JP2011168363A - Substrate carrying device and substrate carrying method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To stably carry a substrate, without increasing the contact area with the substrate of rollers, by using a plurality of rollers. <P>SOLUTION: The substrate 1 is mounted on a plurality of first rollers 20 arranged at a predetermined interval in the substrate moving direction, and the plurality of first rollers 20 are rotated, and while moving the substrate 1 in the substrate moving direction, an under surface of the substrate 1 moved by the plurality of first rollers 20 is supported by a plurality of second rollers 10, and the plurality of second rollers 10 are moved in the substrate moving direction together with the substrate 1 moved by the plurality of first rollers 20. Deformation of the substrate 1 caused between the first rollers is restrained by the second rollers, and the substrate 1 is stably carried without increasing the contact area with the substrate 1 of the rollers by joining the first rollers and the second rollers together. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の搬送を行う基板搬送装置及び基板搬送方法に係り、特に、基板移動方向に所定の間隔で設けられた複数のローラを備え、基板を複数のローラに搭載して移動する基板搬送装置及び基板搬送方法に関する。   The present invention relates to a substrate transport apparatus and a substrate transport method for transporting a substrate in the manufacture of a display panel substrate such as a liquid crystal display device, and in particular, includes a plurality of rollers provided at predetermined intervals in the substrate moving direction. The present invention relates to a substrate transfer apparatus and a substrate transfer method for moving a substrate mounted on a plurality of rollers.

表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のTFT(Thin Film Transistor)基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機EL(Electroluminescence)表示パネル用基板等の製造工程では、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成するため、基板の露光、現像、エッチング、剥離等の処理が行われる。また、現像、エッチング、剥離等の薬液処理の前又は後には、純水等の洗浄液を用いた基板の洗浄、及び洗浄後の基板の乾燥が行われる。これらの一連の処理を行うため、基板搬送装置により、基板が露光装置、基板処理装置、基板洗浄装置又は基板乾燥装置へ搬送される。   In the manufacturing process of a TFT (Thin Film Transistor) substrate, a color filter substrate, a plasma display panel substrate, an organic EL (Electroluminescence) display panel substrate, etc. of a liquid crystal display device used as a display panel, circuit patterns and colors are formed on the substrate. In order to form a filter or the like, processing such as exposure, development, etching, and peeling of the substrate is performed. In addition, before or after chemical processing such as development, etching, and peeling, the substrate is cleaned with a cleaning solution such as pure water, and the substrate after cleaning is dried. In order to perform these series of processes, the substrate is transferred to the exposure apparatus, the substrate processing apparatus, the substrate cleaning apparatus, or the substrate drying apparatus by the substrate transfer apparatus.

表示用パネル基板を搬送する基板搬送装置は、基板移動方向に所定の間隔で設けられた複数のローラを備え、基板を複数のローラに搭載して移動するものが一般的である。この様な基板の搬送装置として、特許文献1に記載のものがある。   A substrate transport apparatus that transports a display panel substrate generally includes a plurality of rollers provided at predetermined intervals in the substrate moving direction, and the substrate is mounted on the plurality of rollers to move. There exists a thing of patent document 1 as such a board | substrate conveyance apparatus.

特開平10−265018号公報JP-A-10-265018

近年の表示用パネルの大画面化に伴い、基板のサイズは、大型化及び薄型化している。そのため、基板搬送装置により基板を搬送する際、所定の間隔で設けられたローラ間で、基板の自重による変形が生じ、基板に余分なストレスが掛かり、また基板の先端が次のローラに乗らずに基板が落下する恐れが出てきた。これを避けるためには、ローラの間隔を狭くする必要があるが、ローラの間隔を狭くすると、ローラの数が増えてローラの基板への接触面積が増加し、ローラに付いた塵等の異物が基板の下面に付着する機会が増えるという問題があった。   With the recent increase in the screen size of display panels, the size of the substrate has become larger and thinner. Therefore, when the substrate is transferred by the substrate transfer device, the substrate is deformed due to its own weight between the rollers provided at a predetermined interval, the substrate is subjected to excessive stress, and the tip of the substrate does not get on the next roller. There was a risk that the board would fall. In order to avoid this, it is necessary to reduce the distance between the rollers. However, if the distance between the rollers is reduced, the number of rollers increases and the contact area of the rollers with the substrate increases. There has been a problem that the number of opportunities to adhere to the lower surface of the substrate increases.

また、表示用パネルの多品種化に伴って、基板のサイズも多様化し、サイズが大幅に異なる基板を搬送する際は、ローラの間隔を変更する必要がある。ローラの間隔を変更する手間を省くため、始めからローラの間隔を狭くすると、上述の様に、塵等の異物が基板の下面に付着する機会が増えるという問題があった。   In addition, as the number of display panels is increased, the sizes of the substrates are diversified. When transporting substrates having significantly different sizes, it is necessary to change the roller interval. If the distance between the rollers is narrowed from the beginning in order to save the trouble of changing the distance between the rollers, there has been a problem that, as described above, there is an increased chance that foreign matters such as dust adhere to the lower surface of the substrate.

本発明の課題は、複数のローラを用い、ローラの基板への接触面積を増加させることなく、基板の搬送を安定して行うことである。また、本発明の課題は、複数のローラを用い、ローラの間隔を変更することなく、異なったサイズの基板の搬送を安定して行うことである。   An object of the present invention is to use a plurality of rollers and stably carry a substrate without increasing the contact area of the rollers with the substrate. Another object of the present invention is to use a plurality of rollers and stably carry substrates of different sizes without changing the interval between the rollers.

本発明の基板搬送装置は、基板移動方向に所定の間隔で設けられ、基板を搭載しながら回転して、基板を基板移動方向へ移動する複数の第1のローラと、複数の第1のローラにより移動される基板の下面を支持する複数の第2のローラと、複数の第2のローラを、複数の第1のローラにより移動される基板と共に基板移動方向へ移動する移動手段とを備えたものである。   The substrate transfer device of the present invention is provided at predetermined intervals in the substrate movement direction, and rotates while mounting the substrate to move the substrate in the substrate movement direction, and the plurality of first rollers. And a plurality of second rollers for supporting the lower surface of the substrate moved by the plurality of second rollers, and a moving means for moving the plurality of second rollers together with the substrate moved by the plurality of first rollers in the substrate moving direction. Is.

