 중심축을 중심으로 회전된다. 브러쉬모(454)는 롤샤프트(452)의 외주면을 감싸도록 제공된다. 브러쉬모(454)는 기판(S)의 폭과 대응되거나 이보다 길게 제공된다. 브러쉬모(454)는 롤샤프트(452)와 함께 회전된다. 샤프트이동부재(430)는 브러쉬모(454)와 기판(S) 간에 간격을 조절한다. 샤프트이동부재(430)는 롤샤프트(452)의 양단에 각각 제공된다. 샤프트이동부재(430)는 롤샤프트(452)를 승강 또는 하강 이동시킨다. Figure 3 is a perspective view showing the brush member of Figure 1; Referring to FIG. 3, the upper brush member 450a includes a roll shaft 452, a brush head 454, and a shaft moving member 430. The roll shaft 452 is provided so that its longitudinal direction faces the second direction 14. The roll shaft 452 is rotated about its central axis by the driving member 426. The brush hair 454 is provided to surround the outer peripheral surface of the roll shaft 452. The brush hair 454 corresponds to the width of the substrate S or is provided longer than this. The brush head 454 is rotated together with the roll shaft 452. The shaft moving member 430 adjusts the distance between the brush head 454 and the substrate S. Shaft moving members 430 are provided at both ends of the roll shaft 452, respectively. The shaft moving member 430 moves the roll shaft 452 up or down.

하부 브러쉬부재(450b)는 상부 브러쉬부재(450a)와 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 따라서 하부 브러쉬부재(450b)에 대한 상세한 설명은 생략한다.The lower brush member 450b is provided to have the same shape as the upper brush member 450a. Therefore, a detailed description of the lower brush member 450b will be omitted.

영점조절부재(500)는 브러쉬부재(450)들이 영점높이에 위치되도록 안내한다. 영점조절부재(500)는 상부 브러쉬부재(450a)들 및 하부브러쉬부재(450)들에 각각에 탈착 가능하도록 제공된다. 영점조절부재(500)는 상부 브러쉬부재(450a)들 또는 하부브러쉬부재(450)들에 장착된 상태에서 이들을 영점높이로 안내한다. 다음은 반송샤프트(311)를 기준으로 이의 상부에서 상부브러쉬부재(450a)에 장착되는 영점조절부재(500)에 대해 설명한다.The zero adjustment member 500 guides the brush members 450 to be positioned at the zero point height. The zero adjustment member 500 is provided to the upper brush members 450a and the lower brush members 450 so as to be detachable to each. The zero adjustment member 500 guides them to the zero height while being mounted on the upper brush members 450a or the lower brush members 450. The following describes the zero adjustment member 500 mounted on the upper brush member 450a from the top of the transfer shaft 311 as a reference.

