JP2009206315A - Substrate mounting device to table - Google Patents

Substrate mounting device to table Download PDF

Info

Publication number
JP2009206315A
JP2009206315A JP2008047393A JP2008047393A JP2009206315A JP 2009206315 A JP2009206315 A JP 2009206315A JP 2008047393 A JP2008047393 A JP 2008047393A JP 2008047393 A JP2008047393 A JP 2008047393A JP 2009206315 A JP2009206315 A JP 2009206315A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
rotating body
peripheral edge
mounting
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008047393A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masami Aoki
正美 青木
Masanori Koda
正紀 甲田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chugai Ro Co Ltd
Original Assignee
Chugai Ro Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chugai Ro Co Ltd filed Critical Chugai Ro Co Ltd
Priority to JP2008047393A priority Critical patent/JP2009206315A/en
Publication of JP2009206315A publication Critical patent/JP2009206315A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate mounting device to a table, performing alignment in such a manner as to prevent a substrate from being scratched. <P>SOLUTION: A substrate mounting device is provided with: an elevating/lowering pin 4 for mounting a substrate on the surface 3a of a table by lowering it while supporting its peripheral section; and a rotator 5 that is provided in the position in the middle of the lowering motion before the substrate reaches and contacts the surface of the table, contacts or separates from the periphery of the substrate along the direction of the lowering motion in order to position the substrate to the table on the elevating/lowering pin, and delivers the periphery of the substrate in contact therewith toward the center of the table in a horizontal direction. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板に傷が付かないようにして位置合わせを行うことが可能なテーブルへの基板搭載装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for mounting a substrate on a table, which can be aligned so that the substrate is not damaged.

従来、プラズマディスプレイパネルや液晶パネルなどの製造分野および半導体製造分野等で、特許文献1に開示されているような塗装装置が知られており、そのテーブル上に、処理対象である基板を位置決めして搭載するための装置として、特許文献2が知られている。特許文献2は基本的には、基板を保持するための所定の領域を上面に有するステージと、前記ステージの上面と平行な回転軸に対して回転可能であり、前記所定の領域に近接して設けられたローラを有する少なくとも1つのローラガイドと、を有する基板位置合わせ装置を開示している。   Conventionally, a coating apparatus as disclosed in Patent Document 1 is known in the manufacturing field of plasma display panels, liquid crystal panels, and the like and in the field of semiconductor manufacturing, and a substrate to be processed is positioned on the table. Patent Document 2 is known as an apparatus for mounting in a similar manner. Patent Document 2 basically has a stage having a predetermined area for holding the substrate on its upper surface, and is rotatable with respect to a rotation axis parallel to the upper surface of the stage, and close to the predetermined area. Disclosed is a substrate alignment apparatus having at least one roller guide having a provided roller.

具体的には、ロボットアームが基板を他の場所から基板位置合わせ装置の領域の上方へ搬送し、上昇した状態に保たれている昇降装置のピンの上に基板を置く。その後、ピンが下降して、基板がステージの上面に保持される。このとき、基板の位置が領域からずれていると、基板の一部がローラの上に乗り上げてしまう。しかし、ローラが回転し得るので、基板の自重により、ローラが基板を所定の領域の方向に押し出すように回転する。押し出された基板はローラから離れると、ステージの上面に全体が接するため、それ以降大きく移動することなくステージ上で停止する。これにより、基板はステージの表面に接触しながら移動して、領域内に収まる。その結果、基板がステージ上において領域内に位置合わせされることとなる。
特開2000−197844号公報 特開2003−142561号公報(図3参照)
Specifically, the robot arm transports the substrate from another location above the area of the substrate alignment device and places the substrate on the pins of the lifting device that are kept in the raised state. Thereafter, the pins are lowered and the substrate is held on the upper surface of the stage. At this time, if the position of the substrate deviates from the region, a part of the substrate rides on the roller. However, since the roller can rotate, the roller rotates so as to push the substrate in the direction of a predetermined region by the weight of the substrate. When the extruded substrate is separated from the roller, the entire substrate comes into contact with the upper surface of the stage, and thereafter stops on the stage without moving greatly. As a result, the substrate moves while being in contact with the surface of the stage and fits in the region. As a result, the substrate is aligned within the region on the stage.
JP 2000-197844 A JP 2003-142561 A (see FIG. 3)

ところで、特許文献2にあっては、基板をステージ上で位置合わせするようにしていた。基板が移動する際、基板の少なくとも一端はステージ表面と接触しているので、摩擦が生じ、このために基板に傷が付きやすかった。また特に、プラズマディスプレイパネルや液晶パネルに用いるような薄く大型の角型ガラス製基板(例えば、厚さ0.7mm、対辺1〜2m)の場合は、支持状態によっては自重で比較的大きな撓みを生じるので、撓んだ状態の基板をそのまま下降させると、最も大きく撓んだ箇所が、位置合わせのために移動する前に、既にステージと面接触していて、このような状態で基板を移動させると、さらに広範囲に傷が付いてしまうという課題があった。   By the way, in Patent Document 2, the substrate is aligned on the stage. When the substrate was moved, at least one end of the substrate was in contact with the stage surface, so that friction was generated, and the substrate was easily damaged. In particular, in the case of a thin and large square glass substrate (for example, thickness 0.7 mm, opposite side 1 to 2 m) used for a plasma display panel or a liquid crystal panel, a relatively large deflection is caused by its own weight depending on the support state. Therefore, when the substrate in the bent state is lowered as it is, the largest bent portion is already in surface contact with the stage before moving for alignment, and the substrate is moved in such a state. When it was made, the subject that a damage | wound would be further extensively occurred.