また、本発明の基板搬送方法は、基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の第1のローラに基板を搭載し、複数の第1のローラを回転して、基板を基板移動方向へ移動しながら、複数の第1のローラにより移動される基板の下面を、複数の第2のローラで支持し、複数の第2のローラを、複数の第1のローラにより移動される基板と共に基板移動方向へ移動するものである。   In the substrate transport method of the present invention, the substrate is mounted on a plurality of first rollers provided at predetermined intervals in the substrate movement direction, and the plurality of first rollers are rotated to move the substrate in the substrate movement direction. However, the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers is supported by the plurality of second rollers, and the plurality of second rollers are moved together with the substrate moved by the plurality of first rollers. It moves in the direction.

複数の第1のローラにより移動される基板の下面を、複数の第2のローラで支持し、複数の第2のローラを、複数の第1のローラにより移動される基板と共に基板移動方向へ移動するので、第1のローラ間で発生する基板の変形が、第2のローラにより抑制される。従って、第1のローラ及び第2のローラを合わせたローラの基板への接触面積を増加させることなく、基板の搬送が安定して行われる。また、基板のサイズが異なっても、第1のローラの間隔を変更することなく、異なったサイズの基板の搬送が安定して行われる。   The lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers is supported by the plurality of second rollers, and the plurality of second rollers are moved in the substrate moving direction together with the substrate moved by the plurality of first rollers. Therefore, the deformation of the substrate that occurs between the first rollers is suppressed by the second roller. Accordingly, the substrate can be transported stably without increasing the contact area of the combined roller of the first roller and the second roller to the substrate. Even if the substrate sizes are different, the substrates of different sizes can be stably conveyed without changing the interval between the first rollers.

さらに、本発明の基板搬送装置は、複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、上向きに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを備え、移動手段が、複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動するものである。また、本発明の基板搬送方法は、複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、上向きに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを設け、複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動するものである。エアノイズから基板の下面に対して上向きに吹き付けた圧縮空気により、第1のローラ間で発生する基板の変形がさらに抑制され、基板の搬送がさらに安定して行われる。   Furthermore, the substrate transport apparatus of the present invention includes a plurality of air nozzles that blow compressed air upward on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers, and the moving means includes the plurality of air nozzles. It moves with 2 rollers. In the substrate transport method of the present invention, a plurality of air nozzles for blowing compressed air upward are provided on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers, and the plurality of air nozzles are connected to the plurality of second rollers. It moves together. The compressed air blown upward from the air noise onto the lower surface of the substrate further suppresses the deformation of the substrate that occurs between the first rollers, thereby further stably transporting the substrate.

あるいは、本発明の基板搬送装置は、複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、基板移動方向へ斜めに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを備え、移動手段が、複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動するものである。また、本発明の基板搬送方法は、複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、基板移動方向へ斜めに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを設け、複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動するものである。エアノイズから基板の下面に対して基板移動方向へ斜めに吹き付けた圧縮空気により、第1のローラ間で発生する基板の変形がさらに抑制されると共に、第1のローラによる基板の移動が助勢されるので、第1のローラの回転力を上げることなく、大型の基板の搬送が安定して行われる。   Alternatively, the substrate transport apparatus of the present invention includes a plurality of air nozzles that spray compressed air obliquely in the substrate moving direction on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers, and the moving means includes the plurality of air nozzles. And move together with the plurality of second rollers. Further, the substrate transport method of the present invention is provided with a plurality of air nozzles for blowing compressed air obliquely in the substrate moving direction on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers, and the plurality of air nozzles are connected to the plurality of first nozzles. It moves with 2 rollers. The compressed air blown obliquely from the air noise to the lower surface of the substrate in the substrate moving direction further suppresses the deformation of the substrate that occurs between the first rollers, and assists the movement of the substrate by the first roller. Therefore, the large substrate can be stably conveyed without increasing the rotational force of the first roller.

さらに、本発明の基板搬送装置は、複数の第1のローラの回転軸が基板の幅に渡って設けられ、移動手段により基板移動方向へ移動される複数の第2のローラを、複数の第1のローラの回転軸の前後で下降及び上昇させる昇降手段を備えたものである。また、本発明の基板搬送方法は、複数の第1のローラの回転軸を基板の幅に渡って設け、基板移動方向へ移動する複数の第2のローラを、複数の第1のローラの回転軸の前後で下降及び上昇させるものである。複数の第1のローラの回転軸を基板の幅に渡って設ける場合、基板移動方向へ移動する複数の第2のローラを、複数の第1のローラの回転軸の前後で下降及び上昇させることにより、第2のローラを、基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の第1のローラに渡って、第1のローラの回転軸に接触させることなく、基板移動方向へ移動することができる。   Furthermore, the substrate transport apparatus according to the present invention includes a plurality of second rollers, in which the rotation shafts of the plurality of first rollers are provided across the width of the substrate, and are moved in the substrate moving direction by the moving means. Elevating means for lowering and raising before and after the rotating shaft of one roller is provided. In the substrate transport method of the present invention, the rotation shafts of the plurality of first rollers are provided across the width of the substrate, and the plurality of second rollers that move in the substrate movement direction are rotated by the plurality of first rollers. It is lowered and raised before and after the shaft. When the rotation shafts of the plurality of first rollers are provided across the width of the substrate, the plurality of second rollers moving in the substrate moving direction are lowered and raised before and after the rotation shafts of the plurality of first rollers. Thus, the second roller can be moved in the substrate movement direction over the plurality of first rollers provided at predetermined intervals in the substrate movement direction without contacting the rotation shaft of the first roller. .

本発明の基板搬送装置及び基板搬送方法によれば、基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の第1のローラに基板を搭載し、複数の第1のローラを回転して、基板を基板移動方向へ移動しながら、複数の第1のローラにより移動される基板の下面を、複数の第2のローラで支持し、複数の第2のローラを、複数の第1のローラにより移動される基板と共に基板移動方向へ移動することにより、第1のローラ間で発生する基板の変形を、第2のローラにより抑制することができる。従って、第1のローラ及び第2のローラを合わせたローラの基板への接触面積を増加させることなく、基板の搬送を安定して行うことができる。また、基板のサイズが異なっても、第1のローラの間隔を変更することなく、異なったサイズの基板の搬送を安定して行うことができる。   According to the substrate transfer apparatus and the substrate transfer method of the present invention, the substrate is mounted on the plurality of first rollers provided at predetermined intervals in the substrate moving direction, and the plurality of first rollers are rotated to place the substrate on the substrate. While moving in the moving direction, the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers is supported by the plurality of second rollers, and the plurality of second rollers are moved by the plurality of first rollers. By moving in the substrate moving direction together with the substrate, the deformation of the substrate occurring between the first rollers can be suppressed by the second roller. Therefore, the substrate can be stably conveyed without increasing the contact area of the roller including the first roller and the second roller to the substrate. Further, even when the substrate sizes are different, it is possible to stably carry substrates of different sizes without changing the interval between the first rollers.