도4는 상부 브러쉬부재에 장착된 영점조절부재를 보여주는 사시도이다. 도4를 참조하면, `영점조절부재(500)는 지그부재(510) 및 영점부재(520)를 포함한다. 지그부재(510)는 몸체(512) 및 돌출부(514)를 포함한다. 몸체(512)는 롤샤프트(452)에서 샤프트이동부재(430)와 브러쉬모(454) 사이에 위치된다. 몸체(512)는 롤샤프트(452)의 상단에 탈착 가능하도록 제공된다. 몸체(512)는 그 길이방향이 제1방향(12)을 향하는 직육면체 형상으로 제공된다. 몸체(512)는 저면에 지지홈(511)이 형성된다. 지지홈(511)은 복수 개로 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 지지홈들(511)은 상부브러쉬부재들(450a)의 개수와 동일하게 제공될 수 있다. 지지홈들(511)은 2 개로 제공될 수 있다. 지지홈들(511)은 각각의 상부 브러쉬부재들(450a)이 나열된 방향을 따라 위치될 수 있다. 지지홈들(511)은 제1방향(12)을 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 지지홈들(511) 각각에는 롤샤프트(452)가 삽입 가능하도록 제공된다. 지지홈(511)을 형성하는 몸체의 천장면은 롤샤프트(452)의 외주면과 대응되게 제공된다. 일 예에 의하면, 지지홈(511)의 천장면은 롤샤프트를 감싸도록 라운드지게 제공될 수 있다. 돌출부(514)(524)는 몸체(512)로부터 돌출되는 돌기(524)로 제공된다. 돌출부(514)(524)는 제1방향(12)을 향하는 몸체(512)의 측면으로부터 돌출되게 제공된다. 4 is a perspective view showing a zero point adjustment member mounted on the upper brush member. Referring to FIG. 4, the'zero control member 500 includes a jig member 510 and a zero point member 520. The jig member 510 includes a body 512 and a protrusion 514. The body 512 is located between the shaft moving member 430 and the brush head 454 in the roll shaft 452. The body 512 is provided to be detachable from the upper end of the roll shaft 452. The body 512 is provided in a rectangular parallelepiped shape whose longitudinal direction faces the first direction 12. The body 512 has a support groove 511 formed on the bottom surface. The support groove 511 may be provided in plurality. According to an example, the support grooves 511 may be provided equal to the number of upper brush members 450a. Support grooves 511 may be provided in two. The support grooves 511 may be positioned along a direction in which the upper brush members 450a are arranged. The support grooves 511 may be sequentially arranged along the first direction 12. Each of the support grooves 511 is provided so that a roll shaft 452 can be inserted. The ceiling surface of the body forming the support groove 511 is provided to correspond to the outer peripheral surface of the roll shaft 452. According to one example, the ceiling surface of the support groove 511 may be provided to be round to surround the roll shaft. The protrusions 514 and 524 are provided as protrusions 524 protruding from the body 512. The protrusions 514 and 524 are provided to protrude from the side surface of the body 512 facing the first direction 12.

영점부재(520)는 돌출부(514)에 고정결합된다. 영점부재(520)는 상부 브러쉬부재를 영점높이로 세팅할 수 있다. 영점부재(520)는 롤샤프트의 이동에 의해 기판과 접촉되는 영점위치 및 이와 이격되는 이격위치로 이동 가능하다. 여기서 영점위치는 상부 브러쉬부재(450a)의 영점높이로 제공될 수 있다. 예컨대, 영점부재(520)는 다이얼 게이지일 수 있다. 선택적으로 영점부재(520)는 센서일 수 있다.The zero point member 520 is fixedly coupled to the protrusion 514. The zero member 520 may set the upper brush member to a zero height. The zero point member 520 is movable to a zero point contact with the substrate and a spaced position spaced apart from the zero point by the movement of the roll shaft. Here, the zero point position may be provided as the zero point height of the upper brush member 450a. For example, the zero point member 520 may be a dial gauge. Optionally, the zero point member 520 may be a sensor.

하부 브러쉬부재(450b)에 장착되는 영점조절부재(500)는 지그부재(510)의 지지홈(511)이 위를 향하도록 장착될 수 있다.The zero adjustment member 500 mounted on the lower brush member 450b may be mounted such that the support groove 511 of the jig member 510 faces upward.