本発明は上記従来の課題に鑑みて創案されたものであって、基板に傷が付かないようにして位置合わせを行うことが可能なテーブルへの基板搭載装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide a substrate mounting apparatus on a table that can be aligned without causing damage to the substrate.

本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置は、基板を、その周辺部を支持しつつ下降させて、テーブル表面上に搭載する昇降ピンと、上記基板が上記テーブル表面に到達して接触する前の下降動作途中位置に設けられ、上記昇降ピン上で当該基板を該テーブルに対し位置決めするために、下降動作方向に沿って該基板の周縁が接触・離脱可能で、接触した該基板の周縁を該テーブル中心に向かって水平方向へ送り出す案内部材とを備えたことを特徴とする。   The apparatus for mounting a substrate on a table according to the present invention lowers the substrate while supporting the peripheral portion thereof, and the lowering pins mounted on the table surface and the lowering before the substrate reaches and contacts the table surface. In order to position the substrate with respect to the table on the lifting pins provided at a position in the middle of operation, the peripheral edge of the substrate can be contacted and detached along the descending operation direction, and the peripheral edge of the substrate in contact with the table And a guide member that feeds in the horizontal direction toward the center.

前記基板は、その周縁から、すべての前記案内部材が離脱した状態で前記テーブル表面に接触することを特徴とする。   The substrate is in contact with the table surface in a state where all the guide members are detached from the peripheral edge thereof.

前記案内部材は、前記基板の周縁が接触することで前記テーブル中心に向かって回転自在な回転体であることを特徴とする。   The guide member is a rotating body that is rotatable toward the center of the table when the peripheral edge of the substrate comes into contact therewith.

前記案内部材は、前記テーブル中心に向かって下向き傾斜で形成されたスロープ面を有することを特徴とする。   The guide member has a slope surface formed with a downward slope toward the center of the table.

前記昇降ピンは、前記基板に当接される当接部の摩擦を小さくしたことを特徴とする。   The elevating pin is characterized in that the friction of the abutting portion that abuts on the substrate is reduced.

本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置にあっては、基板に傷が付かないようにして位置合わせを行うことができる。   In the apparatus for mounting a substrate on a table according to the present invention, alignment can be performed without scratching the substrate.

以下に、本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置の好適な一実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。本実施形態にかかるテーブルへの基板搭載装置1は基本的には、図1から図3に示すように、基板2を、その周辺部を支持しつつ下降させて、テーブル表面3a上に搭載する昇降ピン4と、基板2がテーブル表面3aに到達して接触する前の下降動作途中位置に設けられ、昇降ピン4上で当該基板2をテーブル3に対し位置決めするために、下降動作方向に沿って基板2の周縁2aが接触・離脱可能で、接触した基板2の周縁2aをテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出す案内部材としての回転体5とを備えて構成される。基板2は、その周縁2aから、すべての回転体5が離脱した状態でテーブル表面3aに接触される。回転体5は、基板2の周縁2aが接触することでテーブル3の中心に向かって回転自在となっている。   Hereinafter, a preferred embodiment of an apparatus for mounting a substrate on a table according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, the substrate mounting apparatus 1 on the table according to the present embodiment basically mounts the substrate 2 on the table surface 3a while lowering the substrate 2 while supporting the periphery. In order to position the substrate 2 with respect to the table 3 on the lifting pins 4, the lifting pins 4 and the substrate 2 are provided in the middle of the lowering operation before the substrate 2 reaches and contacts the table surface 3 a. The peripheral edge 2 a of the substrate 2 can be brought into contact with and detached from the substrate 2, and the rotating body 5 serving as a guide member that feeds the peripheral edge 2 a of the contacted substrate 2 toward the center of the table 3 in the horizontal direction. The substrate 2 is brought into contact with the table surface 3a from the peripheral edge 2a in a state where all the rotating bodies 5 are detached. The rotating body 5 is rotatable toward the center of the table 3 when the peripheral edge 2a of the substrate 2 contacts.

本実施形態は、ガラス製基板2に塗装を行う塗装装置に適用した場合を示している。塗装装置には、塗装対象物である基板2を設置するために、テーブル3が備えられる。基板2が設置されるテーブル表面3aは、平坦面で形成される。テーブル3には必要に応じて、吸引作用などにより基板2をテーブル表面3aに吸着して位置保持する吸着手段が備えられる。   This embodiment has shown the case where it applies to the coating device which coats the glass-made board | substrates 2. FIG. The coating apparatus is provided with a table 3 in order to install a substrate 2 that is an object to be coated. The table surface 3a on which the substrate 2 is installed is formed as a flat surface. If necessary, the table 3 is provided with suction means for holding the substrate 2 on the table surface 3a by suction or the like and holding the position.

