JP2009206315A - Substrate mounting device to table - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板に傷が付かないようにして位置合わせを行うことが可能なテーブルへの基板搭載装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for mounting a substrate on a table, which can be aligned so that the substrate is not damaged.
従来、プラズマディスプレイパネルや液晶パネルなどの製造分野および半導体製造分野等で、特許文献1に開示されているような塗装装置が知られており、そのテーブル上に、処理対象である基板を位置決めして搭載するための装置として、特許文献2が知られている。特許文献2は基本的には、基板を保持するための所定の領域を上面に有するステージと、前記ステージの上面と平行な回転軸に対して回転可能であり、前記所定の領域に近接して設けられたローラを有する少なくとも1つのローラガイドと、を有する基板位置合わせ装置を開示している。
Conventionally, a coating apparatus as disclosed in
具体的には、ロボットアームが基板を他の場所から基板位置合わせ装置の領域の上方へ搬送し、上昇した状態に保たれている昇降装置のピンの上に基板を置く。その後、ピンが下降して、基板がステージの上面に保持される。このとき、基板の位置が領域からずれていると、基板の一部がローラの上に乗り上げてしまう。しかし、ローラが回転し得るので、基板の自重により、ローラが基板を所定の領域の方向に押し出すように回転する。押し出された基板はローラから離れると、ステージの上面に全体が接するため、それ以降大きく移動することなくステージ上で停止する。これにより、基板はステージの表面に接触しながら移動して、領域内に収まる。その結果、基板がステージ上において領域内に位置合わせされることとなる。
ところで、特許文献2にあっては、基板をステージ上で位置合わせするようにしていた。基板が移動する際、基板の少なくとも一端はステージ表面と接触しているので、摩擦が生じ、このために基板に傷が付きやすかった。また特に、プラズマディスプレイパネルや液晶パネルに用いるような薄く大型の角型ガラス製基板(例えば、厚さ0.7mm、対辺1〜2m)の場合は、支持状態によっては自重で比較的大きな撓みを生じるので、撓んだ状態の基板をそのまま下降させると、最も大きく撓んだ箇所が、位置合わせのために移動する前に、既にステージと面接触していて、このような状態で基板を移動させると、さらに広範囲に傷が付いてしまうという課題があった。
By the way, in
本発明は上記従来の課題に鑑みて創案されたものであって、基板に傷が付かないようにして位置合わせを行うことが可能なテーブルへの基板搭載装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide a substrate mounting apparatus on a table that can be aligned without causing damage to the substrate.
本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置は、基板を、その周辺部を支持しつつ下降させて、テーブル表面上に搭載する昇降ピンと、上記基板が上記テーブル表面に到達して接触する前の下降動作途中位置に設けられ、上記昇降ピン上で当該基板を該テーブルに対し位置決めするために、下降動作方向に沿って該基板の周縁が接触・離脱可能で、接触した該基板の周縁を該テーブル中心に向かって水平方向へ送り出す案内部材とを備えたことを特徴とする。 The apparatus for mounting a substrate on a table according to the present invention lowers the substrate while supporting the peripheral portion thereof, and the lowering pins mounted on the table surface and the lowering before the substrate reaches and contacts the table surface. In order to position the substrate with respect to the table on the lifting pins provided at a position in the middle of operation, the peripheral edge of the substrate can be contacted and detached along the descending operation direction, and the peripheral edge of the substrate in contact with the table And a guide member that feeds in the horizontal direction toward the center.
前記基板は、その周縁から、すべての前記案内部材が離脱した状態で前記テーブル表面に接触することを特徴とする。 The substrate is in contact with the table surface in a state where all the guide members are detached from the peripheral edge thereof.
前記案内部材は、前記基板の周縁が接触することで前記テーブル中心に向かって回転自在な回転体であることを特徴とする。 The guide member is a rotating body that is rotatable toward the center of the table when the peripheral edge of the substrate comes into contact therewith.
前記案内部材は、前記テーブル中心に向かって下向き傾斜で形成されたスロープ面を有することを特徴とする。 The guide member has a slope surface formed with a downward slope toward the center of the table.
前記昇降ピンは、前記基板に当接される当接部の摩擦を小さくしたことを特徴とする。 The elevating pin is characterized in that the friction of the abutting portion that abuts on the substrate is reduced.
