JP5524388B1 - Substrate transfer device - Google Patents
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Abstract
【課題】 上下一対の上ローラ2、下ローラ3に挟持されて基板を搬送する搬送装置において、上ローラ2の自重により、基板にダメージを与えることのない搬送装置の提供。
【解決手段】 下ローラ3の軸3bを固定し、上ローラ2の軸2bを昇降手段6aを介して、上下動自在に支持する。
【選択図】 図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transport device that transports a substrate while being sandwiched between a pair of upper and lower upper rollers 2 and 3 and that does not damage the substrate due to its own weight.
A shaft 3b of a lower roller 3 is fixed, and a shaft 2b of an upper roller 2 is supported through an elevating means 6a so as to be movable up and down.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、プリント配線板(PCBサブプレートを含む)を基板製造装置の内部に導く基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a board transfer device that guides a printed wiring board (including a PCB sub-plate) to the inside of a board manufacturing apparatus.
基板製造装置の内部は、複数の部屋に分かれ、現像室、エッチング室、剥離室、洗浄室、乾燥室等を有する。基板は、その各室を搬送装置によって移動する。その搬送装置は、上下に対向する一対のローラが搬送方向に多数並列され、その上下一対のローラに基板が挟持されて移動する。各ローラの回転軸には、樹脂材からなる多数の円板が軸線方向に定間隔に離間して配置されている。その回転軸の端部は駆動軸に伝動歯車を介して連結され、上下一対の回転軸は互いに逆向きに回転する。
次に、基板はその用途に応じその厚みが異なる。基板搬送装置は、その基板の厚みに、一定範囲で自動調整できるように形成されている。その調整は、上側ローラの軸方向の両端が、上方が開放したU字状のスリットに収納され、その最下端位置から上方に移動できるように形成されている。基板の厚みが厚くなると、その厚さに押されて上側ローラが上方に移動する。
The inside of the substrate manufacturing apparatus is divided into a plurality of rooms, and includes a developing chamber, an etching chamber, a peeling chamber, a cleaning chamber, a drying chamber, and the like. The substrate is moved by the transfer device in each chamber. In the conveying device, a large number of a pair of upper and lower rollers are arranged in parallel in the conveying direction, and a substrate is sandwiched and moved by the pair of upper and lower rollers. A large number of discs made of a resin material are arranged at regular intervals in the axial direction on the rotation shaft of each roller. The end of the rotating shaft is connected to the drive shaft via a transmission gear, and the pair of upper and lower rotating shafts rotate in opposite directions.
Next, the thickness of the substrate varies depending on the application. The substrate transfer device is formed so that the thickness of the substrate can be automatically adjusted within a certain range. The adjustment is formed such that both ends of the upper roller in the axial direction are accommodated in a U-shaped slit whose upper side is open and can move upward from its lowest end position. When the thickness of the substrate is increased, the upper roller is moved upward by being pushed by the thickness.
基板の厚みが厚くなると、上側ローラを、その厚みに押されて上方に移動するようにした基板搬送装置には、次の欠点がある。
基板の厚みに応じて上下動する搬送装置は、上側ローラの自重を利用し、基板を上側ローラと下側ローラに挟持させて移動するものである。ところが、比較的基板が薄いと、ローラの自重による負荷が基板に加わり、基板にダメージを与える場合がある。そのダメージにより、不良品が生じる場合がある。
そこで、本発明は上側ローラの自重による基板のダメージを可及的に少なくする基板搬送装置を提供することを課題とする。
When the thickness of the substrate is increased, the substrate transfer apparatus in which the upper roller is pushed by the thickness and moved upward has the following drawbacks.
The transport device that moves up and down in accordance with the thickness of the substrate uses the weight of the upper roller to move the substrate while sandwiching the substrate between the upper roller and the lower roller. However, if the substrate is relatively thin, a load due to the weight of the roller is applied to the substrate, which may damage the substrate. The damage may cause defective products.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate transport apparatus that minimizes damage to the substrate due to the weight of the upper roller.