テーブル3には、基板2を支持しながら、当該基板2を下降させてテーブル表面3a上に搭載するための昇降ピン4が設けられる。昇降ピン4は、上端部が基板2に下から当接して当該基板2を下方から支える複数のピン部材4aと、これらピン部材4aを上下方向に昇降移動させる駆動手段(図示せず)とを備えて構成される。テーブル3には、テーブル表面3aから当該テーブル3内部へ向かって、縦穴6が形成される。縦穴6は、テーブル3の周辺部に、当該テーブル3の周方向に沿って適宜間隔を隔てて、複数形成される。複数のピン部材4aは、これら縦穴6それぞれに、テーブル表面3aよりテーブル3内部に没入した位置からテーブル表面3aよりも上方へ突出した位置まで、上下方向に昇降自在に設けられる。これにより、ピン部材4aはテーブル3の周辺部に、互いに適宜間隔を隔てて配設され、基板2は、その周辺部がこれら複数のピン部材4aによって昇降可能に支持される。   The table 3 is provided with elevating pins 4 for lowering the substrate 2 and mounting it on the table surface 3 a while supporting the substrate 2. The elevating pins 4 have a plurality of pin members 4a whose upper end abuts against the substrate 2 from below and supports the substrate 2 from below, and driving means (not shown) for moving the pin members 4a up and down in the vertical direction. It is prepared for. A vertical hole 6 is formed in the table 3 from the table surface 3 a toward the inside of the table 3. A plurality of the vertical holes 6 are formed in the peripheral part of the table 3 at appropriate intervals along the circumferential direction of the table 3. The plurality of pin members 4a are provided in each of the vertical holes 6 so as to be movable up and down in a vertical direction from a position immersed in the table 3 from the table surface 3a to a position protruding upward from the table surface 3a. Thereby, the pin member 4a is arrange | positioned in the peripheral part of the table 3 at appropriate intervals, and the peripheral part of the board | substrate 2 is supported by these pin members 4a so that raising / lowering is possible.

基板2に当接されるピン部材4aの上端部は、基板2に対する摩擦が小さくなるように形成される。例えば、ピン部材4aの上端部は、これに合成樹脂製のキャップ7が装着されたり、低摩擦材が塗布またはコーティングされて、低摩擦係数に形成される。これらピン部材4aは、駆動手段によって、テーブル表面3aに対し、互いに同じ高さを保持しながら同期して昇降移動され、これにより、基板2は、ピン部材4aで支持されつつ、テーブル表面3aよりも上方位置から下降され、ピン部材4aがテーブル表面3a下方へ没入することで、テーブル表面3a上に搭載される。   The upper end portion of the pin member 4a that is in contact with the substrate 2 is formed so that the friction with the substrate 2 is reduced. For example, the upper end portion of the pin member 4a is formed with a low coefficient of friction by attaching a cap 7 made of synthetic resin or applying or coating a low friction material thereto. These pin members 4a are moved up and down in synchronization with the table surface 3a by the driving means while maintaining the same height as each other, so that the substrate 2 is supported by the pin member 4a and from the table surface 3a. Is also lowered from the upper position, and the pin member 4a is immersed below the table surface 3a, so that it is mounted on the table surface 3a.

テーブル3周囲のエリア8には、当該テーブル3の周方向に互いに適宜間隔を隔てて、複数の高さ調整可能な柱9が立設される。これら柱9は好ましくは、二本一組で、テーブル3を挟んで互いに向かい合うように配置される。これら柱9にはそれぞれ、基板2をテーブル3に対し位置決めするために、例えばローラやボールからなる回転体5が支持される。これら回転体5は、テーブル表面3aから同一高さ位置に設けられる。図示例にあっては、回転体5は、柱9上端に回転自在に設けられているが、柱9の高さ方向中間位置に回転自在に設けるようにしてもよい。   In the area 8 around the table 3, a plurality of height-adjustable columns 9 are erected at appropriate intervals in the circumferential direction of the table 3. These columns 9 are preferably arranged in pairs so as to face each other across the table 3. In order to position the board | substrate 2 with respect to the table 3, the rotary body 5 which consists of a roller and a ball | bowl, for example is supported by these pillars 9, respectively. These rotating bodies 5 are provided at the same height position from the table surface 3a. In the illustrated example, the rotating body 5 is rotatably provided at the upper end of the column 9, but may be provided rotatably at an intermediate position in the height direction of the column 9.