本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置にあっては、基板に傷が付かないようにして位置合わせを行うことができる。 In the apparatus for mounting a substrate on a table according to the present invention, alignment can be performed without scratching the substrate.
以下に、本発明にかかるテーブルへの基板搭載装置の好適な一実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。本実施形態にかかるテーブルへの基板搭載装置1は基本的には、図1から図3に示すように、基板2を、その周辺部を支持しつつ下降させて、テーブル表面3a上に搭載する昇降ピン4と、基板2がテーブル表面3aに到達して接触する前の下降動作途中位置に設けられ、昇降ピン4上で当該基板2をテーブル3に対し位置決めするために、下降動作方向に沿って基板2の周縁2aが接触・離脱可能で、接触した基板2の周縁2aをテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出す案内部材としての回転体5とを備えて構成される。基板2は、その周縁2aから、すべての回転体5が離脱した状態でテーブル表面3aに接触される。回転体5は、基板2の周縁2aが接触することでテーブル3の中心に向かって回転自在となっている。
Hereinafter, a preferred embodiment of an apparatus for mounting a substrate on a table according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As shown in FIGS. 1 to 3, the
本実施形態は、ガラス製基板2に塗装を行う塗装装置に適用した場合を示している。塗装装置には、塗装対象物である基板2を設置するために、テーブル3が備えられる。基板2が設置されるテーブル表面3aは、平坦面で形成される。テーブル3には必要に応じて、吸引作用などにより基板2をテーブル表面3aに吸着して位置保持する吸着手段が備えられる。
This embodiment has shown the case where it applies to the coating device which coats the glass-made board |
テーブル3には、基板2を支持しながら、当該基板2を下降させてテーブル表面3a上に搭載するための昇降ピン4が設けられる。昇降ピン4は、上端部が基板2に下から当接して当該基板2を下方から支える複数のピン部材4aと、これらピン部材4aを上下方向に昇降移動させる駆動手段(図示せず)とを備えて構成される。テーブル3には、テーブル表面3aから当該テーブル3内部へ向かって、縦穴6が形成される。縦穴6は、テーブル3の周辺部に、当該テーブル3の周方向に沿って適宜間隔を隔てて、複数形成される。複数のピン部材4aは、これら縦穴6それぞれに、テーブル表面3aよりテーブル3内部に没入した位置からテーブル表面3aよりも上方へ突出した位置まで、上下方向に昇降自在に設けられる。これにより、ピン部材4aはテーブル3の周辺部に、互いに適宜間隔を隔てて配設され、基板2は、その周辺部がこれら複数のピン部材4aによって昇降可能に支持される。
The table 3 is provided with
基板2に当接されるピン部材4aの上端部は、基板2に対する摩擦が小さくなるように形成される。例えば、ピン部材4aの上端部は、これに合成樹脂製のキャップ7が装着されたり、低摩擦材が塗布またはコーティングされて、低摩擦係数に形成される。これらピン部材4aは、駆動手段によって、テーブル表面3aに対し、互いに同じ高さを保持しながら同期して昇降移動され、これにより、基板2は、ピン部材4aで支持されつつ、テーブル表面3aよりも上方位置から下降され、ピン部材4aがテーブル表面3a下方へ没入することで、テーブル表面3a上に搭載される。
The upper end portion of the
テーブル3周囲のエリア8には、当該テーブル3の周方向に互いに適宜間隔を隔てて、複数の高さ調整可能な柱9が立設される。これら柱9は好ましくは、二本一組で、テーブル3を挟んで互いに向かい合うように配置される。これら柱9にはそれぞれ、基板2をテーブル3に対し位置決めするために、例えばローラやボールからなる回転体5が支持される。これら回転体5は、テーブル表面3aから同一高さ位置に設けられる。図示例にあっては、回転体5は、柱9上端に回転自在に設けられているが、柱9の高さ方向中間位置に回転自在に設けるようにしてもよい。
In the