請求項1に記載の本発明は、装置本体(1)と、
その装置本体(1)の内部で、搬送方向に離間して並列され、上下に対向する上ローラ(2)と下ローラ(3)の多数の対と、
装置本体(1)に固定されて、各下ローラ(3)の両端部を支持する一対の下ローラ支持体(4)と、
装置本体(1)に対して上下動自在に取付られ、各上ローラ(2)の両端を支持する一対の上ローラ支持体(5)と、を具備し、
被搬送用の基板が前記下ローラ(3)と上ローラ(2)との間を搬送され、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、一対の各上ローラ支持体(5)が昇降手段(6a)を介し、所定高さ移動できるように構成して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させ、
前記昇降手段(6a)は、
搬送方向に離間して一対の各上ローラ支持体(5)に、それぞれ取り付けた複数のカム枠(6)と、
各カム枠(6)を貫通する一対のカム軸(8)と、
各カム軸(8)に取付られて、その各カム枠(6)に摺接し、カム枠(6)を上下動させる複数のカム(7)と、を具備し、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、前記一対のカム軸(8)をそれぞれ所定角度回転させて停止し、その状態を保持することにより、複数の各カム(7)、カム枠(6)、一対の上ローラ支持体(5)を介して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させるように構成した基板搬送装置である。
The present invention as set forth in claim 1 comprises an apparatus body (1),
Inside the apparatus main body (1), a large number of pairs of an upper roller (2) and a lower roller (3) that are spaced apart in parallel in the conveying direction and face each other vertically,
A pair of lower roller supports (4) fixed to the apparatus body (1) and supporting both ends of each lower roller (3);
A pair of upper roller supports (5) attached to the apparatus main body (1) so as to be movable up and down and supporting both ends of each upper roller (2),
A substrate for transport is transported between the lower roller (3) and the upper roller (2),
The pair of upper roller supports (5) can be moved by a predetermined height via the lifting / lowering means (6a) so that the gap between the lower roller (3) and the upper roller (2) substantially matches the thickness of the substrate. Configured so that both ends of all upper rollers (2) are raised and lowered by a predetermined dimension ,
The lifting means (6a)
A plurality of cam frames (6) respectively attached to the pair of upper roller supports (5) spaced apart in the conveying direction;
A pair of camshafts (8) penetrating each cam frame (6);
A plurality of cams (7) attached to each camshaft (8), in sliding contact with each cam frame (6), and moving the cam frame (6) up and down;
Each of the pair of cam shafts (8) is rotated by a predetermined angle and stopped so that the gap between the lower roller (3) and the upper roller (2) substantially matches the thickness of the substrate, and the state is maintained. The substrate transfer apparatus configured to move up and down the both ends of all the upper rollers (2) through a plurality of cams (7), cam frames (6), and a pair of upper roller supports (5). It is.
請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載の基板搬送装置において、
前記一対のカム軸(8)を同期して所定角度回転するように構成した基板搬送装置である。
According to a second aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the first aspect ,
A substrate transfer apparatus configured to rotate the pair of cam shafts (8) in a predetermined angle in synchronization.
請求項3に記載の本発明は、請求項1又は請求項2のいずれかに記載の基板搬送装置において、
搬送方向に直交する方向で、各下ローラ支持体(4)に並列して各上ローラ支持体(5)が配置され、その下ローラ支持体(4)にガイド(13)が上ローラ支持体(5)側へ突設され、そのガイド(13)に上ローラ支持体(5)が上下動自在に案内された基板搬送装置である。
According to a third aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the first or second aspect ,
Each upper roller support (5) is arranged in parallel with each lower roller support (4) in a direction perpendicular to the conveying direction, and a guide (13) is placed on the lower roller support (4). (5) A substrate transfer device that protrudes toward the side and is guided by the guide (13) so that the upper roller support (5) can move up and down.