テーブル3を取り囲んで配置される回転体5は、基板2の平面外形寸法との関係で、基板2がテーブル3に対し、位置ズレなく下降する際には、当該基板2と接触しないように柱9に設けられる。従って、回転体5は、例えば基板2がテーブル3に対し左側に位置ズレしている場合(図3参照)、基板2の左縁に面する回転体5が基板2と接触し、右縁に面する回転体5は基板2とは接触しない。なお、図示例では、基板2がテーブル3の平面外形寸法よりも大きいので、回転体5は、テーブル3から離れるようにして柱9に設けられているが、基板2がテーブル3の平面外形寸法よりも小さい場合には、テーブル表面3a上方に迫り出すようにして柱9に設けることとなる。基板2に対する回転体5のこの種の設定は、回転体5の外径寸法や、柱9の設置位置、柱9への回転体5の支持位置等によって調整される。   The rotating body 5 arranged so as to surround the table 3 has a column so that the substrate 2 does not come into contact with the substrate 2 when the substrate 2 descends with respect to the table 3 without any positional deviation in relation to the planar outer dimensions of the substrate 2. 9 is provided. Therefore, for example, when the substrate 2 is displaced to the left side with respect to the table 3 (see FIG. 3), the rotating body 5 that faces the left edge of the substrate 2 contacts the substrate 2 and moves to the right edge. The facing rotating body 5 does not contact the substrate 2. In the illustrated example, since the substrate 2 is larger than the planar outer dimension of the table 3, the rotating body 5 is provided on the pillar 9 so as to be separated from the table 3. If it is smaller than this, the column 9 is provided so as to protrude upward from the table surface 3a. This kind of setting of the rotating body 5 with respect to the substrate 2 is adjusted by the outer diameter size of the rotating body 5, the installation position of the column 9, the support position of the rotating body 5 on the column 9, and the like.

また、回転体5は、柱9を高さ調整することで、ピン部材4aによって下降する基板2がテーブル表面3aに到達して接触する前の、下降動作途中の高さ位置に配置される。詳細には、回転体5の高さ位置(図4中、Bで示す)は、基板2がテーブル表面3aに接触(図4中、高さA=0の状態)する以前の高さ位置であれば、どのような高さ位置でも良いが、基板2がテーブル表面3aに接触する、できる限り直前の高さ位置に設定することが好ましい。回転体5による位置決め後の下降距離が長いと、下降距離が短い場合に比べて、その後の下降中に位置ズレが生ずる可能性が高いためである。基板2がテーブル表面3aに接触する直前の高さ位置であれば、位置決め後の位置ズレを適切に防止することができる。これにより、回転体5は、基板2全体がテーブル表面3aから浮いている状態で、基板2を位置決めすることとなるので、基板2はテーブル表面3aに接触しながら移動することがなく、基板2には傷が付かない。   Moreover, the rotary body 5 is arrange | positioned by adjusting the height of the pillar 9, and the board | substrate 2 which descend | falls with the pin member 4a is arrange | positioned in the height position in the middle of the descent | fall operation | movement before reaching the table surface 3a and contacting. Specifically, the height position (indicated by B in FIG. 4) of the rotating body 5 is the height position before the substrate 2 contacts the table surface 3a (in the state of height A = 0 in FIG. 4). Any height position may be used as long as it is present, but it is preferable to set the height position as just as possible so that the substrate 2 contacts the table surface 3a. This is because if the descending distance after positioning by the rotating body 5 is long, there is a high possibility that a positional deviation will occur during the subsequent descending as compared with the case where the descending distance is short. If it is the height position immediately before the board | substrate 2 contacts the table surface 3a, the position shift after positioning can be prevented appropriately. As a result, the rotating body 5 positions the substrate 2 in a state where the entire substrate 2 is floating from the table surface 3a. Therefore, the substrate 2 does not move while being in contact with the table surface 3a. Is not scratched.

さらに、柱9による回転体5の支持高さ位置は、基板2の下降動作との関係で、基板2の周縁2aがすべての回転体5から離脱した状態でテーブル表面3aに接触するように設定される。回転体5は、基板2の下降動作方向に沿って、基板2の周縁2aが接触・離脱可能とされる。具体的には、回転体5は、基板2の底面がテーブル表面3aに到達して接触する前に、基板2の周縁2aから離脱する(図3(c)参照)一方で、それ以前の下降段階で、基板2の周縁2aが接触(図3(b)参照)可能な高さ位置に柱9によって支持される。回転体5のこの種の設定も、回転体5の外径寸法や柱9への回転体5の支持位置等によって調整される。   Furthermore, the support height position of the rotating body 5 by the column 9 is set so that the peripheral edge 2a of the substrate 2 comes into contact with the table surface 3a in a state where the peripheral edge 2a of the substrate 2 is detached from all the rotating bodies 5 in relation to the lowering operation of the substrate 2. Is done. The rotating body 5 is configured such that the peripheral edge 2a of the substrate 2 can be contacted and separated along the descending operation direction of the substrate 2. Specifically, the rotating body 5 separates from the peripheral edge 2a of the substrate 2 before the bottom surface of the substrate 2 reaches and contacts the table surface 3a (see FIG. 3 (c)), while lowering before that. In the stage, the peripheral edge 2a of the substrate 2 is supported by the pillar 9 at a height position where contact (see FIG. 3B) is possible. This kind of setting of the rotating body 5 is also adjusted by the outer diameter size of the rotating body 5, the support position of the rotating body 5 on the column 9, and the like.

