KR20180061024A - Method for dividing brittle material substrate and dividing device - Google Patents
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Abstract
(과제) 취성 재료 기판을 다이싱 링에 유지하여, 테이블 위에 재치할 때에 기판의 만곡을 방지하는 것.
(해결 수단) 다이싱 링 (31) 에 붙인 점착 테이프 (32) 위에 사파이어 기판 (30) 을 유지한다. 분단 장치의 유리 테이블 (12) 위에 탄성 지지판 (40) 을 형성하고, 그 상방에 다이싱 링 (31) 을 고정시킨다. 롤러 (22) 를 사파이어 기판 (30) 에 갖다대고 상대적으로 이동시킴으로써 탄성 지지판 (40) 위에 밀착시킨다. 이어서 모니터 카메라로 스크라이브 라인을 확인하고 스크라이브 라인의 바로 위로부터 브레이크바를 하강시켜, 취성 재료 기판을 분리한다.(Problem) A brittle material substrate is held on a dicing ring to prevent curvature of the substrate when placed on a table.
(Solution) The sapphire substrate 30 is held on the adhesive tape 32 attached to the dicing ring 31. An elastic support plate 40 is formed on the glass table 12 of the division apparatus, and the dicing ring 31 is fixed to the elastic support plate 40 above the elastic support plate 40. The rollers 22 are brought into close contact with the sapphire substrate 30 and relatively moved so as to be brought into close contact with the elastic support plate 40. Then, the scribe line is checked with a monitor camera, and the brake bar is lowered from directly above the scribe line to separate the brittle material substrate.
Description
본 발명은 얇은 취성 재료 기판을 분단하기 위한 분단 방법 및 분단 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a dividing method and a dividing apparatus for dividing a thin brittle material substrate.
취성 재료 기판을 분단하는 경우에는, 예를 들어 특허문헌 1 에 나타나 있는 바와 같이, 취성 재료 기판에 미리 스크라이브 라인을 형성하고, 지지대 위에 다이싱 링을 개재하여 기판을 유지하고, 상부로부터 브레이크바를 스크라이브 라인의 바로 위로부터 가압함으로써 브레이크하도록 하고 있다.In the case of dividing the brittle material substrate, for example, as shown in
그런데 취성 재료 기판이 얇은 경우에는 기판의 주변 부분이 휘기 쉽다. 취성 재료 기판이 휘면, 하방으로부터 기판 위에 형성된 스크라이브 라인을 인식하는 경우에 모니터 카메라의 초점이 맞기 어려워, 정확하게 스크라이브 라인의 바로 위로부터 브레이크바를 눌러 분단하는 것이 어려워진다는 결점이 있었다.However, when the brittle material substrate is thin, the peripheral portion of the substrate is liable to bend. When the brittle material substrate is bent, it is difficult for the monitor camera to focus on the scribe line formed on the substrate from below, and it is difficult to precisely press the brake bar directly above the scribe line to separate.
특허문헌 2 에는 레이저광을 사용하여 반도체 웨이퍼 등의 기판을 분단하는 경우에, 그 단부가 상부로 만곡되어도 만곡을 교정하기 위해, 반도체 웨이퍼의 상부로부터 오목부의 공간 내에 공기를 유입하고, 가압하여 교정하도록 한 가공 장치가 제안되어 있다.
특허문헌 2 의 장치를 사용하여 취성 재료 기판을 분단하는 경우에는, 기판의 상부로부터 오목부의 공간 내로 공기를 유입하여 상부로부터 가압하기 때문에, 오목부를 기밀하게 해 둬야 하고, 공기를 유입시키는 펌프가 필요해, 구조가 복잡해진다는 문제점이 있었다.In the case of dividing the brittle material substrate using the apparatus of
본 발명은 이와 같은 문제점에 주목하여 이루어진 것으로, 만곡되기 쉬운 얇은 기판이어도 테이블 위에 기판을 밀착시켜, 정확하게 분단할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to allow a substrate to be closely contacted on a table even when a thin substrate is susceptible to bending, so that the substrate can be accurately divided.
