JP2010118478A - Substrate levitation device and substrate inspecting apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等の基板を浮上させる基板浮上装置、及び、基板を検査する基板検査装置に関する。 The present invention relates to a substrate levitating device for levitating a substrate such as a flat panel display (FPD), and a substrate inspection device for inspecting a substrate.
従来、フォトリソグラフィ工程によりガラス基板（マザーガラス基板）にレジストパターニングを行って液晶パネルを製造する製造工程や、ガラス基板を検査する検査工程において、エアによりマザーガラス基板を浮上させ、この非接触状態のマザーガラス基板を検査或いは搬送する手法がとられている（例えば、特許文献１参照）。 Conventionally, in a manufacturing process for manufacturing a liquid crystal panel by performing resist patterning on a glass substrate (mother glass substrate) by a photolithography process and an inspection process for inspecting a glass substrate, the mother glass substrate is levitated by air, and this non-contact state A method of inspecting or conveying the mother glass substrate is used (for example, see Patent Document 1).
近年のガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板は、エアにより浮上させただけでは不安定な状態となりやすく、意図しない方向に移動してしまうこともある。また、ガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板に生じる撓みや反りも大きくなってきており、浮上ステージにガラス基板が接触しないように低摩擦でガラス基板を保持する必要がある。 With the recent increase in size of glass substrates, glass substrates are likely to become unstable simply by being levitated by air and may move in unintended directions. In addition, as the size of the glass substrate increases, the deflection and warpage generated in the glass substrate are also increasing, and it is necessary to hold the glass substrate with low friction so that the glass substrate does not contact the levitation stage.
上記特許文献１記載の基板浮上装置は、浮上ステージ上を搬送されてきたガラス基板を支持部材の先端に設けられた接触部材を昇降機構により上昇させ浮上ステージより突出させることで接触部材をガラス基板の裏面に接触させ、浮上している基板の移動を規制する。この接触部材は、浮上したガラス基板が搬送されてきた後、昇降機構 により浮上ステージにほぼ中央より上方に突出され浮上したガラス基板の裏面に接触するようになっている。 The substrate levitation apparatus described in Patent Document 1 raises the contact member provided at the tip of the support member to the glass substrate that has been transported on the levitation stage by using an elevating mechanism to project the contact member from the levitation stage. The back surface of the substrate is brought into contact with the substrate, and movement of the floating substrate is restricted. This contact member comes into contact with the back surface of the glass substrate which has been lifted by the lifting mechanism and is projected substantially above the center after the floated glass substrate has been conveyed.
特許文献２記載の基板保持具は、浮上ステージの上面に形成された凹部に片持梁状の板ばねが設けられ、この板ばねの自由端に基板の裏面に当接する当接部材が取り付けられている。基板をステージ上に載置することで当接部が基板裏面に接触して基板の移動が規制される。
上記特許文献１記載の基板浮上装置は、接触部材が浮上装置の中央寄りに設けられているため、例えば基板の浮上量を変更する場合等に、浮上ステージの外側から接触部材の高さ調整を行うのが非常に困難である。 In the substrate levitation device described in Patent Document 1, since the contact member is provided closer to the center of the levitation device, the height of the contact member is adjusted from the outside of the levitation stage, for example, when changing the floating amount of the substrate. It is very difficult to do.
また、上記特許文献２記載の基板保持具は、当接部材の高さ調整を行うためには、板ばねを高さの異なるものに交換しなければならず、非常に手間のかかる作業を要する。
本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、基板を保持する保持部の高さ調整を容易に行うことができる基板浮上装置及び基板検査装置を提供することである。
Moreover, in order to adjust the height of the abutting member, the substrate holder described in Patent Document 2 must replace the leaf springs with different heights, which requires very laborious work. .
In view of the above-described conventional situation, an object of the present invention is to provide a substrate floating apparatus and a substrate inspection apparatus capable of easily adjusting the height of a holding unit that holds a substrate.