本発明の基板搬送装置は、装置本体1に一対の下ローラ支持体4を固定すると共に、その装置本体1に対して一対の上ローラ支持体5を上下動自在に案内し、下ローラ3と上ローラ2との隙間が基板の厚みに略整合するように、一対の各上ローラ支持体5を、昇降手段6aを介し、所定高さ移動できるように構成して、全ての上ローラ2の両端を所定寸法昇降させるものである。
その昇降手段6aとして、一対のカム軸8をそれぞれ所定角度回転させて停止し、その状態を保持することにより、複数のカム7、カム枠6、一対の上ローラ支持体5を介して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させるものである。
そのため、基板に加わる上ローラの荷重を最適に設定し、搬送に伴う基板へのダメージを防止できるとともに、簡単な構造で、全ての上下のローラ2,3間の隙間を迅速に、基板の厚みに略整合させることができる。それにより、各種厚さの基板の変化に対応して、それらの搬送を迅速に行うことができる。特に、カム軸8に取付た複数のカム7と、カム枠6、一対の上ローラ支持体5を利用するため、僅かな基板の厚みの違いにも正確に且つ迅速に対応することができる。
The substrate transfer apparatus according to the present invention fixes a pair of lower roller supports 4 to the apparatus main body 1 and guides the pair of upper roller supports 5 to move up and down relative to the apparatus main body 1. Each pair of
As the elevating means 6a, the pair of
Therefore, the load of the upper roller applied to the substrate can be set optimally to prevent damage to the substrate during transportation, and the gap between all the upper and
上記構成に加えて、請求項2に記載のように、一対のカム軸8を互いに同期して所定角度回転するように構成した場合には、全ての上ローラ2を所定高さ同時に昇降することができ、各種厚さの基板の変化に対応して、それらの搬送を迅速に行うことができる。
In addition to the above configuration, when the pair of
上記構成に加えて、請求項3に記載のように、各下ローラ支持体4に並列して上ローラ支持体5を配置し、その下ローラ支持体4にガイド13を突設し、そのガイド13に上ローラ支持体5を上下動自在に案内した場合には、よりコンパクトで且つ簡単な構造で、各上ローラ2を昇降することができる。
In addition to the above configuration, as described in
次に、図面に基づいて本発明の実施の形態につき説明する。
本発明は、エッチング装置の内部に配置された基板搬送装置であって、図1〜図3に示すごとく、多数の上下一対の上ローラ2と下ローラ3との間に挟持されて、図示しない基板を搬送させるものである。その上ローラ2、下ローラ3は軸2b、軸3bに多数の円板2a、円板3aが軸線方向に固定されたものである。そして、本発明の特徴とするところは、上ローラ2が上ローラ支持体5に支持され、その上ローラ支持体5が昇降手段6aを介して上下動自在に配置されたことである。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The present invention is a substrate transfer device disposed inside an etching apparatus, and is sandwiched between a plurality of upper and lower pairs of upper and
この実施例では、昇降手段6aはカム駆動モータ10と、その回転軸に設けられたウォーム11と、それに歯合するウォームギア12と、ウォームギア12を有するカム軸8と、そのカム軸8に取り付けられたカム7と、カム7が摺接するカム枠6と、そのカム枠6が固定された上ローラ支持体5とからなる。
In this embodiment, the
以下、より詳細に説明する。
この搬送装置は、図2に示すごとく、筐体からなる装置本体1の内部に設けられている。その装置本体1に板状の一対の下ローラ支持体4が同図に示すごとく、互いに平行に配置され、その長手方向両端が装置本体1に図1に示す如く、溶接等の手段により固定されている。各下ローラ支持体4は、上方から下方へ長方形のスリットがその長手方向に定間隔に多数配置されている。そして、各スリットに下ローラ3の軸3bの両端が下軸受15(図2)を介して回転自在に軸支されている。軸3bには、その軸線方向に定間隔に多数の樹脂製の円板3aが設けられている。軸3bの一端には、一対のヘリカルギアからなる伝動歯車14を介して、ローラ駆動軸9に連結されている。なお、上ローラ2の端部と下ローラ3の端部とは、図示しない一対の平歯車で歯合され、互いに逆向きに回転する。その歯合するかみ合い高さ以下に上ローラ2の前記昇降が行われる。
This will be described in more detail below.
As shown in FIG. 2, the transport device is provided inside the apparatus main body 1 formed of a housing. As shown in the figure, a pair of plate-like lower roller supports 4 are arranged in parallel to each other on the apparatus body 1, and both longitudinal ends thereof are fixed to the apparatus body 1 by means of welding or the like as shown in FIG. ing. Each lower roller support 4 has a large number of rectangular slits arranged at regular intervals in the longitudinal direction from the upper side to the lower side. Then, both ends of the
一対の下ローラ支持体4にはそれぞれ、装置本体1の幅方向外側に支持板13aが突設され、その支持板13aの端部に上ローラ支持体5が上下動自在に支持されている。