다음은 영점조절부재(500)를 이용하여 상부브러쉬부재(450a)를 영점높이로 이동시키는 과정을 설명한다. 도5 내지 도8은 영점조절부재가 브러쉬부재를 영점높이로 이동시키는 과정을 보여주는 과정도이다. 도5 내지 도8을 참조하면, 반송유닛(310)에 설정기판(S)이 놓이면, 지그부재(510)를 상부 브러쉬부재(450a)의 롤샤프트(452)의 일단에 장착한다. 예컨대, 설정기판(S)은 실제 공정에 사용되는 기판과 동일한 형상을 가지도록 제공될 수 있다. 설정기판(S)은 그 두께가 0.5mm일 수 있다. 롤샤프트(452)는 설정기판(S)의 상부에 위치된다. 작업자는 롤샤프트(452)의 일단을 하강시킨다. 영점부재(520)가 설정기판(S)의 상면과 접촉되면, 이를 상부 브러쉬부재(450a)의 롤샤프트(452)의 일단을 영점높이로 세팅한다. 지그부재(510)를 상부 브러쉬부재(450a)의 롤샤프트(452)의 일단으로부터 탈착하여 그 타단에 장착한다. 작업자는 롤샤프트(452)의 타단을 하강시킨다. 롤샤프트(452)의 타단에 장착된 지그부재(510)가 설정기판의 상면에 접촉되면, 이를 상부 브러쉬부재(450a)의 롤샤프트(452)의 타단을 영점높이로 세팅한다. 지그부재(510)는 상부 브러쉬부재(450a)로부터 탈착되어 하부 브러쉬부재(450b)의 롤 샤프트의 일단에 장착된다. 하부 브러쉬부재(450b)의 영점높이 세팅은 상부 브러쉬부재(450a)의 롤 샤프트의 영점높이 세팅과 동일하다. 하부 브러쉬부재(450b)의 영점높이가 세팅되면, 상부 브러쉬부재(450a)와 하부 브러쉬부재(450b) 각각의 롤 샤프트는 서로 간에 0.5mm 만큼 이격되게 위치된다. 여기서 작업자는 기판(S)의 세정 정도에 따라 상부 브러쉬 부재(450a)를 승강하거나, 하부 브러쉬 부재(450b)를 하강시킬 수 있다.Next, a process of moving the upper brush member 450a to the height of the zero point using the zero point adjustment member 500 will be described. 5 to 8 are process diagrams showing a process of moving the brush member to the height of the zero point adjustment member. 5 to 8, when the setting substrate S is placed on the transfer unit 310, the jig member 510 is mounted on one end of the roll shaft 452 of the upper brush member 450a. For example, the setting substrate S may be provided to have the same shape as a substrate used in an actual process. The setting substrate S may have a thickness of 0.5 mm. The roll shaft 452 is located on the setting substrate S. The operator lowers one end of the roll shaft 452. When the zero member 520 contacts the upper surface of the setting substrate S, one end of the roll shaft 452 of the upper brush member 450a is set to the zero height. The jig member 510 is detached from one end of the roll shaft 452 of the upper brush member 450a and mounted on the other end thereof. The operator lowers the other end of the roll shaft 452. When the jig member 510 mounted on the other end of the roll shaft 452 contacts the upper surface of the setting substrate, the other end of the roll shaft 452 of the upper brush member 450a is set to the zero height. The jig member 510 is detached from the upper brush member 450a and mounted on one end of the roll shaft of the lower brush member 450b. The setting of the zero height of the lower brush member 450b is the same as the setting of the zero height of the roll shaft of the upper brush member 450a. When the zero height of the lower brush member 450b is set, the roll shafts of the upper brush member 450a and the lower brush member 450b are positioned to be spaced apart from each other by 0.5mm. Here, the operator may raise or lower the upper brush member 450a or lower the lower brush member 450b according to the degree of cleaning of the substrate S.

상술한 실시예에 의하면, 기판(S)의 두께는 그 종류에 따라 다양하게 제공될 수 있으나, 기판(S)과 브러쉬부재(450) 간에 간격은 항상 일정하게 제공되므로, 기판(S)의 세정에 대한 재현성을 균일화시킬 수 있다. 또한 영점부재(520)를 통해 기판(S)과 브러쉬부재(450) 간의 간격을 가늠할 수 있으므로, 기판(S)과 브러쉬부재(450) 간의 간격을 수치화하여 조절할 수 있다. According to the above-described embodiment, the thickness of the substrate S may be provided in various ways depending on the type, but since the distance between the substrate S and the brush member 450 is always provided, cleaning of the substrate S The reproducibility for can be uniform. In addition, since the distance between the substrate S and the brush member 450 can be measured through the zero member 520, the distance between the substrate S and the brush member 450 can be numerically adjusted and adjusted.