上記課題を解決するために、本発明の基板浮上装置は、基板を浮上させる浮上ステージと、この浮上ステージの周縁又はその近傍に配置され、上方に弾性力で付勢されて上記基板を下方から保持する保持部と、この保持部の高さ位置を調整する高さ調整部と、を備える構成とする。 In order to solve the above problems, a substrate levitation apparatus according to the present invention is arranged on a levitation stage for levitating a substrate and the periphery of the levitation stage or in the vicinity thereof, and is urged by an elastic force upward to move the substrate from below. A holding part to be held and a height adjusting part for adjusting the height position of the holding part are provided.
上記課題を解決するために、本発明の基板検査装置は、上記基板浮上装置と、この基板浮上装置の浮上ステージ上に浮上した基板の検査を行う検査部と、を含む構成とする。 In order to solve the above-described problems, a substrate inspection apparatus according to the present invention includes the above-described substrate floating apparatus and an inspection unit that inspects the substrate that has floated on the floating stage of the substrate floating apparatus.
本発明では、基板を下方から保持する保持部は、浮上ステージの周縁又はその近傍に配置される。そのため、高さ調整部によって保持部の高さ位置を調整する作業が容易となる。よって、本発明によれば、保持部の高さ調整を容易に行うことができる。 In the present invention, the holding unit that holds the substrate from below is disposed at or near the periphery of the levitation stage. Therefore, the work of adjusting the height position of the holding portion by the height adjusting portion is facilitated. Therefore, according to the present invention, the height of the holding portion can be easily adjusted.
以下、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置及び基板検査装置について、図面を参照しながら説明する。
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置１を含む基板検査装置１０を示す平面図及び正面図である。
Hereinafter, a substrate floating apparatus and a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
1A and 1B are a plan view and a front view showing a substrate inspection apparatus 10 including a substrate floating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention.
図２及び図３は、基板浮上装置１の保持部３及び高さ調整部４を示す正面図及び斜視図である。
図４は、図１ＡのＡ−Ａ断面図である。
2 and 3 are a front view and a perspective view showing the holding unit 3 and the height adjusting unit 4 of the substrate floating apparatus 1.
4 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1A.
基板浮上装置１は、基板Ｇ（図１Ａのみに２点鎖線で図示）を浮上させる浮上ステージ２と、この浮上ステージ２の周縁に配置され、上方に弾性力で付勢されて矩形状のガラス基板Ｇを下方から保持する４つの保持部３と、この保持部３の高さ位置を調整する高さ調整部４と、ガラス基板Ｇを位置決めする６つの位置決め機構５と、浮上ステージ２の下部に配置され図示しない除振機構等を有するベース部６と、ガントリ用ガイドレール７，７と、を備える。 The substrate levitation apparatus 1 includes a levitation stage 2 that levitates a substrate G (shown only by a two-dot chain line in FIG. 1A), and a rectangular glass that is arranged on the periphery of the levitation stage 2 and is biased upward by an elastic force. Four holding parts 3 for holding the substrate G from below, a height adjusting part 4 for adjusting the height position of the holding part 3, six positioning mechanisms 5 for positioning the glass substrate G, and a lower part of the levitation stage 2 And a base portion 6 having an anti-vibration mechanism (not shown) and gantry guide rails 7 and 7.
基板検査装置１０は、基板浮上装置１と、この基板浮上装置１の浮上ステージ２上に浮上した基板の検査を行う検査部１１と、ガントリ１２とを備える。
浮上ステージ２は、その上面にマトリクス状に配置された矩形タイル状の浮上プレート２ａを有する。浮上プレート２ａは、図示しない浮上用エア配管から供給されるエアを上面に形成された吐出孔から吐出することで、ガラス基板Ｇを浮上させる。
The substrate inspection apparatus 10 includes a substrate levitation apparatus 1, an inspection unit 11 that inspects a substrate that has floated on the levitation stage 2 of the substrate levitation apparatus 1, and a gantry 12.
The levitation stage 2 has a rectangular tile-shaped levitation plate 2a arranged in a matrix on the upper surface thereof. The levitation plate 2a floats the glass substrate G by discharging air supplied from a levitation air pipe (not shown) from a discharge hole formed on the upper surface.
浮上ステージ２は、ガラス基板Ｇ全体を載置できるようにガラス基板Ｇと同等の面積に構成されている。浮上プレート２ａは、浮上ステージ２の全体に亘る一枚のプレートとすることも可能であるが、薄いガラス基板Ｇを水平に浮上させるために、エアが流出する間隙を設けて細長い長方形に形成した浮上プレート２ａをマトリックス状に配置してある。 The levitation stage 2 is configured to have an area equivalent to that of the glass substrate G so that the entire glass substrate G can be placed thereon. The levitation plate 2a can be a single plate extending over the entire levitation stage 2, but in order to float the thin glass substrate G horizontally, it is formed in an elongated rectangular shape with a gap through which air flows out. The floating plate 2a is arranged in a matrix.
なお、浮上ステージ２内には、ガラス基板Ｇを搬送する図示しない搬送ロボットとの間でガラス基板Ｇを受け渡す図示しないリフト装置が設けられている。このリフト装置は例えば、搬送ロボットのハンドによりガラス基板Ｇを浮上ステージ２上に搬入させた後、複数のピンを浮上プレート２ａの間から上方に上昇させてガラス基板Ｇを搬送ロボットから受取る。この搬送ロボットのハンドを後退させて浮上ステージ２の外に待避させた後、ピンを下降させることでガラス基板Ｇを浮上ステージ２上に載置する。 In the levitation stage 2, a lift device (not shown) that delivers the glass substrate G to and from a transfer robot (not shown) that transfers the glass substrate G is provided. For example, after the glass substrate G is carried onto the levitation stage 2 by the hand of the transfer robot, the lift device raises the plurality of pins upward from between the levitation plates 2a to receive the glass substrate G from the transfer robot. After the hand of the transfer robot is retracted and retracted outside the levitation stage 2, the glass substrate G is placed on the levitation stage 2 by lowering the pins.
また、ガラス基板Ｇを搬出する際には、ピンを浮上プレート２ａの間から上方に上昇させて浮上ステージ２上のガラス基板を持ち上げた状態で、浮上ステージ２とガラス基板Ｇとの間に搬送ロボットのハンドを挿入した後、ピンを下降させてガラス基板Ｇを搬送ロボットのハンドにト装置に受け渡す。 Further, when unloading the glass substrate G, the pins are lifted upward from between the floating plates 2a and are transported between the floating stage 2 and the glass substrate G in a state where the glass substrate on the floating stage 2 is lifted. After inserting the robot hand, the pin is lowered and the glass substrate G is transferred to the transfer robot hand to the robot apparatus.
なお、リフト装置を配置しない場合、ガラス基板Ｇの搬入時には、搬送ロボットのハン
ドを上方から浮上プレート２ａ間の間隙に下降させてガラス基板Ｇを浮上プレート２ａ上に載置すると共に、載置した後に搬送ロボットのハンドを水平方向に引き抜いて退避できる構成とするとよい。また、ガラス基板Ｇの搬出時には、搬送ロボットのハンドが浮上プレート２ａ間の間隙に水平方向から挿入させた後、この搬送ロボットのハンドを垂直方向に上昇させガラス基板Ｇを持ち上げることになる。
When the lift device is not disposed, when the glass substrate G is loaded, the hand of the transfer robot is lowered from above to the gap between the floating plates 2a to place the glass substrate G on the floating plate 2a. It is preferable that the hand of the transfer robot can be pulled out and retracted in the horizontal direction later. When the glass substrate G is unloaded, the hand of the transfer robot is inserted into the gap between the floating plates 2a from the horizontal direction, and then the hand of the transfer robot is raised in the vertical direction to lift the glass substrate G.
なお、図１Ａ及び図１Ｂに示す浮上ステージ２は、ガントリ１２の移動方向の前後２つのステージに分割されているが、浮上ステージ２全面を1つの一体構造としてもよい。
検査部１１は、顕微鏡等からなり、リニアモータ等の駆動手段によりガントリ１２の水平アーム部に沿って１軸方向に移動する。ガントリ１２は、リニアモータ等の駆動手段により、ベース部６上面の両側端に設けられたガントリ用ガイドレール７，７上を、検査部１１の移動方向と直交する１軸方向に移動する。そのため、検査部１１は、検査部１１自体のガントリ１２に沿った移動とガントリ１２の移動とで、ガラス基板Ｇの上方を水平２軸方向に自在に移動することが可能となっている。
The levitation stage 2 shown in FIGS. 1A and 1B is divided into two stages before and after the gantry 12 in the moving direction, but the entire surface of the levitation stage 2 may be formed as one integrated structure.
The inspection unit 11 includes a microscope or the like, and moves in one axial direction along the horizontal arm portion of the gantry 12 by driving means such as a linear motor. The gantry 12 is moved on a gantry guide rail 7, 7 provided on both side ends of the upper surface of the base portion 6 in one axial direction perpendicular to the moving direction of the inspection portion 11 by driving means such as a linear motor. Therefore, the inspection unit 11 can move freely above the glass substrate G in the two horizontal axes by the movement of the inspection unit 11 itself along the gantry 12 and the movement of the gantry 12.
なお、検査部１１にレーザ照射部等の基板修正手段を配置することで、検査部１１の例えば顕微鏡によりレビューしたガラス基板Ｇの欠陥をレーザ等で修正するようにしてもよい。 In addition, by arranging a substrate correcting means such as a laser irradiation unit in the inspection unit 11, a defect of the glass substrate G reviewed by, for example, a microscope of the inspection unit 11 may be corrected by a laser or the like.
ガラス基板Ｇを位置決めする位置決め機構５は、浮上ステージ２のガントリ用ガイドレール７，７に沿った２辺の両端近傍にそれぞれ２つずつ、ガントリ用ガイドレール７，７に沿った２辺と交差する２辺の中央にそれぞれ１つずつ、合計で６つ配置されている。位置決め機構５は、搬送ロボットにより浮上ステージ２上に載置されたガラス基板Ｇの側面を図示しない押圧ピンで押圧することで、ガラス基板Ｇを、例えば、互いに交差する基準線（基準位置）に位置決めする。 The positioning mechanism 5 for positioning the glass substrate G intersects the two sides along the gantry guide rails 7 and 7 respectively, two in the vicinity of both ends of the two sides along the gantry guide rails 7 and 7 of the floating stage 2. A total of six are arranged in the center of the two sides. The positioning mechanism 5 presses the side surface of the glass substrate G placed on the levitation stage 2 by the transfer robot with a pressing pin (not shown), so that the glass substrate G is brought into a reference line (reference position) intersecting each other, for example. Position.
４つの保持部３は、浮上ステージ２のガントリ用ガイドレール７，７に沿った２辺の両端近傍に配置された４つの位置決め機構５に近い位置に位置することが好ましい。本実施の形態では、一番端の浮上プレート２ａと２番目の浮上プレート２ａの間の隙間に位置決め機構５を配置し、この位置決め機構５が配置された隣の浮上プレート２ａの間の間隙に保持部３が配置されている。 The four holding portions 3 are preferably located at positions close to the four positioning mechanisms 5 disposed near both ends of the two sides along the gantry guide rails 7 and 7 of the levitation stage 2. In the present embodiment, the positioning mechanism 5 is disposed in the gap between the extreme levitation plate 2a and the second levitation plate 2a, and the gap between the adjacent levitation plates 2a where the positioning mechanism 5 is disposed. A holding unit 3 is arranged.
各保持部３は、図２〜図４に示すように、ガラス基板Ｇの裏面に当接する円柱状（もしくは円盤状）に形成された当接部３ａと、この当接部３ａの底面中央に形成されたネジ孔に螺合するネジ溝を形成した軸部（ボルト部）３ｂと、軸部３ｂの基端に形成されたブッシュ部３ｄと、このブッシュ部３ｄが摺動自在に支持する貫通孔が形成された高さ調整片３ｃと、当接部３ａと高さ調整片３ｃとの間に介在し弾性力で当接部３ａを上方に付勢するスプリング３ｅと、を有する。 As shown in FIGS. 2 to 4, each holding portion 3 has a contact portion 3 a formed in a columnar shape (or disk shape) that contacts the back surface of the glass substrate G, and a center of the bottom surface of the contact portion 3 a. A shaft portion (bolt portion) 3b formed with a screw groove to be screwed into the formed screw hole, a bush portion 3d formed at the base end of the shaft portion 3b, and a through which this bush portion 3d supports slidably. And a spring 3e interposed between the contact portion 3a and the height adjustment piece 3c and biasing the contact portion 3a upward by an elastic force.
高さ調整片３ｃは、当接部３ａの下方に位置する水平部３ｃ−１と、この水平部３ｃ−１の浮上ステージ２外側の端部から下方に延びる鉛直部３ｃ−２とを有する。鉛直部３ｃ−２には、高さ方向に長い２つの長孔３ｃ−３，３ｃ−３が形成されている。 The height adjusting piece 3c includes a horizontal portion 3c-1 positioned below the contact portion 3a and a vertical portion 3c-2 extending downward from an end portion outside the floating stage 2 of the horizontal portion 3c-1. Two long holes 3c-3 and 3c-3 that are long in the height direction are formed in the vertical portion 3c-2.
高さ調整片３ｃは、長孔３ｃ−３，３ｃ−３において、外側から浮上ステージ２のフレーム２ｂの側面にネジ３ｆ，３ｆにより固定されている。なお、高さ調整片３ｃを後述する高さ調整部４と接続する際に、ネジ３ｆ，３ｆの長孔３ｃ−３，３ｃ−３における高さ位置を調整しておくことで、高さ調整片３ｃひいては当接部３ａの高さを高さ調整部４による高さ調整よりも大きい範囲で調整することができる。 The height adjusting piece 3c is fixed to the side surface of the frame 2b of the levitation stage 2 from the outside by screws 3f and 3f in the long holes 3c-3 and 3c-3. In addition, when connecting the height adjustment piece 3c with the height adjustment part 4 mentioned later, height adjustment is performed by adjusting the height position in the long holes 3c-3 and 3c-3 of the screws 3f and 3f. The height of the piece 3c and the contact part 3a can be adjusted in a range larger than the height adjustment by the height adjustment part 4.
高さ調整部４は、本体プレート４ａと、高さ調整ボルト４ｂと、固定用ネジ４ｃ，４ｃ
とを有する。本体プレート４ａは、水平部４ａ−１と、この水平部４ａ−１の両端から下方に延びる２つの鉛直部４ａ−２，４ａ−２とを有し、図２の正面視において逆Ｕ字状を呈する。
The height adjusting unit 4 includes a main body plate 4a, a height adjusting bolt 4b, and fixing screws 4c and 4c.
And have. The main body plate 4a has a horizontal portion 4a-1 and two vertical portions 4a-2 and 4a-2 extending downward from both ends of the horizontal portion 4a-1, and has an inverted U shape in a front view of FIG. Presents.
本体プレート４ａは、２つの鉛直部４ａ−２，４ａ−２において、固定用ネジ４ｃ，４ｃにより、浮上ステージ２のフレーム２ｂの側面に固定されている。
高さ調整ボルト４ｂは、水平部４ａ−１を上方から貫通し、高さ調整片３ｃの水平部３ｃ−１に螺合することで、高さ調整片３ｃと接続されている。高さ調整部４は、浮上ステージ２のフレーム２ｂに固定されているため、高さ調整部４の高さ調整ボルト４ｂにより高さ調整片３ｃとの位置関係を調整すれば、高さ調整片３ｃひいては当接部３ａの高さを微調整することができる。
The main body plate 4a is fixed to the side surface of the frame 2b of the levitation stage 2 by fixing screws 4c and 4c in the two vertical portions 4a-2 and 4a-2.
The height adjusting bolt 4b is connected to the height adjusting piece 3c by penetrating the horizontal portion 4a-1 from above and screwing into the horizontal portion 3c-1 of the height adjusting piece 3c. Since the height adjustment unit 4 is fixed to the frame 2b of the levitation stage 2, if the positional relationship with the height adjustment piece 3c is adjusted by the height adjustment bolt 4b of the height adjustment unit 4, the height adjustment piece As a result, the height of the contact portion 3a can be finely adjusted.
保持部３は、上述のように高さ調整ボルト４ｂにより高さ調整片３ｃの高さを微小に調整できるようになっている。また、保持部３の当接部３ａは、スプリング３ｅの弾性力で上方に付勢され、ガラス基板Ｇを下方から保持する。なお、保持部３の当接部３ａの上面は、各浮上プレート２ａの間の間隙からガラス基板Ｇの浮上高さよりも若干高い位置に突出して固定される。この当接部３ａをガラス基板Ｇの浮上高さよりも若干高い位置に突出させて固定することにより、ガラス基板Ｇと浮上プレート２ａとの接触を防ぐ役目も果たすことになる。 As described above, the holding unit 3 can finely adjust the height of the height adjusting piece 3c by the height adjusting bolt 4b. The abutting portion 3a of the holding portion 3 is urged upward by the elastic force of the spring 3e, and holds the glass substrate G from below. Note that the upper surface of the contact portion 3a of the holding portion 3 is fixed to protrude from a gap between the floating plates 2a to a position slightly higher than the flying height of the glass substrate G. By projecting and fixing the abutting portion 3a to a position slightly higher than the flying height of the glass substrate G, it also serves to prevent contact between the glass substrate G and the floating plate 2a.
ここで、搬送ロボットによりガラス基板Ｇが浮上ステージ２上に搬入すると、浮上ステージ２から噴出されるエアーによりガラス基板Ｇが浮上ステージ２上に浮上した状態で載置される。このとき、浮上したガラス基板Ｇの裏面が保持部３の当接部３ａに接触し、ガラス基板Ｇの裏面が小さな摩擦力で支えられる。この状態で位置決め機構５等によりガラス基板Ｇを押圧することで、ガラス基板Ｇが保持部３による摩擦力に抗して移動させることで、ガラス基板Ｇを目的の基準位置に位置決することができる。 Here, when the glass substrate G is carried onto the levitation stage 2 by the transfer robot, the glass substrate G is placed on the levitation stage 2 by the air ejected from the levitation stage 2. At this time, the back surface of the floated glass substrate G comes into contact with the contact portion 3a of the holding unit 3, and the back surface of the glass substrate G is supported with a small frictional force. By pressing the glass substrate G with the positioning mechanism 5 or the like in this state, the glass substrate G can be moved against the frictional force of the holding unit 3, so that the glass substrate G can be positioned at a target reference position. .
以上説明した本実施の形態では、保持部３は、浮上ステージ２の周縁に配置される。そのため、例えば、基板浮上装置１の外側から、高さ調整部において保持部３の高さ位置を容易に調整することができる。よって、本実施の形態によれば、保持部３の高さ調整を容易に行うことができる。 In the present embodiment described above, the holding unit 3 is disposed on the periphery of the levitation stage 2. Therefore, for example, the height position of the holding unit 3 can be easily adjusted in the height adjusting unit from the outside of the substrate floating apparatus 1. Therefore, according to the present embodiment, the height of the holding unit 3 can be easily adjusted.
また、本実施の形態では、保持部３の当接部３ａは、位置決め機構５の近傍に位置する。このようにガラス基板Ｇを押圧する位置決め機構５と、ガラス基板を保持する当接部３ａとの距離を短くすることで、ガラス基板Ｇを大きく回転させずに位置決めを行うことが可能になり、位置決め機構５の押し付けピンの移動量を小さくすることができる。また、位置決め機構５に保持部３の当接部３ａを近づけることで、ガラス基板Ｇに対して撓みや反りを起こすことなく位置決め機構５の押圧力をガラス基板Ｇに伝えることができ、ガラス基板Ｇを正確に位置決めすることができる。また、位置決め機構５の押圧方向の延長線上に保持部３の当接部３ａを配置することでも同様の効果が得られる。 In the present embodiment, the contact portion 3 a of the holding portion 3 is located in the vicinity of the positioning mechanism 5. Thus, by shortening the distance between the positioning mechanism 5 that presses the glass substrate G and the contact portion 3a that holds the glass substrate, it becomes possible to perform positioning without greatly rotating the glass substrate G. The amount of movement of the pressing pin of the positioning mechanism 5 can be reduced. Further, by bringing the contact portion 3a of the holding portion 3 close to the positioning mechanism 5, the pressing force of the positioning mechanism 5 can be transmitted to the glass substrate G without causing bending or warping to the glass substrate G. G can be positioned accurately. Further, the same effect can be obtained by arranging the contact portion 3 a of the holding portion 3 on the extension line in the pressing direction of the positioning mechanism 5.
なお、保持部３の当接部３ａは、浮上ステージ２の周縁ではなく、浮上ステージ２の周縁の近傍、例えば、周縁から人の手の届く数１００ｍｍの範囲に位置するようにしてもよい。保持部３が浮上ステージ２の周縁に位置しているため、基板浮上装置１の外側から人の手で高さ調整部において保持部３の高さ位置を容易に調整することができる。 Note that the abutting portion 3a of the holding unit 3 may be positioned not in the periphery of the levitation stage 2, but in the vicinity of the periphery of the levitation stage 2, for example, in a range of several hundred mm that can be reached by a human hand from the periphery. Since the holding unit 3 is located on the periphery of the levitation stage 2, the height position of the holding unit 3 can be easily adjusted by a human hand from the outside of the substrate levitation apparatus 1.
また、本実施の形態では、保持部３の当接部３ａひいてはガラス基板Ｇに弾性力を与えるために、当接部３ａを弾性力で上方に付勢するスプリング５ｅを配置しているが、弾性力を与えるためには、スプリング５ｅ以外の弾性部材を用いてもよく、また、気圧や磁力を用いてもよい。 Further, in the present embodiment, in order to give an elastic force to the contact portion 3a of the holding portion 3 and thus to the glass substrate G, the spring 5e that urges the contact portion 3a upward with the elastic force is disposed. In order to give the elastic force, an elastic member other than the spring 5e may be used, or atmospheric pressure or magnetic force may be used.
また、本実施の形態では、位置決め機構５を配置した基板浮上装置１について説明したが、搬送ロボットによるガラス基板Ｇの搬入時に、例えば、ガラス基板Ｇの１辺に２つ、他の辺に１つ配置されたラインセンサによりガラス基板Ｇの基準位置からのズレ量を求め、このズレ量を搬送ロボットで補正した状態でガラス基板Ｇを浮上ステージ２に載置する構成等の場合には、位置決め機構５を省略することも可能である。 Moreover, in this Embodiment, although the board | substrate levitation apparatus 1 which has arrange | positioned the positioning mechanism 5 was demonstrated, at the time of carrying in the glass substrate G by a conveyance robot, for example, two on one side of the glass substrate G and 1 on the other side In the case of a configuration in which the glass substrate G is placed on the levitation stage 2 in a state where the amount of deviation from the reference position of the glass substrate G is obtained by two arranged line sensors and the amount of deviation is corrected by the transfer robot, positioning is performed. The mechanism 5 can be omitted.
また、本実施の形態では、基板浮上装置１を基板検査装置１０に配置した例について説明したが、基板浮上装置１は、例えば製造ラインにおいてガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置に適用することも可能である。 In this embodiment, the example in which the substrate floating apparatus 1 is arranged in the substrate inspection apparatus 10 has been described. However, the substrate floating apparatus 1 may be applied to a substrate transfer apparatus that transfers a glass substrate G in a production line, for example. Is possible.
基板浮上装置１を基板搬送装置に適用した場合には、ガラス基板Ｇの搬送時には、保持部３とガラス基板Ｇとの接触を回避するために、当接部３ａをその上面がステージ部２（浮上プレート２ａ）の上面と同一高さかそれよりも下方に位置するように退避させる必要がある。 When the substrate levitation apparatus 1 is applied to a substrate transport apparatus, when the glass substrate G is transported, in order to avoid contact between the holding section 3 and the glass substrate G, the contact section 3a has an upper surface on the stage section 2 It is necessary to retract so that it is located at the same height as the upper surface of the floating plate 2a) or below it.
また、ガラス基板Ｇが基板搬送装置へ搬入時・位置決め時等の静止時にあるときに、当接部３ａをその上面がステージ部２（浮上プレート２ａ）の上面よりも上方に位置するように移動させる必要がある。 Further, when the glass substrate G is in a stationary state such as when it is carried into the substrate transfer device or positioned, the contact portion 3a is moved so that the upper surface thereof is located above the upper surface of the stage portion 2 (the floating plate 2a). It is necessary to let
そのため、保持部３にアクチュエータを設けてガラス基板Ｇが搬送時か静止時かにより当接部３ａの高さ位置を自動制御するとよい。 Therefore, it is preferable to provide an actuator in the holding part 3 and automatically control the height position of the contact part 3a depending on whether the glass substrate G is transported or stationary.
１ 基板浮上装置
２ 浮上ステージ
２ａ 浮上プレート
２ｂ フレーム
３ 保持部
３ａ 当接部
３ｂ 軸部（ボルト）
３ｃ 高さ調整片
３ｃ−１ 水平部
３ｃ−２ 鉛直部
３ｃ−３ 長孔
３ｄ ブッシュ部
３ｅ スプリング
３ｆ ネジ
４ 高さ調整部
４ａ 本体プレート
４ａ−１ 水平部
４ａ−２ 鉛直部
４ｂ 高さ調整ボルト
４ｃ 固定用ネジ
５ 位置決め機構
６ ベース部
７ ガントリ用ガイドレール
１０ 基板検査装置
１１ 検査部
１２ ガントリ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate levitation device 2 Levitation stage 2a Levitation plate 2b Frame 3 Holding part 3a Contact part 3b Shaft part (bolt)
3c Height adjustment piece 3c-1 Horizontal portion 3c-2 Vertical portion 3c-3 Long hole 3d Bush portion 3e Spring 3f Screw 4 Height adjustment portion 4a Body plate 4a-1 Horizontal portion 4a-2 Vertical portion 4b Height adjustment bolt 4c Fixing screw 5 Positioning mechanism 6 Base part 7 Guide rail for gantry 10 Board inspection device 11 Inspection part 12 Gantry
Claims (3)
該浮上ステージの周縁又はその近傍に配置され、上方に弾性力で付勢されて前記基板を下方から保持する保持部と、
該保持部の高さ位置を調整する高さ調整部と、
を備えることを特徴とする基板浮上装置。 A levitation stage for levitating the substrate;
A holding portion that is disposed at or near the periphery of the levitation stage and is biased upward by an elastic force to hold the substrate from below;
A height adjusting unit for adjusting the height position of the holding unit;
A substrate levitation apparatus comprising:
前記保持部は、前記浮上ステージの周縁又はその近傍で、且つ前記位置決め機構の近傍に位置する、
ことを特徴とする請求項１記載の基板浮上装置。 A positioning mechanism for positioning the substrate;
The holding portion is located at or near the periphery of the levitation stage and near the positioning mechanism.
The substrate floating apparatus according to claim 1.
該基板浮上装置の浮上ステージ上に浮上した基板の検査を行う検査部と、
を含むことを特徴とする基板検査装置。 A substrate floating apparatus according to claim 1 or 2,
An inspection unit for inspecting a substrate levitated on the levitating stage of the substrate levitating apparatus;
A board inspection apparatus comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008290390A JP2010118478A (en) | 2008-11-12 | 2008-11-12 | Substrate levitation device and substrate inspecting apparatus |
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|---|---|---|---|
| JP2008290390A JP2010118478A (en) | 2008-11-12 | 2008-11-12 | Substrate levitation device and substrate inspecting apparatus |
Publications (1)
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|---|---|
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| WO2012105108A1 (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | オイレス工業株式会社 | Spacing adjustment device and conveying apparatus using same |
| WO2013157369A1 (en) * | 2012-04-16 | 2013-10-24 | オイレス工業株式会社 | Interval adjustment device and transport device using same |
-
2008
- 2008-11-12 JP JP2008290390A patent/JP2010118478A/en not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012105108A1 (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | オイレス工業株式会社 | Spacing adjustment device and conveying apparatus using same |
| JP2012158424A (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Oiles Corp | Clearance adjustment device and conveying apparatus using the same |
| CN103313922A (en) * | 2011-01-31 | 2013-09-18 | 奥依列斯工业株式会社 | Spacing adjustment device and conveying apparatus using same |
| TWI507340B (en) * | 2011-01-31 | 2015-11-11 | Oiles Industry Co Ltd | A separation distance adjusting device, and a handling device using the same |
| WO2013157369A1 (en) * | 2012-04-16 | 2013-10-24 | オイレス工業株式会社 | Interval adjustment device and transport device using same |
| JP2013220874A (en) * | 2012-04-16 | 2013-10-28 | Oiles Corp | Clearance adjusting device and conveying apparatus using the same |
| CN104245548A (en) * | 2012-04-16 | 2014-12-24 | 奥依列斯工业株式会社 | Interval adjustment device and transport device using same |
| US9227796B2 (en) | 2012-04-16 | 2016-01-05 | Oiles Corporation | Interval adjustment device and transport device using same |
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