さらに、本発明の基板搬送装置及び基板搬送方法によれば、複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、上向きに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを設け、複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動することにより、第1のローラ間で発生する基板の変形をさらに抑制することができるので、基板の搬送をさらに安定して行うことができる。   Furthermore, according to the substrate transport apparatus and the substrate transport method of the present invention, a plurality of air nozzles for blowing compressed air upward are provided on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers, and a plurality of air nozzles are provided. By moving together with the second roller, the deformation of the substrate that occurs between the first rollers can be further suppressed, so that the substrate can be transported more stably.

あるいは、本発明の基板搬送装置及び基板搬送方法によれば、複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、基板移動方向へ斜めに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを設け、複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動することにより、第1のローラ間で発生する基板の変形をさらに抑制することができると共に、第1のローラによる基板の移動を助勢することができるので、第1のローラの回転力を上げることなく、大型の基板の搬送を安定して行うことができる。   Alternatively, according to the substrate transport apparatus and the substrate transport method of the present invention, a plurality of air nozzles for blowing compressed air obliquely in the substrate moving direction are provided on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers, and a plurality of air nozzles are provided. By moving the air nozzle together with the plurality of second rollers, it is possible to further suppress the deformation of the substrate that occurs between the first rollers, and to assist the movement of the substrate by the first roller. Therefore, the large substrate can be stably conveyed without increasing the rotational force of the first roller.

さらに、本発明の基板搬送装置及び基板搬送方法によれば、複数の第1のローラの回転軸を基板の幅に渡って設け、基板移動方向へ移動する複数の第2のローラを、複数の第1のローラの回転軸の前後で下降及び上昇させることにより、第2のローラを、基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の第1のローラに渡って、第1のローラの回転軸に接触させることなく、基板移動方向へ移動することができる。   Furthermore, according to the substrate transport apparatus and the substrate transport method of the present invention, the rotation shafts of the plurality of first rollers are provided across the width of the substrate, and the plurality of second rollers that move in the substrate movement direction are provided with the plurality of second rollers. The second roller is moved up and down before and after the rotation axis of the first roller, so that the second roller moves across the plurality of first rollers provided at predetermined intervals in the substrate movement direction. The substrate can be moved in the direction of movement without contacting the substrate.

図1(a)は本発明の一実施の形態による基板搬送装置の上面図、図1(b)は図1(a)のA−A部の一部断面側面図である。FIG. 1A is a top view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a partial cross-sectional side view of the AA portion of FIG. 図2(a)は図1に示した基板搬送装置が基板を移動した状態を示す上面図、図2(b)は図2(a)のA−A部の一部断面側面図である。2A is a top view illustrating a state in which the substrate transport apparatus illustrated in FIG. 1 has moved the substrate, and FIG. 2B is a partial cross-sectional side view of the AA portion in FIG. 図3(a)は本発明の他の実施の形態による基板搬送装置の上面図、図3(b)は図3(a)のB−B部の一部断面側面図である。FIG. 3A is a top view of a substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a partial cross-sectional side view of the BB portion of FIG. 図4(a)は図3に示した基板搬送装置が基板を移動した状態を示す上面図、図4(b)は図4(a)のB−B部の一部断面側面図である。4A is a top view showing a state in which the substrate transport apparatus shown in FIG. 3 has moved the substrate, and FIG. 4B is a partial cross-sectional side view of the section BB in FIG. 4A. 本発明のさらに他の実施の形態による基板搬送装置の昇降テーブルの側面図である。It is a side view of the raising / lowering table of the board | substrate conveyance apparatus by further another embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態による基板搬送装置の昇降テーブルの側面図である。It is a side view of the raising / lowering table of the board | substrate conveyance apparatus by further another embodiment of this invention. 図7(a)は本発明のさらに他の実施の形態による基板搬送装置の上面図、図7(b)は図7(a)のC−C部の一部断面側面図である。FIG. 7A is a top view of a substrate transfer apparatus according to still another embodiment of the present invention, and FIG. 7B is a partial cross-sectional side view of the CC section of FIG. 7A. 図7に示した基板搬送装置の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the board | substrate conveyance apparatus shown in FIG. 図7に示した基板搬送装置の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the board | substrate conveyance apparatus shown in FIG.

図1(a)は本発明の一実施の形態による基板搬送装置の上面図、図1(b)は図1(a)のA−A部の一部断面側面図である。基板搬送装置は、ベース2、支持板3、補助ローラ10、補助ローラ移動機構、送りローラ20、モータ21、軸継手22、プーリ23、ベルト24、及び位置決めローラ30を含んで構成されている。   FIG. 1A is a top view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a partial cross-sectional side view of the AA portion of FIG. The substrate transport apparatus includes a base 2, a support plate 3, an auxiliary roller 10, an auxiliary roller moving mechanism, a feed roller 20, a motor 21, a shaft joint 22, a pulley 23, a belt 24, and a positioning roller 30.

図1(a)において、ベース2には、基板移動方向と直交する方向に間隔を空けて、2枚の支持板3が取り付けられている。各支持板3には、複数の送りローラ20の回転軸が、回転可能に取り付けられている。複数の送りローラ20は、基板移動方向に所定の間隔で各支持板3に設置されており、各支持板3に設置された送りローラ20同士は、支持板3間で互いに向き合って配置されている。支持板3の外側において、各送りローラ20の回転軸には、プーリ23が取り付けられており、各プーリ23は、支持板3毎に、ベルト24により連結されている。支持板3毎に、1つの送りローラ20の回転軸が、軸継手22を介して、モータ21のシャフトに接続されており、モータ21の回転は、直接、またはプーリ23及びベルト24を介して、各送りローラ20の回転軸へ伝達される。基板1は、その幅方向の両脇が各支持板3に設置された複数の送りローラ20上に搭載され、送りローラ20の回転により、基板移動方向へ移動される。   In FIG. 1A, two support plates 3 are attached to the base 2 with an interval in a direction orthogonal to the substrate moving direction. Each support plate 3 is rotatably attached with the rotation shafts of a plurality of feed rollers 20. The plurality of feed rollers 20 are installed on each support plate 3 at a predetermined interval in the substrate moving direction, and the feed rollers 20 installed on each support plate 3 are arranged facing each other between the support plates 3. Yes. Outside the support plate 3, pulleys 23 are attached to the rotation shafts of the feed rollers 20, and each pulley 23 is connected to each support plate 3 by a belt 24. For each support plate 3, the rotation shaft of one feed roller 20 is connected to the shaft of the motor 21 via the shaft coupling 22, and the rotation of the motor 21 is directly or via the pulley 23 and the belt 24. , And transmitted to the rotation shaft of each feed roller 20. The substrate 1 is mounted on a plurality of feed rollers 20 installed on each support plate 3 on both sides in the width direction, and is moved in the substrate movement direction by the rotation of the feed roller 20.