このように配設位置が設定された回転体5は、下降される基板2の周縁2aが接触することで、当該基板2の下降作用に伴う引きずりによりテーブル3の中心に向かって回転され、この回転によって、接触した基板2の周縁2aをテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出し、これによりテーブル表面3aと非接触状態の基板2がこれを支持しているピン部材4a上で位置決めされるようになっている。回転体5が、回転軸5aを有するローラの場合には、基板2の周縁2aをテーブル3の中心へ送り出すために、ローラの回転軸5aが基板2の周縁2aとおおよそ平行になるように設定される。回転体5は柱9に対し、上下方向に弾性緩衝作用を発揮するバネやゴムなどのクッション材を介して支持するようにしても良い。これにより、基板2の周縁2aが接触する際の衝撃を弱めることができる。他方、回転体5は水平方向については、柱9に対し剛に設けることが好ましい。回転体5が水平方向に移動し得ると、位置決め精度が劣化するおそれがあるためである。   The rotating body 5 in which the disposition position is set in this way is rotated toward the center of the table 3 by the drag accompanying the descending action of the substrate 2 when the peripheral edge 2a of the substrate 2 to be lowered comes into contact. By rotating, the peripheral edge 2a of the contacted substrate 2 is sent out in the horizontal direction toward the center of the table 3, whereby the substrate 2 in a non-contact state with the table surface 3a is positioned on the pin member 4a supporting this. It is like that. In the case where the rotating body 5 is a roller having a rotating shaft 5 a, the rotating shaft 5 a of the roller is set to be approximately parallel to the peripheral edge 2 a of the substrate 2 in order to send the peripheral edge 2 a of the substrate 2 to the center of the table 3. Is done. The rotating body 5 may be supported on the column 9 via a cushion material such as a spring or rubber that exhibits an elastic buffering action in the vertical direction. Thereby, the impact at the time of the peripheral edge 2a of the board | substrate 2 contacting can be weakened. On the other hand, the rotating body 5 is preferably provided rigidly with respect to the column 9 in the horizontal direction. This is because if the rotating body 5 can move in the horizontal direction, the positioning accuracy may deteriorate.

次に、本実施形態にかかるテーブルへの基板搭載装置1の作用について説明する。基板2は、ロボットアームなどの搬送手段で搬送されて、図3(a)に示すように、テーブル表面3a上方へ突出されている複数のピン部材4a上に載置される。ピン部材4aは、基板2が載置されると、駆動手段により下降移動され、これにより基板2を支持しつつテーブル表面3aに向かって降下させる。基板2がテーブル3に対して位置ズレ(図3(a)中、xで示す。)していると、基板2の周縁2aは、柱9に設けた回転体5の上に載って接触する。   Next, the effect | action of the board | substrate mounting apparatus 1 to the table concerning this embodiment is demonstrated. The substrate 2 is transported by a transporting means such as a robot arm and placed on a plurality of pin members 4a protruding upward from the table surface 3a as shown in FIG. When the substrate 2 is placed, the pin member 4a is moved downward by the driving means, and thereby lowered toward the table surface 3a while supporting the substrate 2. When the substrate 2 is misaligned with respect to the table 3 (indicated by x in FIG. 3A), the peripheral edge 2a of the substrate 2 rests on and contacts the rotating body 5 provided on the column 9. .

回転体5は、基板2が接触すると、当該基板2の下降動作による引きずりでテーブル3側に向かって回転する。回転体5がテーブル3側に向かって回転すると、回転体5上に載っている基板2の周縁2aは、ピン部材4aの下降移動により下降しながらテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出され、これにより図3(b)に示すように、ピン部材4a上でテーブル3に対する基板2の位置決めが行われる。基板2の周縁2aが回転体5上から離脱した段階では、基板2は継続してピン部材4a上に支持されて、テーブル表面3a上方に浮いた状態となっている。回転体5からの離脱後、さらにピン部材4aが下降移動され、ピン部材4aが縦穴6内部に没入すると、基板2は、図3(c)に示すように、テーブル表面3a上に載置される。基板2がテーブル3に対して位置ズレしていない場合には、基板2は回転体5と接触することなく、テーブル表面3a上に搭載される。   When the substrate 2 comes into contact with the rotating body 5, the rotating body 5 rotates toward the table 3 by dragging by the lowering operation of the substrate 2. When the rotator 5 rotates toward the table 3, the peripheral edge 2a of the substrate 2 placed on the rotator 5 is sent out horizontally toward the center of the table 3 while being lowered by the downward movement of the pin member 4a. Thus, as shown in FIG. 3B, the substrate 2 is positioned with respect to the table 3 on the pin member 4a. At the stage where the peripheral edge 2a of the substrate 2 is detached from the rotating body 5, the substrate 2 is continuously supported on the pin member 4a and floated above the table surface 3a. When the pin member 4a is further moved downward after being detached from the rotating body 5 and the pin member 4a is immersed in the vertical hole 6, the substrate 2 is placed on the table surface 3a as shown in FIG. The When the substrate 2 is not displaced with respect to the table 3, the substrate 2 is mounted on the table surface 3 a without contacting the rotating body 5.