또한 롤 샤프트의 일단과 타단의 높이를 동일하도록 영점높이에 세팅하므로, 롤 브러쉬가 양단 중 어느 하나에 기울어지는 것을 방지할 수 있다.In addition, since the height of one end and the other end of the roll shaft is set to the same height at the zero point, it is possible to prevent the roll brush from inclining to either end.

다시 도1 및 도2를 참조하면, 건조모듈(330)은 건조챔버(331) 및 가스공급유닛(345)을 포함한다. 건조챔버(331)는 내부에 공정이 수행되는 제2처리공간을 제공한다. 건조챔버(331)는 세정챔버(351)와 대체로 동일한 형상을 가진다. 건조챔버(331)의 입구(333)는 세정챔버(351)의 출구(352)와 대향되게 위치된다. 상술한 바와 같이, 반송유닛은 제1방향(12)을 따라 제1처리공간 및 제2처리공간 각각에 연장되게 위치된다. 반송유닛(310)은 제1처리공간에 제공된 기판(S)을 제1방향(12)에 따라 제2처리공간으로 반송한다.Referring back to FIGS. 1 and 2, the drying module 330 includes a drying chamber 331 and a gas supply unit 345. The drying chamber 331 provides a second processing space in which a process is performed. The drying chamber 331 has substantially the same shape as the cleaning chamber 351. The inlet 333 of the drying chamber 331 is positioned to face the outlet 352 of the cleaning chamber 351. As described above, the conveying unit is positioned to extend in each of the first processing space and the second processing space along the first direction 12. The transfer unit 310 transfers the substrate S provided in the first processing space to the second processing space in the first direction 12.

가스공급유닛(345)은 기판(S) 상에 잔류된 수분을 제거한다. 가스공급유닛(345)은 기판(S) 상에 건조가스를 공급하여 기판(S)을 건조한다. 예컨대 건조가스는 공기, 질소가스 또는 비활성 가스일 수 있다. 건조 가스는 상온 또는 가열된 상태로 공급될 수 있다. 가스공급유닛(345)은 가스노즐(345)을 포함한다. 가스노즐(345)은 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 가스노즐(345)은 반송샤프트(311)를 기준으로 이의 상부 및 하부에 각각 위치된다. 가스노즐(345)은 기판(S)의 반송방향에 대해 경사진 방향으로 가스를 분사한다. 일 예에 의하면, 상부가스노즐(345a)의 분사구는 기판(S) 상에 잔류하는 수분을 기판(S)의 반송방향과 반대방향을 밀어내도록 하향 경사진 방향을 향하게 제공될 수 있다. 하부가스노즐(345b)의 분사구는 기판(S) 상에 잔류하는 수분을 기판(S)의 반송방향과 반대방향을 밀어내도록 하향 경사진 방향을 향하게 제공될 수 있다. The gas supply unit 345 removes moisture remaining on the substrate S. The gas supply unit 345 provides drying gas on the substrate S to dry the substrate S. For example, the drying gas may be air, nitrogen gas or inert gas. The drying gas may be supplied at room temperature or in a heated state. The gas supply unit 345 includes a gas nozzle 345. The gas nozzle 345 is provided so that its longitudinal direction faces the second direction 14. The gas nozzle 345 is positioned above and below the conveying shaft 311, respectively. The gas nozzle 345 injects gas in a direction inclined with respect to the conveying direction of the substrate S. According to an example, the injection port of the upper gas nozzle 345a may be provided in a downwardly inclined direction to push the moisture remaining on the substrate S in a direction opposite to the conveying direction of the substrate S. The injection port of the lower gas nozzle 345b may be provided in a downwardly inclined direction to push the moisture remaining on the substrate S in a direction opposite to the conveying direction of the substrate S.