이 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 취성 재료 기판의 분단 방법은, 프레임상체에 의해 유지된 점착 테이프 위에 스크라이브 라인이 형성된 취성 재료 기판을 점착시켜 유지하고, 투명한 테이블 위에 투명한 탄성 지지판을 일체로 유지하고, 상기 탄성 지지판 위에 상기 프레임상체와 함께 상기 취성 재료 기판을 유지하고, 상기 프레임상체 위에 유지한 취성 재료 기판의 상부로부터 롤러를 전동시킴으로써 상기 취성 재료 기판을 상기 탄성 지지판 위에 밀착시키고, 상기 탄성 지지판에 밀착시킨 상기 취성 재료 기판의 스크라이브 라인을 모니터 카메라로 검출하고, 상기 모니터 카메라로 검출된 스크라이브 라인을 따라 상기 취성 재료 기판의 상부로부터 브레이크바를 강하시킴으로써 스크라이브 라인을 따라 상기 취성 재료 기판을 분단하는 것이다.In order to solve this problem, in the method of breaking the brittle material substrate of the present invention, a brittle material substrate on which a scribe line is formed is adhered and held on an adhesive tape held by a frame body, and a transparent elastic support plate is integrally held Holding the brittle material substrate together with the frame body on the elastic support plate and bringing the brittle material substrate into close contact with the elastic support plate by rolling the rollers from above the brittle material substrate held on the frame body, Is detected by a monitor camera, and the brittle material substrate is divided along the scribe line by lowering the break bar from the upper portion of the brittle material substrate along the scribe line detected by the monitor camera .
이 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 분단 장치는, 취성 재료 기판의 분단에 사용되는 분단 장치로서, 점착 테이프 위에 스크라이브 라인이 형성된 취성 재료 기판을 유지한 프레임상체와, 투명 테이블과, 상기 테이블 위에 상기 프레임상체를 유지하는 투명한 탄성 지지판과, 상기 탄성 지지판에 유지된 상기 취성 재료 기판의 면에 대해 브레이크바를 수직으로 상하동시키는 승강 기구와, 상기 테이블의 상부에 유지되고, 상기 테이블의 면에 평행한 회전축을 갖는 자유롭게 회전할 수 있는 롤러와, 상기 브레이크바 및 상기 롤러에 대해 상기 테이블을 상대적으로 이동시키는 상대 이동 수단과, 상기 테이블의 하방으로부터 상기 취성 재료 기판에 형성된 스크라이브 라인을 검출하는 모니터 카메라를 구비하는 것이다.In order to solve this problem, a breaking apparatus of the present invention is a breaking apparatus used for breaking a brittle material substrate, comprising: a frame body holding a brittle material substrate having a scribe line formed on an adhesive tape; a transparent table; A lifting mechanism for lifting and lowering the brake bar vertically with respect to the surface of the brittle material substrate held by the elastic support plate; and a lifting mechanism which is held on the table and which is parallel to the surface of the table A relative moving means for relatively moving the table relative to the brake bars and the rollers and a monitor camera for detecting a scribe line formed on the brittle material substrate from below the table, Respectively.
이와 같은 특징을 갖는 본 발명에 의하면, 취성 재료 기판을 탄성 지지판 위에 유지하고, 만곡되기 쉬운 얇은 기판이어도 롤러로 가압함으로써 탄성 지지판에 밀착시키고 있다. 그 때문에 탄성 지지판 위에 밀착시킨 기판을 모니터 카메라로 확인함으로써 브레이크바의 위치 결정을 정확하게 실시할 수 있다. 스크라이브 라인을 따라 브레이크바를 눌러 브레이크함으로써 취성 재료 기판을 정확하게 분단할 수 있는 효과가 얻어진다.According to the present invention having such characteristics, the brittle material substrate is held on the elastic support plate, and even a thin bendable substrate is pressed against the elastic support plate by the roller. Therefore, the position of the brake bar can be precisely determined by confirming the substrate adhered on the elastic support plate with a monitor camera. An effect is obtained in which the brittle material substrate can be accurately divided by braking by pressing the brake bars along the scribe lines.
도 1 은 본 발명의 실시형태에 의한 분단 장치의 개략 사시도이다.
도 2 는 본 발명의 실시형태에 의한 분단 장치의 개략 측면도이다.
도 3 은 유리 테이블과 그 상부에 유지되는 취성 재료 기판의 상세를 나타내는 사시도이다.
도 4 는 유리 테이블 위의 탄성 지지판 위에 다이싱 링을 사용하여 취성 재료 기판을 유지한 상태, 및 밀착시킨 상태를 나타내는 측면도이다.1 is a schematic perspective view of a breaking apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic side view of a breaking apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing details of a glass table and a brittle material substrate held on the glass table.