以上説明した本実施形態にかかるテーブルへの基板搭載装置1にあっては、基板2がテーブル表面3aに到達して接触する前の下降動作途中位置に設けられ、昇降ピン4上で当該基板2をテーブル3に対し位置決めするために、下降動作方向に沿って基板2の周縁2aが接触・離脱可能で、接触した基板2の周縁2aをテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出す回転体5を備えたので、基板2の位置合わせをピン部材4a上で行うことができ、背景技術のように、基板を、テーブル表面上に接触させながら移動させる必要がなくて、基板2に傷が付かないようにして位置合わせを行うことができる。特に、撓み変形する基板2の場合であっても、基板2がテーブル表面3a上に到達して接触する前の下降動作途中位置に設けた回転体5で位置決めするようにして、すなわちピン部材4a上で位置決めするようにしているので、基板2に傷が付くことを適切に防止することができる。   In the substrate mounting apparatus 1 on the table according to the present embodiment described above, the substrate 2 is provided in the middle of the lowering operation before the substrate 2 reaches and contacts the table surface 3a. , The peripheral edge 2a of the substrate 2 can be contacted and detached along the descending operation direction, and the rotating body 5 that sends the peripheral edge 2a of the contacted substrate 2 toward the center of the table 3 in the horizontal direction. Therefore, it is possible to align the substrate 2 on the pin member 4a, and there is no need to move the substrate while being in contact with the table surface as in the background art. Alignment can be performed without leaving. In particular, even in the case of the substrate 2 that bends and deforms, the substrate 2 is positioned by the rotating body 5 provided at the midway position of the lowering operation before reaching and contacting the table surface 3a, that is, the pin member 4a. Since positioning is performed above, it is possible to appropriately prevent the substrate 2 from being damaged.

また、案内部材を回転体5で構成し、当該回転体5を柱9に定位置で支持して設けるようにしたので、基板2の下降動作を利用して、きわめて簡単な構造で、かつ作業時間の遅延を生じさせることなく、位置決め作用を得ることができる。また、回転体5を用いるようにしたので、基板2の周縁2aとの接触時に、回転体5が回転して逃げるので、傷が付きにくいとともに、回転体5の回転作用で滑らかに基板2をテーブル3の中心へ送り出すことができる。   Further, since the guide member is composed of the rotating body 5 and the rotating body 5 is supported and provided on the pillar 9 at a fixed position, the lowering operation of the substrate 2 is used to make a very simple structure and work. The positioning effect can be obtained without causing a time delay. Further, since the rotating body 5 is used, the rotating body 5 rotates and escapes at the time of contact with the peripheral edge 2 a of the substrate 2. It can be sent to the center of the table 3.

基板2と当接するピン部材4aの上端部の摩擦を小さくしたので、基板2やテーブル3に低摩擦材などを塗布するなどして低摩擦化するよりも、構成が簡単であるとともに、テーブル3等に低摩擦材を適用することによって基板2への各種処理に障害が生じることも防止することができる。また、基板2をピン部材4a上に支持するにあたり、ピン部材4aから基板2下面に向かってエアを噴出させることで、ピン部材4a上で基板2が傷つくことをさらに防止できる。さらに、基板2をテーブル表面3a上に搭載するにあたり、テーブル表面3aから基板2下面に向かってエアを噴出させることで、テーブル表面3a上で基板2に傷が付くことをさらに防止できる。   Since the friction at the upper end portion of the pin member 4a that comes into contact with the substrate 2 is reduced, the structure is simpler than the case where the friction is reduced by applying a low friction material or the like to the substrate 2 or the table 3, and the table 3 By applying a low-friction material, etc., it is possible to prevent troubles from occurring in various processes on the substrate 2. Moreover, when the board | substrate 2 is supported on the pin member 4a, it can further prevent that the board | substrate 2 is damaged on the pin member 4a by ejecting air toward the lower surface of the board | substrate 2 from the pin member 4a. Further, when the substrate 2 is mounted on the table surface 3a, the substrate 2 can be further prevented from being damaged on the table surface 3a by blowing air from the table surface 3a toward the lower surface of the substrate 2.