即ち、支持板13aの端面に、図1および図3に示すごとく、この例では上下一対のボルト13cが固定され、そのボルト13cの軸部が上ローラ支持体5のガイド孔20を貫通する。このガイド孔20は上下方向に長軸の長円形を有し、それに上下一対のボルト13cが貫通する。そのボルト13cの軸部がガイド板13bを貫通し、ボルト13cの頭部の内側に、ガイド板13bが保持され、そのガイド板13bと支持板13aの端面とで上ローラ支持体5を挟持する。そして、その支持板13aとガイド板13bとボルト13cとでガイド13を形成し、それによって上ローラ支持体5を上下動自在に支持している。
Each of the pair of lower roller supports 4 is provided with a
That is, as shown in FIGS. 1 and 3, a pair of upper and
その上ローラ支持体5は、図1に示すごとく、その上端面から細長い多数のスリットがその長手方向に定間隔に離間して配置されている。その配置のピッチは、下ローラ支持体4のそれに整合する。各スリットは、その下部に首部を有し、その首部の下方に円形の軸受支持部が形成されている。そして、その軸受支持部に下ローラ3の軸3bが遊嵌されている。スリットの首部の上側には、方形口が形成され、それに上ローラ2の軸2bが上軸受16を介して回転自在に軸支されている。上ローラ支持体5には、その外面側に図1,図5に示すごとく、複数の矩形のカム枠6の一端が固定されている。そして、そのカム枠6にカム軸8が貫通され、カム軸8にカム7が固定され、その外面がカム枠6内面に摺接する。
As shown in FIG. 1, the
カム7は、その外周が図5に示すごとく、多角形に形成され、回転角θ(この例では15度)ごとにその半径が異なる。この例では、一例として、基点である0度において、軸心からの半径が22.0mmであり、回転角θが15度変るごとにカム軸8の軸心からの半径が0.1mm小さくなり、285度の位置でその半径は20.1mmになり、基点から1.9mm減少する。次いで、300度において、半径が大きくなり、一例として300度では、20.8mmとなり、315度では21.0mmとなり、330度では21.5mm、345度では22.0mmとなり、その半径のまま起点0に戻る。
The outer periphery of the
そこで、カム軸8を15度回転するごとに上ローラ支持体5を0.1mmづつ下降することができる。その0度である基点の検出のため、カム軸8の端部には図3に示すごとく、その基点位置に起点凸部18が突設され、それに対向し、起点検出器17が配置されている。この起点検出器17は、装置本体1にブラケット23を介して設けられ、その入力信号が図示しない制御装置に入力される。
Therefore, each time the
次に、カム軸8には、図1に示すごとく、その外周にウォームギア12が固定され、そのウォームギア12にウォーム11が歯合され、そのウォーム11がカム駆動モータ10の軸に固定されている。そして、このカム駆動モータ10、ウォーム11、ウォームギア12、カム枠6、カム7、上ローラ支持体5とにより、昇降手段6aを構成する。
装置本体1の内部には、その搬送方向の上流側からエッチング室と洗浄室と乾燥室とが存在し、エッチング室および洗浄室には図3に示すごとく、多数のノズル19が搬送方向に定間隔に配置されている。そのノズル19は、搬送される基板に上方および下方から液体を供給する。
Next, as shown in FIG. 1, a
Inside the apparatus main body 1, there are an etching chamber, a cleaning chamber, and a drying chamber from the upstream side in the transport direction. As shown in FIG. 3, a large number of
(作用)
基板搬送装置の各要素である上ローラ2と下ローラ3は、図3に示すごとく、上下方向に対向し多数並列されている。下ローラ3は、その円板3aの位置が常に一定である。上ローラ2はその円板2aが昇降手段6a、上ローラ支持体5を介して上下動自在に配置されている。
図示しない制御装置に、上ローラ2と下ローラ3のクリアランスが入力され、それに応じて昇降手段6aが起動する。即ち、上ローラ2と下ローラ3との間隔が基板の厚みに略整合するように、カム駆動モータ10が駆動される。その回転は、ウォーム11、ウォームギア12、カム軸8、カム7、カム枠6を介して、上ローラ支持体5を昇降させる。
(Function)
As shown in FIG. 3, the
The clearance between the
例えば、搬送される基板の厚みが従前のものより、0.1mm薄い場合には、カム7が15度回転し、その位置で停止する。それにより、上ローラ支持体5が0.1mm下降する。それにより、上ローラ2と下ローラ3との隙間が0.1mm縮小する。なお、上ローラ2はその両端が一対の上ローラ支持体5にそれぞれ上軸受16を介して軸支され、各上ローラ支持体5が昇降手段6aを介して昇降する。
For example, when the thickness of the substrate to be conveyed is 0.1 mm thinner than the conventional substrate, the
なお、基点位置では、上ローラ2と下ローラ3との間隔が最も広い。基板がその厚み以下の場合に、本装置の昇降手段6aが起動される。上ローラ2と下ローラ3との間隔が最も広い以上に、基板の厚みが厚い場合には、その厚みに押されて、上ローラ支持体5の両端がスリット内を上昇する。
At the base point position, the distance between the
1 装置本体
2 上ローラ
2a 円板
2b 軸
3 下ローラ
3a 円板
3b 軸
4 下ローラ支持体
5 上ローラ支持体
6 カム枠
6a 昇降手段
1
2a disc
3a disc
3b shaft 4
6a Lifting means
7 カム
8 カム軸
9 ローラ駆動軸
10 カム駆動モータ
11 ウォーム
12 ウォームギア
13 ガイド
13a 支持板
13b ガイド板
13c ボルト
7
10 Cam drive motor
11 Warm
12 Worm gear
13 Guide
13a Support plate
13b Guide plate
13c bolt
14 伝動歯車
15 下軸受
16 上軸受
17 起点検出器
18 起点凸部
19 ノズル
20 ガイド孔
21 下ローラ貫通部
22 上ローラ貫通部
23 ブラケット
14 Transmission gear
15 Lower bearing
16 Upper bearing
17 Origin detector
18 Starting convex
19 nozzles
20 Guide hole
21 Lower roller penetration
22 Upper roller penetration
23 Bracket
Claims (3)
その装置本体(1)の内部で、搬送方向に離間して並列され、上下に対向する上ローラ(2)と下ローラ(3)の多数の対と、