Fig. 4 is a side view showing a state in which a brittle material substrate is held by using a dicing ring on an elastic support plate on a glass table, and a state in which the brittle material substrate is in close contact;
다음으로 이 실시형태의 취성 재료 기판의 분단에 사용되는 분단 장치 (10) 의 개략에 대하여 설명한다. 도 1 은 본 발명의 실시형태에 의한 분단 장치의 개략 사시도, 도 2 는 그 개략 측면도이다. 분단 장치 (10) 는, 베이스 (11) 위에 y 축의 정 (正) 또는 부 (負) 방향으로 이동하는 것이 가능한 투명한 유리 테이블 (12) 을 갖고 있다. 유리 테이블 (12) 의 하방에는 유리 테이블 (12) 을 그 면을 따라 y 축 방향으로 이동시키고, 또한 그 면을 따라 회전시키는 Y 축 이동 기구 (13) 가 형성되어 있다. 유리 테이블 (12) 의 상부에는 コ 자상의 프레임상 고정 부재 (14) 가 형성되고, 그 상부에는 서보 모터 (15) 가 유지되어 있다. 서보 모터 (15) 의 회전축에는 볼 나사 (16) 가 직결되고, 볼 나사 (16) 의 하단은, 수평 고정 부재 (17) 로 회전할 수 있도록 지지되어 있다. 상이동 부재 (18) 는 중앙부에 볼 나사 (16) 에 나사 결합하는 암나사 (19) 를 구비하고, 그 양단부로부터 하방을 향하여 지지축 (20a, 20b) 을 구비하고 있다. 지지축 (20a, 20b) 은 수평 고정 부재 (17) 의 한 쌍의 관통공을 관통하여 하이동 부재 (21) 에 연결되어 있다. 하이동 부재 (21) 의 하면에는 후술하는 브레이크바 (24) 가 유리 테이블 (12) 의 면에 자유롭게 승강할 수 있도록 장착되어 있다. 이렇게 하면 서보 모터 (15) 에 의해 볼 나사 (16) 를 회전시킨 경우, 상이동 부재 (18) 와 하이동 부재 (21) 가 일체가 되어 상하동하고, 브레이크바도 동시에 상하동하게 된다. 또 프레임상 고정 부재 (14) 의 내측의 하방에는, 롤러 (22) 가 자유롭게 회전할 수 있도록 형성되어 있다. 롤러 (22) 의 회전축은 유리 테이블 (12) 의 면에 평행하게 한다. 또 회전축체가 일정 범위에서 평행하게 상하동하여 하방향의 탄성력이 가해지도록, 회전축체를 스프링으로 유지하여, 자유롭게 상하동할 수 있도록 해두는 것이 바람직하다. 여기서 Y 축 이동 기구 (13) 는 유리 테이블 (12) 을 브레이크바와 롤러 (22) 에 대해 상대적으로 이동시키는 상대 이동 수단을 구성하고 있고, 프레임상 고정 부재 (14), 서보 모터 (15), 수평 고정 부재 (17), 및 상하의 이동 부재 (18, 21) 는, 브레이크바를 승강시키는 승강 기구를 구성하고 있다.Next, a description will be given of the outline of the dividing
도 2 는 분단 장치 (10) 의 일부를 나타내는 측면도이다. 본 도면에 나타내는 바와 같이 베이스 (11) 의 상부에 유리 테이블 (12) 이 형성된다. 그리고 베이스 (11) 의 내부에는 유리 테이블 (12) 상에 재치 (載置) 되는 취성 재료 기판의 스크라이브 라인을 인식하기 위한 모니터 카메라 (23) 가 형성되어 있다. 또 하이동 부재 (21) 에 장착되는 브레이크바 (24) 는 가늘고 긴 평판으로 선단의 단면이 V 자상인 금속제의 부재이며, 취성 재료 기판을 가압하여 분단하는 것에 사용된다.Fig. 2 is a side view showing a part of the