テーブル3を取り囲んで配置される回転体5は、基板2の平面外形寸法との関係で、基板2がテーブル3に対し、位置ズレなく下降する際には、当該基板2と接触しないように柱9に設けられる。従って、回転体5は、例えば基板2がテーブル3に対し左側に位置ズレしている場合(図3参照)、基板2の左縁に面する回転体5が基板2と接触し、右縁に面する回転体5は基板2とは接触しない。なお、図示例では、基板2がテーブル3の平面外形寸法よりも大きいので、回転体5は、テーブル3から離れるようにして柱9に設けられているが、基板2がテーブル3の平面外形寸法よりも小さい場合には、テーブル表面3a上方に迫り出すようにして柱9に設けることとなる。基板2に対する回転体5のこの種の設定は、回転体5の外径寸法や、柱9の設置位置、柱9への回転体5の支持位置等によって調整される。
The rotating
また、回転体5は、柱9を高さ調整することで、ピン部材4aによって下降する基板2がテーブル表面3aに到達して接触する前の、下降動作途中の高さ位置に配置される。詳細には、回転体5の高さ位置(図4中、Bで示す)は、基板2がテーブル表面3aに接触(図4中、高さA=0の状態)する以前の高さ位置であれば、どのような高さ位置でも良いが、基板2がテーブル表面3aに接触する、できる限り直前の高さ位置に設定することが好ましい。回転体5による位置決め後の下降距離が長いと、下降距離が短い場合に比べて、その後の下降中に位置ズレが生ずる可能性が高いためである。基板2がテーブル表面3aに接触する直前の高さ位置であれば、位置決め後の位置ズレを適切に防止することができる。これにより、回転体5は、基板2全体がテーブル表面3aから浮いている状態で、基板2を位置決めすることとなるので、基板2はテーブル表面3aに接触しながら移動することがなく、基板2には傷が付かない。
Moreover, the
さらに、柱9による回転体5の支持高さ位置は、基板2の下降動作との関係で、基板2の周縁2aがすべての回転体5から離脱した状態でテーブル表面3aに接触するように設定される。回転体5は、基板2の下降動作方向に沿って、基板2の周縁2aが接触・離脱可能とされる。具体的には、回転体5は、基板2の底面がテーブル表面3aに到達して接触する前に、基板2の周縁2aから離脱する(図3(c)参照)一方で、それ以前の下降段階で、基板2の周縁2aが接触(図3(b)参照)可能な高さ位置に柱9によって支持される。回転体5のこの種の設定も、回転体5の外径寸法や柱9への回転体5の支持位置等によって調整される。
Furthermore, the support height position of the
このように配設位置が設定された回転体5は、下降される基板2の周縁2aが接触することで、当該基板2の下降作用に伴う引きずりによりテーブル3の中心に向かって回転され、この回転によって、接触した基板2の周縁2aをテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出し、これによりテーブル表面3aと非接触状態の基板2がこれを支持しているピン部材4a上で位置決めされるようになっている。回転体5が、回転軸5aを有するローラの場合には、基板2の周縁2aをテーブル3の中心へ送り出すために、ローラの回転軸5aが基板2の周縁2aとおおよそ平行になるように設定される。回転体5は柱9に対し、上下方向に弾性緩衝作用を発揮するバネやゴムなどのクッション材を介して支持するようにしても良い。これにより、基板2の周縁2aが接触する際の衝撃を弱めることができる。他方、回転体5は水平方向については、柱9に対し剛に設けることが好ましい。回転体5が水平方向に移動し得ると、位置決め精度が劣化するおそれがあるためである。
The
次に、本実施形態にかかるテーブルへの基板搭載装置1の作用について説明する。基板2は、ロボットアームなどの搬送手段で搬送されて、図3(a)に示すように、テーブル表面3a上方へ突出されている複数のピン部材4a上に載置される。ピン部材4aは、基板2が載置されると、駆動手段により下降移動され、これにより基板2を支持しつつテーブル表面3aに向かって降下させる。基板2がテーブル3に対して位置ズレ(図3(a)中、xで示す。)していると、基板2の周縁2aは、柱9に設けた回転体5の上に載って接触する。
Next, the effect | action of the board |
回転体5は、基板2が接触すると、当該基板2の下降動作による引きずりでテーブル3側に向かって回転する。回転体5がテーブル3側に向かって回転すると、回転体5上に載っている基板2の周縁2aは、ピン部材4aの下降移動により下降しながらテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出され、これにより図3(b)に示すように、ピン部材4a上でテーブル3に対する基板2の位置決めが行われる。基板2の周縁2aが回転体5上から離脱した段階では、基板2は継続してピン部材4a上に支持されて、テーブル表面3a上方に浮いた状態となっている。回転体5からの離脱後、さらにピン部材4aが下降移動され、ピン部材4aが縦穴6内部に没入すると、基板2は、図3(c)に示すように、テーブル表面3a上に載置される。基板2がテーブル3に対して位置ズレしていない場合には、基板2は回転体5と接触することなく、テーブル表面3a上に搭載される。