360: 스팀공급유닛 450: 브러쉬부재
452: 롤샤프트 454: 브러쉬모
500: 영점조절부재 510: 지그부재
520: 영점부재360: steam supply unit 450: brush member
452: roll shaft 454: brush head
500: zero control member 510: jig member
520: zero point absence

Claims (7)

기판을 지지 및 반송하는 반송유닛과;
상기 반송유닛으로부터 지지된 기판의 상면을 세정처리하는 상부브러쉬부재를 가지는 세정유닛과;
상기 세정유닛이 영점 높이에 위치되도록 상기 세정유닛의 높이를 안내하는 영점조절부재를 포함하되,
상기 상부브러쉬부재는,
상기 반송유닛의 상부에 위치되는 롤 샤프트와;
상기 롤 샤프트의 외주면을 감싸도록 제공되는 롤 브러쉬와;
상기 롤 샤프트를 상하방향으로 이동시키는 샤프트이동부재를 포함하고,
상기 영점조절부재는,
상기 롤샤프트의 일단에 탈착 가능한 지그부재와;
상기 영점높이를 설정하도록 상기 지그부재에 고정결합되는 영점부재를 포함하는 기판처리장치.A transfer unit for supporting and transferring the substrate;
A cleaning unit having an upper brush member for cleaning an upper surface of the substrate supported by the transfer unit;
Including a zero control member for guiding the height of the cleaning unit so that the cleaning unit is located at the height of the zero point,
The upper brush member,
A roll shaft positioned above the transfer unit;
A roll brush provided to surround the outer peripheral surface of the roll shaft;
Including a shaft moving member for moving the roll shaft in the vertical direction,
The zero point adjustment member,
A jig member detachable to one end of the roll shaft;
A substrate processing apparatus comprising a zero point member fixedly coupled to the jig member to set the zero point height. 제1항에 있어서,
상기 영점부재는 상기 롤 샤프트의 이동에 따라 상기 기판과 접촉되는 영점위치 및 상기 기판과 이격되는 설정위치로 이동되는 기판처리장치.
The method of claim 1,
The substrate processing apparatus is moved to a zero position contacting the substrate and a set position spaced apart from the substrate according to the movement of the roll shaft.
제2항에 있어서,
상기 지그부재의 외측면에는 상기 롤 샤프트의 외주면이 삽입 가능한 장착홈이 형성되는 기판처리장치.The method of claim 2,
A substrate processing apparatus in which a mounting groove into which an outer peripheral surface of the roll shaft can be inserted is formed on an outer surface of the jig member. 제3항에 있어서,
상기 상부 브러쉬부재는 복수 개로 제공되며, 각각의 상기 상부 브러쉬부재는 수평방향을 따라 나란하게 위치되되,
상기 지그부재에는 상기 롤 샤프트들 각각에 탈착 가능하도록 상기 장착홈이 복수 개로 제공되는 기판처리장치.The method of claim 3,
The upper brush member is provided in plural, and each of the upper brush members is positioned side by side in a horizontal direction,
A substrate processing apparatus in which a plurality of mounting grooves are provided in the jig member so as to be detachable to each of the roll shafts. 제4항에 있어서,
상기 장착홈은 상기 롤 샤프트의 외주면과 대응되는 형상을 가지도록 제공되는 기판처리장치.The method of claim 4,
The mounting groove is provided to have a shape corresponding to the outer peripheral surface of the roll shaft. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정유닛은,
상기 반송유닛으로부터 지지된 기판의 저면을 세정처리하는 하부 브러쉬부재를 더 포함하되,
상기 지그부재는 상기 하부 브러쉬부재에 탈착 가능하도록 제공되는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The cleaning unit,
Further comprising a lower brush member for cleaning the bottom surface of the substrate supported by the transfer unit,
The substrate processing apparatus is provided so that the jig member is detachably attached to the lower brush member. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 지그부재는 상기 롤 샤프트의 타단에 장착 가능하도록 제공되는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The substrate processing apparatus is provided so that the jig member is mountable to the other end of the roll shaft.
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