도 3 은 유리 테이블 (12) 과, 그 상부에 유지되는 취성 재료 기판의 상세를 나타내는 사시도이다. 본 실시형태에서는, 분단의 대상이 되는 취성 재료 기판을 사파이어 기판 (30) 으로 하고, 이 기판을 유지하기 위해, 반도체 웨이퍼를 칩으로 분리할 때에 사용되는 원환의 프레임상체인 다이싱 링 (31) 을 사용하고 있다. 도시하는 바와 같이, 다이싱 링 (31) 의 내측에는 상방향으로 점착재를 갖는 점착 테이프 (32) 가 첩부되어 있다. 이 점착 테이프 (32) 는 염화비닐 등의 기재의 층과, 그 상면에 점착재의 층을 갖는 2 층 구조의 테이프이다. 기재층은 예를 들어 두께를 80 ㎛, 점착재의 층은 20 ㎛ 로 하고, 합하여 100 ㎛ 의 두께로 한다. 그리고 이 점착 테이프 (32) 의 상면 중앙에는 분단의 대상이 되는 사파이어 기판 (30) 이 첩부되어 있다. 본 실시형태에서는 사파이어 기판 (30) 은 0.05 ∼ 1 ㎜ 의 두께, 여기서는 예를 들어 0.1 ㎜ 두께의 기판으로 한다. 이 사파이어 기판 (30) 에는 예를 들어 가로 세로 1 ㎜ 의 에피택셜막 등의 IC 회로가 매트릭스상으로 형성되어 있고, 각 회로를 분리하기 위해 사파이어 기판 (30) 을 1 × 1 ㎜ 사방의 다수의 정방형의 칩이 되도록 고정밀도로 분단하는 것으로 한다. 사파이어 기판 (30) 의 상면에는 미리 격자상으로 스크라이브 라인이 형성되어 있다. 사파이어 기판 (30) 의 상면에는 사파이어 기판 (30) 을 보호하기 위한 투명한 보호 필름 (33) 이 첩부되어 있다.3 is a perspective view showing details of the glass table 12 and the brittle material substrate held on the glass table 12. In this embodiment, the brittle material substrate to be divided is a
본 실시형태에서는, 사파이어 기판 (30) 을 파단할 때에 투명한 탄성 지지판 (40) 을 사용한다. 탄성 지지판 (40) 은 도 3 에 사시도를 나타내는 바와 같이 투명한 실리콘 고무 등의 탄성을 갖는 예를 들어 원형의 평판으로, 유리 테이블 (12) 과 동일하거나 보다 작은 것으로 한다. 또 탄성 지지판 (40) 의 상부에는, 분단시에 사파이어 기판 (30) 의 미끄러짐을 양호하게 하고, 탄성 지지판 (40) 의 표면을 보호하기 위해 탄성 지지판 (40) 과 동일 형상의 투명 필름 (41) 이 일체로 형성되어 있다. 필름 (41) 의 소재로는 PET 가 바람직하게 사용된다.In this embodiment, a transparent
다음으로 사파이어 기판 (30) 의 분단 방법에 대하여 설명한다. 먼저 전술한 분단 장치 (10) 의 유리 테이블 (12) 위에는, 도 4(a) 에 나타내는 바와 같이 필름 (41) 이 상면에 고정된 탄성 지지판 (40) 을 재치한다. 그리고 유리 테이블 (12) 위에는, 탄성 지지판 (40) 의 상부에 사파이어 기판 (30) 이 위치하도록 다이싱 링 (31) 을 반전시켜 배치한다. 이 때 얇은 사파이어 기판 (30) 은 약간 위로 볼록해지도록 만곡되어 있는 것으로 한다. 따라서 보호 필름 (33) 과 필름 (41) 사이에는 약간의 공극이 존재한다.Next, a method of dividing the
다음으로 도 4(b) 에 나타내는 바와 같이 롤러 (22) 를 점착 테이프 (32) 의 상면에 접촉시키고, 유리 테이블 (12) 을 이동시킴으로써, 사파이어 기판 (30) 을 롤러 (22) 에 의해 탄성 지지판 (40) 위에 누르다. 그렇게 하면 도 4(c) 에 나타내는 바와 같이 보호 필름 (33), 필름 (41) 사이의 공극의 공기를 압출하여, 사파이어 기판 (30) 의 모든 부분을 탄성 지지판 (40) 및 유리 테이블 (12) 에 밀착시킬 수 있다.Next, as shown in Fig. 4 (b), the
이렇게 하면 사파이어 기판 (30) 이 만곡되어 있어도 보호 필름 (33) 의 하면이 흡착되기 때문에, 도 2 에 나타내는 바와 같이 모니터 카메라 (23) 로부터 사파이어 기판 (30) 을 모니터했을 때에 초점을 맞출 수 있다. 따라서 사파이어 기판 (30) 의 모든 부분에서 스크라이브 라인을 모니터 카메라 (23) 로 정확하게 인식할 수 있다.Even if the