When the
以上説明した本実施形態にかかるテーブルへの基板搭載装置1にあっては、基板2がテーブル表面3aに到達して接触する前の下降動作途中位置に設けられ、昇降ピン4上で当該基板2をテーブル3に対し位置決めするために、下降動作方向に沿って基板2の周縁2aが接触・離脱可能で、接触した基板2の周縁2aをテーブル3の中心に向かって水平方向へ送り出す回転体5を備えたので、基板2の位置合わせをピン部材4a上で行うことができ、背景技術のように、基板を、テーブル表面上に接触させながら移動させる必要がなくて、基板2に傷が付かないようにして位置合わせを行うことができる。特に、撓み変形する基板2の場合であっても、基板2がテーブル表面3a上に到達して接触する前の下降動作途中位置に設けた回転体5で位置決めするようにして、すなわちピン部材4a上で位置決めするようにしているので、基板2に傷が付くことを適切に防止することができる。
In the
また、案内部材を回転体5で構成し、当該回転体5を柱9に定位置で支持して設けるようにしたので、基板2の下降動作を利用して、きわめて簡単な構造で、かつ作業時間の遅延を生じさせることなく、位置決め作用を得ることができる。また、回転体5を用いるようにしたので、基板2の周縁2aとの接触時に、回転体5が回転して逃げるので、傷が付きにくいとともに、回転体5の回転作用で滑らかに基板2をテーブル3の中心へ送り出すことができる。
Further, since the guide member is composed of the
基板2と当接するピン部材4aの上端部の摩擦を小さくしたので、基板2やテーブル3に低摩擦材などを塗布するなどして低摩擦化するよりも、構成が簡単であるとともに、テーブル3等に低摩擦材を適用することによって基板2への各種処理に障害が生じることも防止することができる。また、基板2をピン部材4a上に支持するにあたり、ピン部材4aから基板2下面に向かってエアを噴出させることで、ピン部材4a上で基板2が傷つくことをさらに防止できる。さらに、基板2をテーブル表面3a上に搭載するにあたり、テーブル表面3aから基板2下面に向かってエアを噴出させることで、テーブル表面3a上で基板2に傷が付くことをさらに防止できる。
Since the friction at the upper end portion of the
図5には変形例が示されている。この変形例では、案内部材として、上記回転体5に代えて、断面三角形状のブロック11が採用されている。このブロック11は、柱9の上端に固定して設けられ、3辺のうちの一辺が、テーブル3の中心に向かって下向き傾斜のスロープ面11aを構成するようになっている。スロープ面11aの下縁部11bは、基板2の周縁2aの離脱を円滑化するために、丸味を帯びた形状に形成される。また、ブロック11は、上述したクッション材12を介して柱9に取り付けるようにしても良い。このような変形例にあっても、上記実施形態と同様の作用効果を奏することはもちろんである。特にブロック11は、可動部分がないので、故障などを生じることがない。
FIG. 5 shows a modification. In this modification, a
上記実施形態にあっては、ガラス製基板に塗装を行う塗装装置に適用した場合について説明したが、基板2の材質はどのようなものであっても良く、またどのような装置に適用してもよいことはもちろんである。
In the above embodiment, the case where the present invention is applied to a coating apparatus that performs coating on a glass substrate has been described. However, the
1 テーブルへの基板搭載装置
2 基板
2a 基板の周縁
3 テーブル
3a テーブル表面
4 昇降ピン
5 回転体
11a スロープ面
DESCRIPTION OF
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008047393A JP2009206315A (en) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | Substrate mounting device to table |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
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JP2008047393A Pending JP2009206315A (en) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | Substrate mounting device to table |
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