図5には変形例が示されている。この変形例では、案内部材として、上記回転体5に代えて、断面三角形状のブロック11が採用されている。このブロック11は、柱9の上端に固定して設けられ、3辺のうちの一辺が、テーブル3の中心に向かって下向き傾斜のスロープ面11aを構成するようになっている。スロープ面11aの下縁部11bは、基板2の周縁2aの離脱を円滑化するために、丸味を帯びた形状に形成される。また、ブロック11は、上述したクッション材12を介して柱9に取り付けるようにしても良い。このような変形例にあっても、上記実施形態と同様の作用効果を奏することはもちろんである。特にブロック11は、可動部分がないので、故障などを生じることがない。   FIG. 5 shows a modification. In this modification, a block 11 having a triangular cross section is employed as a guide member in place of the rotating body 5. The block 11 is fixed to the upper end of the column 9, and one of the three sides forms a slope surface 11 a that is inclined downward toward the center of the table 3. The lower edge portion 11b of the slope surface 11a is formed in a rounded shape in order to facilitate the separation of the peripheral edge 2a of the substrate 2. Further, the block 11 may be attached to the column 9 via the cushion material 12 described above. Even in such a modification, it is needless to say that the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained. In particular, since the block 11 has no movable part, no failure or the like occurs.

上記実施形態にあっては、ガラス製基板に塗装を行う塗装装置に適用した場合について説明したが、基板2の材質はどのようなものであっても良く、またどのような装置に適用してもよいことはもちろんである。   In the above embodiment, the case where the present invention is applied to a coating apparatus that performs coating on a glass substrate has been described. However, the substrate 2 may be of any material, and may be applied to any apparatus. Of course it is good.

本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置の好適な一実施形態を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows suitable one Embodiment of the board | substrate mounting apparatus to the table concerning this invention. 図1に示したテーブルへの基板搭載装置の概略平面図である。It is a schematic plan view of the board | substrate mounting apparatus to the table shown in FIG. 図1に示したテーブルへの基板搭載装置の作用の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the effect | action of the board | substrate mounting apparatus to the table shown in FIG. 図1に示したテーブルへの基板搭載装置において、基板がテーブル表面に到達する直前の状況を説明するための概略側面図である。FIG. 2 is a schematic side view for explaining a state immediately before the substrate reaches the table surface in the substrate mounting apparatus on the table shown in FIG. 1. 本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置の変形例を示す概略側断面図である。It is a schematic sectional side view which shows the modification of the board | substrate mounting apparatus to the table concerning this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 テーブルへの基板搭載装置
2 基板
2a 基板の周縁
3 テーブル
3a テーブル表面
4 昇降ピン
5 回転体
11a スロープ面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board mounting apparatus to table 2 Board | substrate 2a Perimeter of board | substrate 3 Table 3a Table surface 4 Lifting pin 5 Rotating body 11a Slope surface

Claims (5)

基板を、その周辺部を支持しつつ下降させて、テーブル表面上に搭載する昇降ピンと、上記基板が上記テーブル表面に到達して接触する前の下降動作途中位置に設けられ、上記昇降ピン上で当該基板を該テーブルに対し位置決めするために、下降動作方向に沿って該基板の周縁が接触・離脱可能で、接触した該基板の周縁を該テーブル中心に向かって水平方向へ送り出す案内部材とを備えたことを特徴とするテーブルへの基板搭載装置。   The substrate is lowered while supporting the peripheral portion thereof, and is provided at a position where the substrate is mounted on the table surface, and at a position during the descending operation before the substrate reaches and contacts the table surface. In order to position the substrate with respect to the table, a guide member that can contact and detach the peripheral edge of the substrate along the descending operation direction and feeds the peripheral edge of the contacted substrate horizontally toward the center of the table; An apparatus for mounting a substrate on a table, comprising: 前記基板は、その周縁から、すべての前記案内部材が離脱した状態で前記テーブル表面に接触することを特徴とする請求項1に記載のテーブルへの基板搭載装置。   2. The apparatus for mounting a substrate on a table according to claim 1, wherein the substrate comes into contact with the surface of the table from the periphery thereof in a state where all the guide members are detached. 前記案内部材は、前記基板の周縁が接触することで前記テーブル中心に向かって回転自在な回転体であることを特徴とする請求項1または2に記載のテーブルへの基板搭載装置。   The apparatus for mounting a substrate on a table according to claim 1, wherein the guide member is a rotating body that is rotatable toward the center of the table by contacting a peripheral edge of the substrate. 前記案内部材は、前記テーブル中心に向かって下向き傾斜で形成されたスロープ面を有することを特徴とする請求項1または2に記載のテーブルへの基板搭載装置。   The apparatus for mounting a substrate on a table according to claim 1, wherein the guide member has a slope surface formed with a downward slope toward the center of the table. 前記昇降ピンは、前記基板に当接される当接部の摩擦を小さくしたことを特徴とする請求項1〜4いずれかの項に記載のテーブルへの基板搭載装置。   The substrate mounting apparatus on a table according to any one of claims 1 to 4, wherein the elevating pins reduce friction of an abutting portion that abuts on the substrate.
JP2008047393A 2008-02-28 2008-02-28 Substrate mounting device to table Pending JP2009206315A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008047393A JP2009206315A (en) 2008-02-28 2008-02-28 Substrate mounting device to table

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008047393A JP2009206315A (en) 2008-02-28 2008-02-28 Substrate mounting device to table

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009206315A true JP2009206315A (en) 2009-09-10

Family

ID=41148288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008047393A Pending JP2009206315A (en) 2008-02-28 2008-02-28 Substrate mounting device to table