다음으로 브레이크바 (24) 의 바로 아래에 사파이어 기판 (30) 이 위치하도록 Y 축 이동 기구 (13) 에 의해 유리 테이블 (12) 을 이동시킨다. 이 때 유리 테이블 (12) 과 탄성 지지판 (40) 이 투명하기 때문에, 스크라이브 라인이 정확하게 브레이크바 (24) 의 하방에 위치하도록 사파이어 기판 (30) 을 이동시킬 수 있다.Next, the glass table 12 is moved by the Y-axis moving mechanism 13 so that the
다음으로 서보 모터 (15) 를 구동시켜, 상이동 부재 (18) 와 하이동 부재 (21) 를 동시에 저하시켜 브레이크바 (24) 를 유리 테이블 (12) 에 대해 수직으로 유지하면서 서서히 강하시킨다. 이렇게 하면 사파이어 기판 (30) 이 브레이크바 (24) 에 눌려 변형되고, 가라앉아 탄성 지지판 (40) 이 V 자상으로 약간 변형되고, 스크라이브 라인을 따라 균열이 상방으로 신전 (伸展) 되어 가게 된다. 그리고 브레이크바 (24) 를 충분히 강하시킴으로써, 사파이어 기판 (30) 내의 균열이 신전되어 분단이 완료되게 된다. 분단이 완료되면, 서보 모터 (15) 를 역전시켜 브레이크바 (24) 를 상승시킨다.Next, the
다음으로 Y 축 이동 기구 (13) 에 의해 소정의 피치로 유리 테이블 (12) 을 y 축 방향으로 약간 이동시킨 후, 브레이크바 (24) 를 다시 강하시키고, 동일하게 하여 분단을 반복한다. 그리고 어느 방향에서 모든 분단을 끝낸 후, Y 축 이동 기구 (13) 에 의해 유리 테이블 (12) 을 90 °회전시킨다. 이 때 롤러 (22) 를 사용하여 사파이어 기판 (30) 을 다시 탄성 지지판 (40) 에 압접해도 된다. 그리고 브레이크바 (24) 를 강하시켜, 사파이어 기판 (30) 을 분단한다. 그리고 유리 테이블 (12) 을 y 축 방향으로 브레이크 라인의 피치분만큼 이동시키고, 동일하게 하여 브레이크바 (24) 를 강하시킨다. 이렇게 하면 전체면의 분단이 완료되고, 격자상으로 사파이어 기판 (30) 을 분단할 수 있다.Next, after the glass table 12 is slightly moved in the y-axis direction at a predetermined pitch by the Y-axis moving mechanism 13, the breaking
또한 이 실시형태에서는, 분단의 대상이 되는 취성 재료 기판을 사파이어 기판으로서 설명하고 있지만, 다른 취성 재료 기판이어도 동일하게 본 발명을 적용할 수 있다.In this embodiment, the brittle material substrate to be divided is described as a sapphire substrate, but the present invention can be applied to other brittle material substrates as well.
또한 실시형태에서는, 취성 재료 기판을 프레임상의 다이싱 링에 붙인 점착 테이프 위에 유지하도록 하고 있지만, 프레임상체이면 충분하므로, 다이싱 링에 한정되는 것은 아니다.Further, in the embodiment, the brittle material substrate is held on the adhesive tape attached to the dicing ring on the frame, but it is sufficient that the frame body is not limited to the dicing ring.
본 발명은 분단 장치를 사용하여 취성 재료 기판을 정확하게 분단할 수 있기 때문에, 취성 재료 기판을 정밀하게 분단하는 분단 장치에 바람직하다.The present invention is preferable for a dividing apparatus for precisely dividing a brittle material substrate because the brittle material substrate can be accurately divided using the dividing apparatus.