装置本体(1)に固定されて、各下ローラ(3)の両端部を支持する一対の下ローラ支持体(4)と、
装置本体(1)に対して上下動自在に取付られ、各上ローラ(2)の両端を支持する一対の上ローラ支持体(5)と、を具備し、
被搬送用の基板が前記下ローラ(3)と上ローラ(2)との間を搬送され、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、一対の各上ローラ支持体(5)が昇降手段(6a)を介し、所定高さ移動できるように構成して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させ、
前記昇降手段(6a)は、
搬送方向に離間して一対の各上ローラ支持体(5)に、それぞれ取り付けた複数のカム枠(6)と、
各カム枠(6)を貫通する一対のカム軸(8)と、
各カム軸(8)に取付られて、その各カム枠(6)に摺接し、カム枠(6)を上下動させる複数のカム(7)と、を具備し、
下ローラ(3)と上ローラ(2)との隙間がその基板の厚みに略整合するように、前記一対のカム軸(8)をそれぞれ所定角度回転させて停止し、その状態を保持することにより、複数の各カム(7)、カム枠(6)、一対の上ローラ支持体(5)を介して、全ての上ローラ(2)の両端を所定寸法昇降させるように構成した基板搬送装置。 The device body (1),
Inside the apparatus main body (1), a large number of pairs of an upper roller (2) and a lower roller (3) that are spaced apart in parallel in the conveying direction and face each other vertically,
A pair of lower roller supports (4) fixed to the apparatus body (1) and supporting both ends of each lower roller (3);
A pair of upper roller supports (5) attached to the apparatus main body (1) so as to be movable up and down and supporting both ends of each upper roller (2),
A substrate for transport is transported between the lower roller (3) and the upper roller (2),
The pair of upper roller supports (5) can be moved by a predetermined height via the lifting / lowering means (6a) so that the gap between the lower roller (3) and the upper roller (2) substantially matches the thickness of the substrate. Configured so that both ends of all upper rollers (2) are raised and lowered by a predetermined dimension ,
The lifting means (6a)
A plurality of cam frames (6) respectively attached to the pair of upper roller supports (5) spaced apart in the conveying direction;
A pair of camshafts (8) penetrating each cam frame (6);
A plurality of cams (7) attached to each camshaft (8), in sliding contact with each cam frame (6), and moving the cam frame (6) up and down;
Each of the pair of cam shafts (8) is rotated by a predetermined angle and stopped so that the gap between the lower roller (3) and the upper roller (2) substantially matches the thickness of the substrate, and the state is maintained. The substrate transfer apparatus configured to move up and down the both ends of all the upper rollers (2) through a plurality of cams (7), cam frames (6), and a pair of upper roller supports (5). .
前記一対のカム軸(8)を同期して所定角度回転するように構成した基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 1 ,
A substrate transport apparatus configured to rotate the pair of cam shafts (8) in a predetermined angle in synchronization.
搬送方向に直交する方向で、各下ローラ支持体(4)に並列して各上ローラ支持体(5)が配置され、その下ローラ支持体(4)にガイド(13)が上ローラ支持体(5)側へ突設され、そのガイド(13)に上ローラ支持体(5)が上下動自在に案内された基板搬送装置。 In the board | substrate conveyance apparatus in any one of Claim 1 or Claim 2 ,
Each upper roller support (5) is arranged in parallel with each lower roller support (4) in a direction perpendicular to the conveying direction, and a guide (13) is placed on the lower roller support (4). (5) A substrate transfer device that protrudes toward the side, and the upper roller support (5) is guided by the guide (13) so as to be movable up and down.
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