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009206315A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011108698A (en) * 2009-11-13 2011-06-02 Toyota Motor Corp Wafer carrier
WO2012157638A1 (en) * 2011-05-19 2012-11-22 シャープ株式会社 Substrate placing base and substrate processing device
WO2014079671A1 (en) * 2012-11-20 2014-05-30 Aixtron Se Device for orienting a wafer on a wafer carrier
CN108962802A (en) * 2018-07-27 2018-12-07 广东阿达智能装备有限公司 The guiding device of flip machine and wafer tablet

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62157149U (en) * 1986-03-26 1987-10-06
JPH04167541A (en) * 1990-10-31 1992-06-15 Fujitsu Ltd Positioning method for substrate and device thereof
JPH0542657A (en) * 1991-08-08 1993-02-23 Toshiba Corp Substrate positioning method
JP2002313895A (en) * 2001-04-12 2002-10-25 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate holding device and substrate processor
JP2003142561A (en) * 2001-11-01 2003-05-16 Sharp Corp Device for positioning substrate and substrate treatment unit comprising it
JP2003273198A (en) * 2002-03-12 2003-09-26 Seiko Epson Corp Mechanism for supporting/securing member and inspection device
JP2004026365A (en) * 2002-06-24 2004-01-29 Dainippon Printing Co Ltd Working platform
JP2005322894A (en) * 2004-04-05 2005-11-17 Iguchi Kiko Seisakusho:Kk Positioning table for substrate, positioning equipment for the substrate, and positioning method of the substrate
JP2006073931A (en) * 2004-09-06 2006-03-16 Tokyo Electron Ltd Substrate processing equipment and substrate positioning device

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62157149U (en) * 1986-03-26 1987-10-06
JPH04167541A (en) * 1990-10-31 1992-06-15 Fujitsu Ltd Positioning method for substrate and device thereof
JPH0542657A (en) * 1991-08-08 1993-02-23 Toshiba Corp Substrate positioning method
JP2002313895A (en) * 2001-04-12 2002-10-25 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate holding device and substrate processor
JP2003142561A (en) * 2001-11-01 2003-05-16 Sharp Corp Device for positioning substrate and substrate treatment unit comprising it
JP2003273198A (en) * 2002-03-12 2003-09-26 Seiko Epson Corp Mechanism for supporting/securing member and inspection device
JP2004026365A (en) * 2002-06-24 2004-01-29 Dainippon Printing Co Ltd Working platform
JP2005322894A (en) * 2004-04-05 2005-11-17 Iguchi Kiko Seisakusho:Kk Positioning table for substrate, positioning equipment for the substrate, and positioning method of the substrate
JP2006073931A (en) * 2004-09-06 2006-03-16 Tokyo Electron Ltd Substrate processing equipment and substrate positioning device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011108698A (en) * 2009-11-13 2011-06-02 Toyota Motor Corp Wafer carrier
WO2012157638A1 (en) * 2011-05-19 2012-11-22 シャープ株式会社 Substrate placing base and substrate processing device
WO2014079671A1 (en) * 2012-11-20 2014-05-30 Aixtron Se Device for orienting a wafer on a wafer carrier
CN104798191A (en) * 2012-11-20 2015-07-22 艾克斯特朗欧洲公司 Device for orienting a wafer on a wafer carrier
CN108962802A (en) * 2018-07-27 2018-12-07 广东阿达智能装备有限公司 The guiding device of flip machine and wafer tablet

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7314344B2 (en) Substrate-transporting device
US20080159835A1 (en) Glass support pin
JP4313284B2 (en) Substrate processing equipment
WO2004096679A1 (en) Substrate-levitating device
JP2009206315A (en) Substrate mounting device to table
KR101397094B1 (en) Laminating apparatus and laminating method
KR101784090B1 (en) Transfer apparatus and transfer method
JP2007298680A (en) Rubbing device and rubbing method
JP5243585B2 (en) Substrate supply device
KR101587337B1 (en) Lifting apparatus and apparatus for transferring substrate comprising the same
KR20160042281A (en) Apparatus for rotatable restricting and apparatus for transferring substrate
JP2018069536A (en) Scribe device and scribe method
JP2012023104A (en) Substrate-setting device
US8777541B2 (en) Conveyor control apparatus of liquid crystal panel substrates and control method thereof
US20160274385A1 (en) Lift device and lift system
KR20180061024A (en) Method for dividing brittle material substrate and dividing device
KR20120079982A (en) Apparatus for transferring the substarate vertically
KR101021986B1 (en) A scribing apparatus and a scribing method for forming a scribe line
JP6459742B2 (en) Substrate transfer device
KR20130088383A (en) Substrate processing apparatus
KR102068032B1 (en) Scribe apparatus
CN213398658U (en) Alignment device for panel
KR20070113615A (en) Apparatus for manufacturing flat panel display
JP2010118478A (en) Substrate levitation device and substrate inspecting apparatus
JP5089228B2 (en) Coating device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110216

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20120605

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02