図1(a),(b)において、各支持板3の上面には、複数の位置決めローラ30の回転軸が、回転可能に取り付けられている。複数の位置決めローラ30は、基板移動方向に所定の間隔で各支持板3に設置されており、各支持板3に設置された位置決めローラ30同士は、支持板3上で互いに向き合って配置されている。各位置決めローラ30は、図1(b)に示す様に、送りローラ20により移動される基板1の側面に接触して、基板1が基板移動方向に対して傾いた姿勢となるのを防止する。   1A and 1B, the rotation shafts of a plurality of positioning rollers 30 are rotatably attached to the upper surface of each support plate 3. The plurality of positioning rollers 30 are installed on each support plate 3 at a predetermined interval in the substrate moving direction, and the positioning rollers 30 installed on each support plate 3 are arranged facing each other on the support plate 3. Yes. As shown in FIG. 1B, each positioning roller 30 contacts the side surface of the substrate 1 moved by the feed roller 20 to prevent the substrate 1 from being inclined with respect to the substrate moving direction. .

補助ローラ移動機構は、ガイドレール4、移動テーブル5、ガイドシャフト6、昇降テーブル7、エアシリンダ8、支柱9、モータ11、軸継手12、軸受13、ボールねじ14a、ナット14b、及びセンサー15を含んで構成されている。図1(a),(b)において、ベース2の上面には、一対のガイドレール4が設けられており、ガイドレール4には、移動テーブル5が搭載されている。また、ベース2の側面には、モータ11が設置されており、モータ11のシャフトは、軸継手12によりボールねじ14aに接続されている。ボールねじ14aは、軸受13により、回転可能に支持されている。図1(b)において、移動テーブル5の下面には、ボールねじ14aにより移動されるナット14bが取り付けられている。モータ11を回転すると、ボールねじ14aによりナット14bが移動され、移動テーブル5がガイドレール4に沿って移動される。   The auxiliary roller moving mechanism includes a guide rail 4, a moving table 5, a guide shaft 6, a lifting table 7, an air cylinder 8, a support 9, a motor 11, a shaft coupling 12, a bearing 13, a ball screw 14a, a nut 14b, and a sensor 15. It is configured to include. 1A and 1B, a pair of guide rails 4 is provided on the upper surface of the base 2, and a moving table 5 is mounted on the guide rails 4. A motor 11 is installed on the side surface of the base 2, and a shaft of the motor 11 is connected to a ball screw 14 a by a shaft coupling 12. The ball screw 14 a is rotatably supported by the bearing 13. In FIG. 1B, a nut 14 b that is moved by a ball screw 14 a is attached to the lower surface of the moving table 5. When the motor 11 is rotated, the nut 14 b is moved by the ball screw 14 a, and the moving table 5 is moved along the guide rail 4.

図1(b)において、移動テーブル5の上面には、ガイドシャフト6及びエアシリンダ8が設置されている。エアシリンダ8のロッドの先端には、昇降テーブル7が搭載されており、昇降テーブル7は、エアシリンダ8により、ガイドシャフト6に沿って、上昇及び下降される。昇降テーブル7の上面には、複数の支柱9が取り付けられおり、各支柱9には、補助ローラ10の回転軸が回転可能に取り付けられている。複数の補助ローラ10は、送りローラ20により移動される基板1の下面を支持する。エアシリンダ8は、昇降テーブル7を上昇又は下降させて、補助ローラ10の高さを調節する。   In FIG. 1 (b), a guide shaft 6 and an air cylinder 8 are installed on the upper surface of the moving table 5. A lift table 7 is mounted on the tip of the rod of the air cylinder 8, and the lift table 7 is raised and lowered along the guide shaft 6 by the air cylinder 8. A plurality of support columns 9 are attached to the upper surface of the elevating table 7, and the rotation shaft of the auxiliary roller 10 is rotatably attached to each support column 9. The plurality of auxiliary rollers 10 support the lower surface of the substrate 1 moved by the feed roller 20. The air cylinder 8 raises or lowers the lifting table 7 to adjust the height of the auxiliary roller 10.

図1(a),(b)において、昇降テーブル7の基板移動方向側の側面には、センサー15が取り付けられている。センサー15は、投光系と受光系とを有し、投光系から射出した光が基板1で反射された反射光を受光系で受光して、基板1の基板移動方向側の端部を検出する。モータ11は、センサー15の検出結果に基づき、補助ローラ10が送りローラ20により移動される基板1と共に移動する様に、ボールねじ14aを回転させて、移動テーブル5を移動させる。   1A and 1B, a sensor 15 is attached to a side surface of the lifting table 7 on the substrate moving direction side. The sensor 15 has a light projecting system and a light receiving system. The light received from the light projecting system is reflected by the light receiving system, and the end of the substrate 1 on the substrate moving direction side is received. To detect. Based on the detection result of the sensor 15, the motor 11 rotates the ball screw 14 a and moves the moving table 5 so that the auxiliary roller 10 moves together with the substrate 1 moved by the feed roller 20.

図2(a)は図1に示した基板搬送装置が基板を移動した状態を示す上面図、図2(b)は図2(a)のA−A部の一部断面側面図である。複数の補助ローラ10は、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面を支持しながら、補助ローラ移動機構により、複数の送りローラ20により移動される基板1と共に基板移動方向へ移動される。基板1を図示しない露光装置、基板処理装置、基板洗浄装置又は基板乾燥装置へ搬送した後、モータ11は、ボールねじ14aを逆回転させて、移動テーブル5を元の位置へ戻す。   2A is a top view illustrating a state in which the substrate transport apparatus illustrated in FIG. 1 has moved the substrate, and FIG. 2B is a partial cross-sectional side view of the AA portion in FIG. The plurality of auxiliary rollers 10 are moved in the substrate moving direction together with the substrate 1 moved by the plurality of feeding rollers 20 by the auxiliary roller moving mechanism while supporting the lower surface of the substrate 1 moved by the plurality of feeding rollers 20. . After transporting the substrate 1 to an exposure apparatus, substrate processing apparatus, substrate cleaning apparatus or substrate drying apparatus (not shown), the motor 11 rotates the ball screw 14a in the reverse direction to return the moving table 5 to the original position.

図3(a)は本発明の他の実施の形態による基板搬送装置の上面図、図3(b)は図3(a)のB−B部の一部断面側面図である。本実施の形態は、補助ローラ移動機構において、図1に示したモータ11、軸継手12、軸受13、ボールねじ14a、及びナット14bの代わりに、モータ16、プーリ17、ベルト18、及び取り付け具19を用いたものである。その他の構成要素は、図1に示した実施の形態と同様である。   FIG. 3A is a top view of a substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a partial cross-sectional side view of the BB portion of FIG. In this embodiment, in the auxiliary roller moving mechanism, instead of the motor 11, the shaft coupling 12, the bearing 13, the ball screw 14a, and the nut 14b shown in FIG. 1, the motor 16, the pulley 17, the belt 18, and the fixture 19 is used. Other components are the same as those of the embodiment shown in FIG.

図3(b)において、ベース2の上面には、移動テーブル5を挟んで、2つのプーリ17が取り付けられている。2つのプーリ17は、ベルト18により連結されており、一方のプーリの回転軸は、ベース2の下面に設置されたモータ16のシャフトに接続されている。移動テーブル5の下面には、ベルト18に固定された取り付け具19が取り付けられている。モータ16を回転すると、プーリ17によりベルト18が移動されて、取り付け具19が移動され、移動テーブル5がガイドレール4に沿って移動される。   In FIG. 3B, two pulleys 17 are attached to the upper surface of the base 2 with the moving table 5 interposed therebetween. The two pulleys 17 are connected by a belt 18, and the rotating shaft of one pulley is connected to the shaft of the motor 16 installed on the lower surface of the base 2. A fixture 19 fixed to the belt 18 is attached to the lower surface of the moving table 5. When the motor 16 is rotated, the belt 18 is moved by the pulley 17, the attachment 19 is moved, and the moving table 5 is moved along the guide rail 4.

図3(a),(b)において、昇降テーブル7の基板移動方向側の側面には、センサー15が取り付けられている。センサー15は、投光系と受光系とを有し、投光系から射出した光が基板1で反射された反射光を受光系で受光して、基板1の基板移動方向側の端部を検出する。モータ16は、センサー15の検出結果に基づき、補助ローラ10が送りローラ20により移動される基板1と共に移動する様に、プーリ17を回転させて、移動テーブル5を移動させる。   3A and 3B, a sensor 15 is attached to the side surface of the lifting table 7 on the substrate moving direction side. The sensor 15 has a light projecting system and a light receiving system. The light received from the light projecting system is reflected by the light receiving system, and the end of the substrate 1 on the substrate moving direction side is received. To detect. Based on the detection result of the sensor 15, the motor 16 rotates the pulley 17 and moves the moving table 5 so that the auxiliary roller 10 moves together with the substrate 1 moved by the feed roller 20.

図4(a)は図3に示した基板搬送装置が基板を移動した状態を示す上面図、図4(b)は図4(a)のB−B部の一部断面側面図である。複数の補助ローラ10は、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面を支持しながら、補助ローラ移動機構により、複数の送りローラ20により移動される基板1と共に基板移動方向へ移動される。基板1を図示しない露光装置、基板処理装置、基板洗浄装置又は基板乾燥装置へ搬送した後、モータ16は、プーリ17を逆回転させて、移動テーブル5を元の位置へ戻す。   4A is a top view showing a state in which the substrate transport apparatus shown in FIG. 3 has moved the substrate, and FIG. 4B is a partial cross-sectional side view of the section BB in FIG. 4A. The plurality of auxiliary rollers 10 are moved in the substrate moving direction together with the substrate 1 moved by the plurality of feeding rollers 20 by the auxiliary roller moving mechanism while supporting the lower surface of the substrate 1 moved by the plurality of feeding rollers 20. . After transporting the substrate 1 to an exposure apparatus, substrate processing apparatus, substrate cleaning apparatus or substrate drying apparatus (not shown), the motor 16 rotates the pulley 17 in the reverse direction to return the moving table 5 to the original position.

複数の送りローラ20により移動される基板1の下面を、複数の補助ローラ10で支持し、複数の補助ローラ10を、複数の送りローラ20により移動される基板1と共に基板移動方向へ移動するので、送りローラ20間で発生する基板1の変形が、補助ローラ10により抑制される。従って、送りローラ20及び補助ローラ10を合わせたローラの基板1への接触面積を増加させることなく、基板1の搬送が安定して行われる。また、基板のサイズが異なっても、送りローラ20の間隔を変更することなく、異なったサイズの基板の搬送が安定して行われる。   Since the lower surface of the substrate 1 moved by the plurality of feed rollers 20 is supported by the plurality of auxiliary rollers 10, the plurality of auxiliary rollers 10 are moved in the substrate moving direction together with the substrate 1 moved by the plurality of feed rollers 20. The deformation of the substrate 1 that occurs between the feed rollers 20 is suppressed by the auxiliary roller 10. Therefore, the conveyance of the substrate 1 is stably performed without increasing the contact area of the roller including the feed roller 20 and the auxiliary roller 10 to the substrate 1. Even if the substrate sizes are different, the substrates of different sizes can be stably conveyed without changing the interval between the feed rollers 20.

図5は、本発明のさらに他の実施の形態による基板搬送装置の昇降テーブルの側面図である。本実施の形態は、図1又図3に示した基板搬送装置の昇降テーブルの上面に、複数のエアノズル40aを設けたものである。エアノズル40aは、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面に対し、上向きに圧縮空気を吹き付ける。エアノイズ40aから基板1の下面へ上向きに吹き付けた圧縮空気により、送りローラ20間で発生する基板1の変形がさらに抑制され、基板1の搬送がさらに安定して行われる。   FIG. 5 is a side view of a lifting table of a substrate transfer apparatus according to still another embodiment of the present invention. In the present embodiment, a plurality of air nozzles 40a are provided on the upper surface of the lifting table of the substrate transfer apparatus shown in FIG. 1 or FIG. The air nozzle 40 a blows compressed air upward on the lower surface of the substrate 1 moved by the plurality of feed rollers 20. The compressed air blown upward from the air noise 40a onto the lower surface of the substrate 1 further suppresses the deformation of the substrate 1 that occurs between the feed rollers 20, and the substrate 1 is transported more stably.

図6は、本発明のさらに他の実施の形態による基板搬送装置の昇降テーブルの側面図である。本実施の形態は、図1又図3に示した基板搬送装置の昇降テーブルの上面に、複数のエアノズル40bを設けたものである。エアノズル40bは、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面に対し、基板移動方向へ斜めに圧縮空気を吹き付ける。エアノイズ40bから基板1の下面に対して基板移動方向へ斜めに吹き付けた圧縮空気により、送りローラ20間で発生する基板1の変形がさらに抑制されると共に、送りローラ20による基板1の移動が助勢されるので、送りローラ20の回転力を上げることなく、大型の基板1の搬送が安定して行われる。   FIG. 6 is a side view of a lifting table of a substrate transfer apparatus according to still another embodiment of the present invention. In the present embodiment, a plurality of air nozzles 40b are provided on the upper surface of the lifting table of the substrate transfer apparatus shown in FIG. 1 or FIG. The air nozzle 40 b blows compressed air obliquely in the substrate moving direction against the lower surface of the substrate 1 that is moved by the plurality of feed rollers 20. The compressed air blown obliquely from the air noise 40b to the lower surface of the substrate 1 in the substrate movement direction further suppresses the deformation of the substrate 1 that occurs between the feed rollers 20, and assists the movement of the substrate 1 by the feed rollers 20. Therefore, the large substrate 1 can be stably conveyed without increasing the rotational force of the feed roller 20.

図7(a)は本発明のさらに他の実施の形態による基板搬送装置の上面図、図7(b)は図7(a)のC−C部の一部断面側面図である。本実施の形態は、図1に示した実施の形態において、送りローラ20の回転軸を基板1の幅に渡って設け、補助ローラ10の高さを調節するエアシリンダ8の代わりに、エアシリンダ8よりもストロークが長いエアシリンダ8’を設けたものである。その他の構成要素は、図1に示した実施の形態と同様である。   FIG. 7A is a top view of a substrate transfer apparatus according to still another embodiment of the present invention, and FIG. 7B is a partial cross-sectional side view of the CC section of FIG. 7A. In this embodiment, in the embodiment shown in FIG. 1, the rotation axis of the feed roller 20 is provided across the width of the substrate 1, and instead of the air cylinder 8 that adjusts the height of the auxiliary roller 10, an air cylinder is used. An air cylinder 8 ′ having a longer stroke than 8 is provided. Other components are the same as those of the embodiment shown in FIG.

図7(a)において、各支持板3には、複数の送りローラ20の回転軸の両端が、回転可能に取り付けられている。支持板3の外側において、各送りローラ20の回転軸には、プーリ23が取り付けられており、各プーリ23は、ベルト24により連結されている。1つの送りローラ20の回転軸が、軸継手22を介して、モータ21のシャフトに接続されており、モータ21の回転は、直接、またはプーリ23及びベルト24を介して、各送りローラ20の回転軸へ伝達される。基板1は、複数の送りローラ20上に搭載され、送りローラ20の回転により、基板移動方向へ移動される。   In FIG. 7A, both ends of the rotation shafts of the plurality of feed rollers 20 are rotatably attached to each support plate 3. Outside the support plate 3, pulleys 23 are attached to the rotation shafts of the feed rollers 20, and the pulleys 23 are connected by belts 24. The rotation shaft of one feed roller 20 is connected to the shaft of the motor 21 via a shaft coupling 22, and the rotation of the motor 21 is directly or via the pulley 23 and the belt 24. It is transmitted to the rotating shaft. The substrate 1 is mounted on a plurality of feed rollers 20 and is moved in the substrate moving direction by the rotation of the feed rollers 20.

図8及び図9は、図7に示した基板搬送装置の動作を説明する図である。図8(a),(b)に示す様に、複数の補助ローラ10は、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面を支持しながら、補助ローラ移動機構により、複数の送りローラ20により移動される基板1と共に基板移動方向へ移動される。図8(b)に示す様に、補助ローラ10が送りローラ20の回転軸に近づくと、エアシリンダ8’は、図8(c)に示す様に、昇降テーブル7を下降させて、補助ローラ10を送りローラ20の回転軸よりも低い位置へ下降させる。そして、図9(a)に示す様に、補助ローラ10が送りローラ20の回転軸の下を通り過ぎた後、エアシリンダ8’は、図9(b)に示す様に、昇降テーブル7を上昇させて、補助ローラ10を元の高さに戻す。補助ローラ10は、図9(b),(c)に示す様に、送りローラ20により移動される基板1の下面を再び支持しながら、補助ローラ移動機構により、送りローラ20により移動される基板1と共に基板移動方向へ移動される。   8 and 9 are diagrams for explaining the operation of the substrate transfer apparatus shown in FIG. As shown in FIGS. 8A and 8B, the plurality of auxiliary rollers 10 support the lower surface of the substrate 1 moved by the plurality of feeding rollers 20, and the plurality of feeding rollers 20 by the auxiliary roller moving mechanism. Is moved in the substrate moving direction together with the substrate 1 moved by the above. As shown in FIG. 8B, when the auxiliary roller 10 approaches the rotation axis of the feed roller 20, the air cylinder 8 ′ lowers the lifting table 7 as shown in FIG. 10 is lowered to a position lower than the rotational axis of the feed roller 20. Then, as shown in FIG. 9 (a), after the auxiliary roller 10 passes under the rotating shaft of the feed roller 20, the air cylinder 8 ′ lifts the lifting table 7 as shown in FIG. 9 (b). The auxiliary roller 10 is returned to the original height. As shown in FIGS. 9B and 9C, the auxiliary roller 10 supports the lower surface of the substrate 1 moved by the feed roller 20 again, and the substrate moved by the feed roller 20 by the auxiliary roller moving mechanism. 1 is moved in the substrate moving direction.

これらの動作を繰り返して、基板1を図示しない露光装置、基板処理装置、基板洗浄装置又は基板乾燥装置へ搬送した後、エアシリンダ8’は、昇降テーブル7を下降させて、補助ローラ10を送りローラ20の回転軸よりも低い位置へ下降させる。そして、モータ11が、ボールねじ14aを逆回転させて、移動テーブル5を元の位置へ戻した後、エアシリンダ8’は、昇降テーブル7を上昇させて、補助ローラ10を元の高さに戻す。   After repeating these operations and transporting the substrate 1 to an exposure apparatus, substrate processing apparatus, substrate cleaning apparatus or substrate drying apparatus (not shown), the air cylinder 8 ′ lowers the elevating table 7 and sends the auxiliary roller 10 to it. The roller 20 is lowered to a position lower than the rotation axis. Then, after the motor 11 reversely rotates the ball screw 14a and returns the moving table 5 to the original position, the air cylinder 8 ′ raises the lifting table 7 to bring the auxiliary roller 10 to the original height. return.

複数の送りローラ20の回転軸を基板1の幅に渡って設ける場合、基板移動方向へ移動する複数の補助ローラ10を、複数の送りローラ20の回転軸の前後で下降及び上昇させることにより、補助ローラ10を、基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の送りローラ20に渡って、送りローラ20の回転軸に接触させることなく、基板移動方向へ移動することができる。   When the rotation shafts of the plurality of feed rollers 20 are provided across the width of the substrate 1, the plurality of auxiliary rollers 10 moving in the substrate moving direction are lowered and raised before and after the rotation shafts of the plurality of feed rollers 20, The auxiliary roller 10 can be moved in the substrate movement direction without contacting the rotation shaft of the feed roller 20 across a plurality of feed rollers 20 provided at predetermined intervals in the substrate movement direction.

なお、図7に示した実施の形態の補助ローラ移動機構において、モータ11、軸継手12、軸受13、ボールねじ14a、及びナット14bの代わりに、図3に示したモータ16、プーリ17、ベルト18、及び取り付け具19を用いてもよい。また、昇降テーブル7に、図5に示したエアノズル40a、または図6に示したエアノズル40bを設けてもよい。   In the auxiliary roller moving mechanism of the embodiment shown in FIG. 7, the motor 16, the pulley 17, and the belt shown in FIG. 3 are used instead of the motor 11, the shaft coupling 12, the bearing 13, the ball screw 14a, and the nut 14b. 18 and attachment 19 may be used. Further, the lifting table 7 may be provided with the air nozzle 40a shown in FIG. 5 or the air nozzle 40b shown in FIG.

以上説明した実施の形態によれば、基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の送りローラ20に基板1を搭載し、複数の送りローラ20を回転して、基板1を基板移動方向へ移動しながら、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面を、複数の補助ローラ10で支持し、複数の補助ローラ10を、複数の送りローラ20により移動される基板1と共に基板移動方向へ移動することにより、送りローラ20間で発生する基板1の変形を、補助ローラ10により抑制することができる。従って、送りローラ20及び補助ローラ10を合わせたローラの基板1への接触面積を増加させることなく、基板1の搬送を安定して行うことができる。また、基板のサイズが異なっても、送りローラ20の間隔を変更することなく、異なったサイズの基板の搬送を安定して行うことができる。   According to the embodiment described above, the substrate 1 is mounted on the plurality of feed rollers 20 provided at predetermined intervals in the substrate movement direction, and the plurality of feed rollers 20 are rotated to move the substrate 1 in the substrate movement direction. Meanwhile, the lower surface of the substrate 1 moved by the plurality of feed rollers 20 is supported by the plurality of auxiliary rollers 10, and the plurality of auxiliary rollers 10 together with the substrate 1 moved by the plurality of feed rollers 20 are moved in the substrate moving direction. By moving, deformation of the substrate 1 that occurs between the feed rollers 20 can be suppressed by the auxiliary roller 10. Accordingly, the substrate 1 can be stably conveyed without increasing the contact area of the roller including the feed roller 20 and the auxiliary roller 10 to the substrate 1. Further, even if the substrate sizes are different, it is possible to stably carry substrates of different sizes without changing the interval between the feed rollers 20.

さらに、図4に示した実施の形態によれば、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面に対し、上向きに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズル40aを設け、複数のエアノズル40aを、複数の補助ローラ10と一緒に移動することにより、送りローラ20間で発生する基板1の変形をさらに抑制することができるので、基板1の搬送をさらに安定して行うことができる。   Furthermore, according to the embodiment shown in FIG. 4, a plurality of air nozzles 40a for blowing compressed air upward are provided on the lower surface of the substrate 1 moved by the plurality of feed rollers 20, and a plurality of air nozzles 40a are provided. By moving together with the auxiliary roller 10, deformation of the substrate 1 occurring between the feed rollers 20 can be further suppressed, so that the substrate 1 can be transported more stably.

また、図5に示した実施の形態によれば、複数の送りローラ20により移動される基板1の下面に対し、基板移動方向へ斜めに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズル40bを設け、複数のエアノズル40bを、複数の補助ローラ10と一緒に移動することにより、送りローラ20間で発生する基板の変形1をさらに抑制することができると共に、送りローラ20による基板1の移動を助勢することができるので、送りローラ20の回転力を上げることなく、大型の基板1の搬送を安定して行うことができる。   Further, according to the embodiment shown in FIG. 5, the plurality of air nozzles 40 b that blow the compressed air obliquely in the substrate moving direction are provided on the lower surface of the substrate 1 that is moved by the plurality of feed rollers 20. By moving 40b together with the plurality of auxiliary rollers 10, it is possible to further suppress the deformation 1 of the substrate that occurs between the feed rollers 20, and to assist the movement of the substrate 1 by the feed rollers 20. Therefore, the large substrate 1 can be stably conveyed without increasing the rotational force of the feed roller 20.

さらに、図7に示した実施の形態によれば、複数の送りローラ20の回転軸を基板1の幅に渡って設け、基板移動方向へ移動する複数の補助ローラ10を、複数の送りローラ20の回転軸の前後で下降及び上昇させることにより、補助ローラ10を、基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の送りローラ20に渡って、送りローラ20の回転軸に接触させることなく、基板移動方向へ移動することができる。   Furthermore, according to the embodiment shown in FIG. 7, the rotation shafts of the plurality of feed rollers 20 are provided across the width of the substrate 1, and the plurality of auxiliary rollers 10 that move in the substrate moving direction are provided with the plurality of feed rollers 20. The auxiliary roller 10 is moved across the plurality of feed rollers 20 provided at a predetermined interval in the substrate movement direction without contacting the rotation shaft of the feed roller 20 by lowering and raising before and after the rotation axis of the substrate. It can move in the moving direction.

1 基板
2 ベース
3 支持板
4 ガイドレール
5 移動テーブル
6 ガイドシャフト
7 昇降テーブル
8,8’エアシリンダ
9 支柱
10 補助ローラ
11,21,16 モータ
12,22 軸継手
13 軸受
14a ボールねじ
14b ナット
15 センサー
17,23 プーリ
18,24 ベルト
19 取り付け具
20 送りローラ
30 位置決めローラ
40a,40b エアノズル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate 2 Base 3 Support plate 4 Guide rail 5 Moving table 6 Guide shaft 7 Lifting table 8, 8 'Air cylinder 9 Support | pillar 10 Auxiliary roller 11, 21, 16 Motor 12, 22 Shaft coupling 13 Bearing 14a Ball screw 14b Nut 15 Sensor 17, 23 Pulley 18, 24 Belt 19 Mounting tool 20 Feed roller 30 Positioning roller 40a, 40b Air nozzle

Claims (8)

基板移動方向に所定の間隔で設けられ、基板を搭載しながら回転して、基板を基板移動方向へ移動する複数の第1のローラと、
前記複数の第1のローラにより移動される基板の下面を支持する複数の第2のローラと、
前記複数の第2のローラを、前記複数の第1のローラにより移動される基板と共に基板移動方向へ移動する移動手段とを備えたことを特徴とする基板搬送装置。
A plurality of first rollers that are provided at predetermined intervals in the substrate movement direction, rotate while mounting the substrate, and move the substrate in the substrate movement direction;
A plurality of second rollers for supporting a lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers;
A substrate transfer apparatus comprising: a moving unit configured to move the plurality of second rollers in a substrate moving direction together with the substrate moved by the plurality of first rollers.
前記複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、上向きに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを備え、
前記移動手段は、前記複数のエアノズルを、前記複数の第2のローラと一緒に移動することを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
A plurality of air nozzles for blowing compressed air upward on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers;
The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the moving unit moves the plurality of air nozzles together with the plurality of second rollers.
前記複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、基板移動方向へ斜めに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを備え、
前記移動手段は、前記複数のエアノズルを、前記複数の第2のローラと一緒に移動することを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
A plurality of air nozzles for blowing compressed air obliquely in the substrate moving direction on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers;
The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the moving unit moves the plurality of air nozzles together with the plurality of second rollers.
前記複数の第1のローラは、回転軸が基板の幅に渡って設けられ、
前記移動手段により基板移動方向へ移動される前記複数の第2のローラを、前記複数の第1のローラの回転軸の前後で下降及び上昇させる昇降手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
The plurality of first rollers are provided with a rotation axis across the width of the substrate,
2. An elevating unit that lowers and raises the plurality of second rollers moved in the substrate moving direction by the moving unit before and after the rotation shafts of the plurality of first rollers. The substrate transfer apparatus according to claim 3.
基板移動方向に所定の間隔で設けた複数の第1のローラに基板を搭載し、
複数の第1のローラを回転して、基板を基板移動方向へ移動しながら、
複数の第1のローラにより移動される基板の下面を、複数の第2のローラで支持し、
複数の第2のローラを、複数の第1のローラにより移動される基板と共に基板移動方向へ移動することを特徴とする基板搬送方法。
The substrate is mounted on a plurality of first rollers provided at predetermined intervals in the substrate moving direction,
While rotating the plurality of first rollers and moving the substrate in the substrate moving direction,
The lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers is supported by the plurality of second rollers,
A substrate transporting method, comprising: moving a plurality of second rollers together with a substrate moved by the plurality of first rollers in a substrate moving direction.
複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、上向きに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを設け、
複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動することを特徴とする請求項5に記載の基板搬送方法。
A plurality of air nozzles for blowing compressed air upward are provided on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers,
6. The substrate transfer method according to claim 5, wherein the plurality of air nozzles are moved together with the plurality of second rollers.
複数の第1のローラにより移動される基板の下面に対し、基板移動方向へ斜めに圧縮空気を吹き付ける複数のエアノズルを設け、
複数のエアノズルを、複数の第2のローラと一緒に移動することを特徴とする請求項5に記載の基板搬送方法。
A plurality of air nozzles that blow compressed air obliquely in the substrate moving direction are provided on the lower surface of the substrate moved by the plurality of first rollers,
6. The substrate transfer method according to claim 5, wherein the plurality of air nozzles are moved together with the plurality of second rollers.
複数の第1のローラの回転軸を基板の幅に渡って設け、
基板移動方向へ移動する複数の第2のローラを、複数の第1のローラの回転軸の前後で下降及び上昇させることを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
Providing a plurality of first roller rotation axes across the width of the substrate;
8. The plurality of second rollers that move in the substrate moving direction are lowered and raised before and after the rotation shafts of the plurality of first rollers. 9. Substrate transport method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101313737B1 (en) 2011-10-06 2013-10-01 베이 주 프리시젼 컴퍼니 리미티드 Conveying device with rotary mechanism
CN114803278A (en) * 2022-03-31 2022-07-29 青岛雪河机电有限公司 Steel plate lifting device for steel plate conveying roller way and conveying roller way

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11288097A (en) * 1998-04-03 1999-10-19 Nippon Densan Shinpo Kk Exposure device
JP2008063048A (en) * 2006-09-06 2008-03-21 Sekisui Chem Co Ltd Mounting/dismounting method and device for surface treatment
JP2008166348A (en) * 2006-12-27 2008-07-17 Olympus Corp Substrate transfer apparatus
WO2008129603A1 (en) * 2007-04-05 2008-10-30 Hirata Corporation Substrate conveyance system

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11288097A (en) * 1998-04-03 1999-10-19 Nippon Densan Shinpo Kk Exposure device
JP2008063048A (en) * 2006-09-06 2008-03-21 Sekisui Chem Co Ltd Mounting/dismounting method and device for surface treatment
JP2008166348A (en) * 2006-12-27 2008-07-17 Olympus Corp Substrate transfer apparatus
WO2008129603A1 (en) * 2007-04-05 2008-10-30 Hirata Corporation Substrate conveyance system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101313737B1 (en) 2011-10-06 2013-10-01 베이 주 프리시젼 컴퍼니 리미티드 Conveying device with rotary mechanism
CN114803278A (en) * 2022-03-31 2022-07-29 青岛雪河机电有限公司 Steel plate lifting device for steel plate conveying roller way and conveying roller way
CN114803278B (en) * 2022-03-31 2023-10-03 青岛雪河机电有限公司 Steel plate lifting device for steel plate conveying roller way and conveying roller way

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