10 : 분단 장치
11 : 베이스
12 : 유리 테이블
13 : Y 축 이동 기구
14 : 프레임상 고정 부재
15 : 서보 모터
17 : 수평 고정 부재
18 : 상이동 부재
21 : 하이동 부재
22 : 롤러
23 : 모니터 카메라
24 : 브레이크바
30 : 사파이어 기판
31 : 다이싱 링
32 : 점착 테이프
33 : 보호 필름
40 : 탄성 지지판
41 : 필름10: Separation device
11: Base
12: Glass table
13: Y-axis moving mechanism
14: Frame-like fastening member
15: Servo motor
17: Horizontal fixing member
18:
21: Lower movable member
22: Rollers
23: Monitor camera
24: Brake bar
30: sapphire substrate
31: Dicing ring
32: Adhesive tape
33: Protective film
40: elastic support plate
41: Film
Claims (2)
투명한 테이블 위에 투명한 탄성 지지판을 일체로 유지하고,
상기 탄성 지지판 위에 상기 프레임상체와 함께 상기 취성 재료 기판을 유지하고,
상기 프레임상체 위에 유지한 취성 재료 기판의 상부로부터 롤러를 전동시킴으로써 상기 취성 재료 기판을 상기 탄성 지지판 위에 밀착시키고,
상기 탄성 지지판에 밀착시킨 상기 취성 재료 기판의 스크라이브 라인을 모니터 카메라로 검출하고,
상기 모니터 카메라로 검출된 스크라이브 라인을 따라 상기 취성 재료 기판의 상부로부터 브레이크바를 강하시킴으로써 스크라이브 라인을 따라 상기 취성 재료 기판을 분단하는 취성 재료 기판의 분단 방법.A brittle material substrate on which a scribe line is formed is adhered and held on an adhesive tape held by a frame body,
A transparent elastic support plate is integrally held on a transparent table,
Holding the brittle material substrate together with the frame body on the elastic support plate,
The brittle material substrate is brought into close contact with the elastic support plate by rolling the rollers from above the brittle material substrate held on the frame body,
A scribe line of the brittle material substrate adhered to the elastic support plate is detected by a monitor camera,
And separating the brittle material substrate along a scribe line by lowering the break bar from the top of the brittle material substrate along a scribe line detected by the monitor camera.
점착 테이프 위에 스크라이브 라인이 형성된 취성 재료 기판을 유지한 프레임상체와,
투명한 테이블과,
상기 테이블 위에 상기 프레임상체를 유지하는 투명한 탄성 지지판과,
상기 탄성 지지판에 유지된 상기 취성 재료 기판의 면에 대해 브레이크바를 수직으로 상하동시키는 승강 기구와,
상기 테이블의 상부에 유지되고, 상기 테이블의 면에 평행한 회전축을 갖는 자유롭게 회전할 수 있는 롤러와,
상기 브레이크바 및 상기 롤러에 대해 상기 테이블을 상대적으로 이동시키는 상대 이동 수단과,
상기 테이블의 하방으로부터 상기 취성 재료 기판에 형성된 스크라이브 라인을 검출하는 모니터 카메라를 구비하는 분단 장치.A breaking apparatus used for breaking a brittle material substrate,
A frame body holding a brittle material substrate having scribe lines formed on an adhesive tape,
Transparent table,
A transparent elastic support plate for holding the frame body on the table,
A lifting mechanism vertically lifting and lowering the brake bar against the surface of the brittle material substrate held by the elastic support plate;
A freely rotatable roller held on top of the table and having a rotation axis parallel to the plane of the table,
Relative movement means for relatively moving the table with respect to the brake bar and the roller,
And a monitor camera which detects a scribe line formed on the brittle material substrate from below the table.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2016-231163 | 2016-11-29 | ||
JP2016231163A JP7020660B2 (en) | 2016-11-29 | 2016-11-29 | Brittle material Substrate fragmentation method and fragmentation device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180061024A true KR20180061024A (en) | 2018-06-07 |
KR102451845B1 KR102451845B1 (en) | 2022-10-07 |
Family
ID=62228620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170159226A Active KR102451845B1 (en) | 2016-11-29 | 2017-11-27 | Method for dividing brittle material substrate and dividing device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7020660B2 (en) |
KR (1) | KR102451845B1 (en) |
CN (1) | CN108115853B (en) |
SG (1) | SG10201709740TA (en) |
TW (1) | TWI735699B (en) |
Families Citing this family (4)
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---|---|
CN108115853B (en) | 2021-05-04 |
TW201820440A (en) | 2018-06-01 |
KR102451845B1 (en) | 2022-10-07 |
JP7020660B2 (en) | 2022-02-16 |
SG10201709740TA (en) | 2018-06-28 |
CN108115853A (en) | 2018-06-05 |
TWI735699B (en) | 2021-08-11 |
JP2018086784A (en) | 2018-06-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20171127 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20201015 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20171127 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20220405 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20220713 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20221004 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20221004 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |