JP2010220749A - 加熱調理用の容器 - Google Patents
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Abstract
【課題】容器内の温度をより正確に把握できるガス調理器用の加熱用容器を提供する。
【解決手段】本発明の容器10は、容器10を加熱するガスバーナ32と、容器10の外壁面に接触して容器10の温度を検知する温度センサ33とを備えるガス加熱調理器30に用いられる加熱調理用の容器10である。本発明の容器10は、陶磁器製であるとともに、一端が開口した有底の容器本体11を備える。容器本体11の底部12の外壁には、温度センサ33に接触するセンサ接触部16が設けられている。本発明の容器10においては、容器本体11の底部12の内壁面17のうち、センサ接触部16に対応する内壁面17に、他の部分よりも突出した凸部18が形成されている。
【選択図】図3
【解決手段】本発明の容器10は、容器10を加熱するガスバーナ32と、容器10の外壁面に接触して容器10の温度を検知する温度センサ33とを備えるガス加熱調理器30に用いられる加熱調理用の容器10である。本発明の容器10は、陶磁器製であるとともに、一端が開口した有底の容器本体11を備える。容器本体11の底部12の外壁には、温度センサ33に接触するセンサ接触部16が設けられている。本発明の容器10においては、容器本体11の底部12の内壁面17のうち、センサ接触部16に対応する内壁面17に、他の部分よりも突出した凸部18が形成されている。
【選択図】図3
Description
本発明は、加熱調理用の容器に関する。
ガス加熱調理器に用いられる加熱調理用容器としては、従来から、鉄鍋、アルミ合金鍋などの金属製の容器や土鍋などの陶磁器製の容器などが用いられているが、風味がよく保温性が高いという観点から、近年、土鍋などの陶磁器製の容器が注目されている(例えば特許文献1を参照)。
近年、安全性の向上の観点から、ガスバーナによる加熱に伴い上昇した加熱調理用容器の温度を検知し制御するための温度センサを、ガスコンロに設けることが望まれており、このような温度センサを備えたガスコンロの需要が高まっている。
しかし、一般的なガス調理器に設けられている温度センサは、鍋などの加熱調理用容器の底部の外壁面に接するように設けられているので、容器底部の温度を正確に検知できても、容器内の温度を正確に検知できるかどうかは疑問である。特に、土鍋などの陶磁器製の加熱容器は熱伝導性が低いため、容器底部の温度と容器内の温度との間に大きな差が生じることが懸念される。
容器底部の温度と容器内との温度との間に大きな差がある場合、例えば、容器内が高温になっていて、容器底部の温度が低い場合には、温度センサが作動せず、被調理物や容器底部が過剰に加熱されて焦げついてしまうという問題がある。また、容器内が空焚き状態になった際に、バーナーの加熱炎が小さくなり、その後消火する安全機能(自動消火機能)が極端に損なわれて異常高温になってしまうという問題がある。
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、より正確に加熱容器内の温度を把握できるガス調理器用の加熱容器を提供することを目的とする。
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、より正確に加熱容器内の温度を把握できるガス調理器用の加熱容器を提供することを目的とする。
上記課題を解決すべく、検討を行ったところ、一般的な土鍋に被調理物を入れて、温度センサ付きのガス調理器により加熱した場合、温度センサの作動が遅れて、被調理物や土鍋の底部の焦げつきが、しばしば生じるということがわかった。これは以下の理由によると考えられる。
一般的な土鍋の底部の中央部付近は他の部分よりも高さが低くなっており水分が溜まりやすくなっているため、土鍋を加熱した際に他の部分よりも水分が蒸発し難い。また、一般的な土鍋の底部の中央部はガスコンロの温度センサが接触する部分であり、ガスバーナの炎があたらないので、他の部分よりも温度上昇が緩やかである。すなわち、一般的な土鍋を温度センサを備えるガス調理器で加熱した場合、底部の中央部(温度センサとの接触部)では、他の部分と比較して、温度上昇が緩やかであるので、他の部分がガスバーナの炎により加熱されて高温になったとしても、すぐには温度センサが作動せずに過剰に加熱されてしまい、被調理物や土鍋が焦げ付いてしまうと考えられる。本発明はかかる知見に基づくものである。
すなわち、本発明は、容器を加熱するガスバーナと、前記容器の外壁面に接触して前記容器の温度を検知する温度センサとを備えるガス加熱調理器に用いられる加熱調理用の容器であって、前記容器は、陶磁器製であるとともに、一端が開口した有底の容器本体を備え、前記容器本体の底部の外壁には、前記温度センサに接触するセンサ接触部が設けられ、前記容器本体の底部の内壁面のうち、前記センサ接触部に対応する内壁面は、他の部分よりも突出しているところに特徴を有する。
本発明の容器においては、容器本体の底部の内壁面のうち、センサ接触部に対応する内壁面が他の部分よりも突出しているから、容器本体の底部のセンサ接触部に対応する部分では水分が溜まり難くなり、一般的な土鍋よりも、底部のセンサ接触部の温度上昇が速くなり、容器底部の温度と容器内部の温度との差が小さくなる。その結果、本発明によれば、加熱容器内の温度をより正確に把握できる加熱容器を提供することができる。
本発明は以下の構成であってもよい。
前記容器の厚みは、前記センサ接触部において最も小さくなっていてもよい。
このような構成とすると、加熱調理用の容器の厚みは、容器内の温度を検知する温度センサに接触する部分(センサ接触部)において最も小さくなっているから、容器内の温度をより正確に把握できる。
前記容器の厚みは、前記センサ接触部において最も小さくなっていてもよい。
このような構成とすると、加熱調理用の容器の厚みは、容器内の温度を検知する温度センサに接触する部分(センサ接触部)において最も小さくなっているから、容器内の温度をより正確に把握できる。
ここで、容器内の温度を外部に伝わりやすくするには、容器全体の厚みを小さくするということも考えられるが、厚みを全体に小さくすると、陶磁器製材料の有する保温効果等の特性が減殺され、強度が低下し、ガスバーナにより加熱される加熱領域での容器の焦げ付きや被調理物が焦げ付くなどの問題が生じる。
そこで、本発明においては、加熱調理用容器全体の厚みを薄くするのではなく、センサ接触部において厚みを最も小さくなるようにして、陶磁器製材料の有する特性を生かしつつ、容器内部の温度をより正確に把握できるようにしている。
そこで、本発明においては、加熱調理用容器全体の厚みを薄くするのではなく、センサ接触部において厚みを最も小さくなるようにして、陶磁器製材料の有する特性を生かしつつ、容器内部の温度をより正確に把握できるようにしている。
前記容器は、熱膨張係数が1.0×10−7〜15.0×10−7/℃の陶磁器製の素地の表面に、前記容器の吸水率を1.0%以下とする釉薬層が形成されてなるものであってもよい。
一般的な陶磁器製の調理用容器においては、吸水率が5〜10%なので、調理の際に被調理物とともに入れる水が底部より吸水され、吸水された水が外部に滲み出すためにセンサー表面に水分が付着して温度誤差を生じさせたり、被調理物に不具合が生じるという問題があった。そこで、上記の構成とすると、調理用容器をほとんど吸水のないものとし、かつ、機械的強度を向上させることができるので好ましい。
一般的な陶磁器製の調理用容器においては、吸水率が5〜10%なので、調理の際に被調理物とともに入れる水が底部より吸水され、吸水された水が外部に滲み出すためにセンサー表面に水分が付着して温度誤差を生じさせたり、被調理物に不具合が生じるという問題があった。そこで、上記の構成とすると、調理用容器をほとんど吸水のないものとし、かつ、機械的強度を向上させることができるので好ましい。
なお、本発明ならびに本明細書中における吸水率とは、乾燥質量(A)を測定しておいた容器を満水状態にしてラップフィルムで蓋をし、室温で15時間放置した後、容器内の水を捨て、容器に付着した水を木綿布で拭い取った直後の質量(B)を測定して以下の式により算出される値のことをいう。
吸水率(%)=100×(B−A)/A
なお、乾燥質量(A)とは、容器を電気乾燥炉を用いて恒量となるまで乾燥してから測定した容器の質量値である。詳しくは、乾燥質量(A)とは、容器を電気炉を用いて250℃で15時間乾燥した後に質量を測定し、さらに250℃で6時間乾燥して容器の質量を測定し、前回の容器の質量の測定値と同じ測定値になるまで、250℃で6時間の乾燥を繰り返してから測定する質量値である。
満水状態とする際に用いる水は水温15℃〜20℃の水道水を用いる。
吸水率(%)=100×(B−A)/A
なお、乾燥質量(A)とは、容器を電気乾燥炉を用いて恒量となるまで乾燥してから測定した容器の質量値である。詳しくは、乾燥質量(A)とは、容器を電気炉を用いて250℃で15時間乾燥した後に質量を測定し、さらに250℃で6時間乾燥して容器の質量を測定し、前回の容器の質量の測定値と同じ測定値になるまで、250℃で6時間の乾燥を繰り返してから測定する質量値である。
満水状態とする際に用いる水は水温15℃〜20℃の水道水を用いる。
本発明によれば、容器内の温度をより正確に把握できるガス調理器用の加熱用容器を提供することができる。
<実施形態1>
本発明の実施形態1を図1ないし図3によって説明する。
本実施形態は、本発明の容器10を温度センサ33付きのガスコンロ30で用いる土鍋10に適用したものである。本実施形態の土鍋10は、ガスコンロ30の五徳35上に載置されて、ガスコンロ30に設けられているガスバーナ32により加熱して使用するものである(図3を参照)。
ガスコンロ30には、図3に示すように、バーナヘッド31を具備するガスバーナ32が設けられており、バーナヘッド31の中心部上方には土鍋10の底部12の外側面に接触して土鍋10の温度を検知する温度センサ33が設けられている。ガスコンロ30には、温度センサ33が受信した温度データに基づきガスバーナ32の火力を制御するコントローラ(図示せず)が内蔵されている。
本発明の実施形態1を図1ないし図3によって説明する。
本実施形態は、本発明の容器10を温度センサ33付きのガスコンロ30で用いる土鍋10に適用したものである。本実施形態の土鍋10は、ガスコンロ30の五徳35上に載置されて、ガスコンロ30に設けられているガスバーナ32により加熱して使用するものである(図3を参照)。
ガスコンロ30には、図3に示すように、バーナヘッド31を具備するガスバーナ32が設けられており、バーナヘッド31の中心部上方には土鍋10の底部12の外側面に接触して土鍋10の温度を検知する温度センサ33が設けられている。ガスコンロ30には、温度センサ33が受信した温度データに基づきガスバーナ32の火力を制御するコントローラ(図示せず)が内蔵されている。
本実施形態の土鍋10は、上側に開口する有底の円筒容器状に形成された土鍋本体11(容器本体11に相当)と、土鍋本体11の開口を閉じる蓋20とからなる。
蓋20は、図1および図2に示すように、全体としてドーム状をなし、上面の中央には、上方向に突出した環状のつまみ21を備える。蓋20は、土鍋本体11の上端から少し下がったところに設けた蓋受け部15(詳細は後述する)に載せて土鍋本体11の開口を閉じることができるように構成されている。
蓋20は、図1および図2に示すように、全体としてドーム状をなし、上面の中央には、上方向に突出した環状のつまみ21を備える。蓋20は、土鍋本体11の上端から少し下がったところに設けた蓋受け部15(詳細は後述する)に載せて土鍋本体11の開口を閉じることができるように構成されている。
土鍋本体11は、図2に示すように、丸底形状の底部12と、底部12の周縁からなだらかな円弧を描きつつ連なる側壁部13と、からなる。土鍋本体11の側壁部13の上端付近は、側壁部13を外周方向に張り出すことにより段差状に形成されている。側壁部13の上端のフランジ状をなす部分14は把手部14であり、把手部14よりも少し下がったところの段差部分15が蓋受け部15である。
土鍋本体11の底部12の中心位置には、外壁面に、周囲よりも一段くぼませることにより厚みを薄くした凹部16が設けられている。この凹部16は、温度センサ33において土鍋本体11の底部12の外壁面に接触する感熱部34の外径よりも大きな円形に形成され、その内部に感熱部34を受入可能とされている。この凹部16は、土鍋10をガスコンロ30に載置した際に温度センサ33の感熱部34と接触するセンサ接触部16である(図3を参照)。
さて、本実施形態の土鍋本体11の底部12の内壁面17のうち、凹部16(センサ接触部16)に対応する部分には、底部12の内壁面17を、センサ接触部16の周縁に対応する位置から底部12の中央方向に徐々に隆起させることにより、他の部分よりも上方に突出した凸部18が設けられている。凸部18の高さは、底部12の内壁面17の略中央のところで最も高くなっている。
凸部18の突出高さH(内壁面17のうち、土鍋本体11を水平面に載置した場合に最も低い位置に配される部分から凸部18の上端までの高さ、図2に示すH)は、0.5mm以上5mm以下であるのが好ましい。凸部18の突出高さHが0.5mm未満であると、水が溜まりやすくなり、凸部18の突出高さHが5mmを超えると、温度センサ33と接触し難くなる。
凸部18の突出高さH(内壁面17のうち、土鍋本体11を水平面に載置した場合に最も低い位置に配される部分から凸部18の上端までの高さ、図2に示すH)は、0.5mm以上5mm以下であるのが好ましい。凸部18の突出高さHが0.5mm未満であると、水が溜まりやすくなり、凸部18の突出高さHが5mmを超えると、温度センサ33と接触し難くなる。
土鍋本体11の厚みは、センサ接触部16において厚みが最も小さくなっている。ここで、土鍋10内の温度を外部に伝わりやすくするには、土鍋10全体の厚みを小さくするということも考えられるが、厚みを全体に小さくすると、陶磁器製材料の有する保温効果等の特性が減殺され、強度が低下し、ガスバーナ32により加熱される領域での土鍋本体11の焦げ付きや被調理物が焦げ付くなどの問題が生じる。
そこで、本実施形態においては、土鍋10全体の厚みを薄くするのではなく、センサ接触部16において厚みを最も小さくなるようにして、陶磁器製材料の有する特性を生かしつつ、土鍋10内部の温度をより正確に把握できるようにしている。
そこで、本実施形態においては、土鍋10全体の厚みを薄くするのではなく、センサ接触部16において厚みを最も小さくなるようにして、陶磁器製材料の有する特性を生かしつつ、土鍋10内部の温度をより正確に把握できるようにしている。
土鍋本体11の底部12の厚みは、具体的には、凹部16(センサ接触部16)において2mm〜5mm、凹部16を取り囲む領域において4mm〜5.5mmであるのが好ましい。
凹部16の厚みは、温度センサ33によって検知される外壁面の温度と土鍋本体11の内部温度との差を炊飯動作の制御に支障をきたさない程度に小さくするために、5mm以下とすることが好ましい。しかし、あまり薄くしすぎると、土鍋10の強度が低下し破損等が起こるおそれがあるので、2mm以上とすることが好ましい。
凹部16の厚みは、温度センサ33によって検知される外壁面の温度と土鍋本体11の内部温度との差を炊飯動作の制御に支障をきたさない程度に小さくするために、5mm以下とすることが好ましい。しかし、あまり薄くしすぎると、土鍋10の強度が低下し破損等が起こるおそれがあるので、2mm以上とすることが好ましい。
次に、本実施形態の土鍋10の材質について説明する。本実施形態の土鍋本体11および蓋20は、陶磁器製の素地(基材)の全表面に釉薬層が形成されてなる。
基材は、耐熱容器として要求される耐熱衝撃性を備えるという観点から、熱膨張率が低く、耐熱衝撃性を向上可能な多孔質のペタライトや粘土などの材料を用いて、鋳込み成形法や塑性成形法やローラマシン成形法などの公知の成形法により成形される。
基材は、耐熱容器として要求される耐熱衝撃性を備えるという観点から、熱膨張率が低く、耐熱衝撃性を向上可能な多孔質のペタライトや粘土などの材料を用いて、鋳込み成形法や塑性成形法やローラマシン成形法などの公知の成形法により成形される。
本発明において、基材の熱膨張係数は、具体的には1.0×10−7〜15.0×10−7/℃であるのが好ましい。
基材の材料としては、ムライト系、スポジュメン系、コ−ジェライト系などがあげられる。
基材は上記の成形法により所定形状に成形したのち、例えば、1200℃〜1280℃で焼成すると得られる。
基材の表面には、全体を被覆する釉薬層が形成されている。このように土鍋本体11および蓋20の全表面を釉薬層で被覆することで、土鍋本体11および蓋20に均等な機械的強度を与え、吸水および吸臭などを有効に防止することができる。
基材の材料としては、ムライト系、スポジュメン系、コ−ジェライト系などがあげられる。
基材は上記の成形法により所定形状に成形したのち、例えば、1200℃〜1280℃で焼成すると得られる。
基材の表面には、全体を被覆する釉薬層が形成されている。このように土鍋本体11および蓋20の全表面を釉薬層で被覆することで、土鍋本体11および蓋20に均等な機械的強度を与え、吸水および吸臭などを有効に防止することができる。
基材の表面に施釉される釉薬としては、加熱調理時に容器にひびが入ったり容器が割れたりするのを防ぐため、基材より熱膨張率が小さくなるように調製したものを用いる。
釉薬としては、熱膨張係数が、基材の熱膨張係数に近いものかそれ以下のものを用いると、土鍋本体11の吸水率を低くすることができるので好ましい。
本実施形態においては、基材の材料として熱膨張率の小さいものを使用することから、熱膨張率の低い釉薬を調製して用いる。釉薬材料としては、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、炭酸バリウム、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末などがあげられ、これらのうちの3種以上を組み合わせて調製したものが釉薬として使用される。
釉薬としては、熱膨張係数が、基材の熱膨張係数に近いものかそれ以下のものを用いると、土鍋本体11の吸水率を低くすることができるので好ましい。
本実施形態においては、基材の材料として熱膨張率の小さいものを使用することから、熱膨張率の低い釉薬を調製して用いる。釉薬材料としては、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、炭酸バリウム、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末などがあげられ、これらのうちの3種以上を組み合わせて調製したものが釉薬として使用される。
そして、釉薬層を形成するための釉薬としては、釉薬の全質量に対して、SiO2を63〜73%、Al2O3を14〜18%、Li2Oを3.5〜7%、ZnOを3〜7%、BaOを0〜4%、CaOを0〜3%、ZrO2を0〜6%の割合で含有するものを使用すると土鍋本体11の吸水率を1.0%以下とすることができるので好ましい。釉薬には上記以外の成分(その他の成分)として顔料などがふくまれていてもよい。
SiO2の含有量が63%未満であると耐衝撃性が不十分となり、73%を超えると吸水率が高くなる。Al2O3の含有量が18%を超えると吸水率が高くなる。Li2Oの含有量が3.5%未満であると耐熱衝撃性が不十分となり、7%を超えると釉薬層を形成困難(ガラス膜にならない)となる。ZnOの含有量が3%未満であると吸水率が高くなり、7%を超えると貫入が入りやすくなる。
SiO2の含有量が63%未満であると耐衝撃性が不十分となり、73%を超えると吸水率が高くなる。Al2O3の含有量が18%を超えると吸水率が高くなる。Li2Oの含有量が3.5%未満であると耐熱衝撃性が不十分となり、7%を超えると釉薬層を形成困難(ガラス膜にならない)となる。ZnOの含有量が3%未満であると吸水率が高くなり、7%を超えると貫入が入りやすくなる。
上記組成の釉薬を、基材の全外表面にわたってスプレー吹き、あるいはディッピングなど公知の方法により150〜250μmの厚みとなるように均一に施釉し、1150℃〜1250℃で焼成すると、土鍋本体11の吸水率を1.0%以下とする釉薬層が形成される。
なお、本発明において吸水率とは、乾燥質量(A)を測定しておいた土鍋本体11を満水状態にしてラップフィルム(図示せず)で覆い、室温で15時間放置した後、土鍋本体11内の水を捨て、土鍋本体11に付着した水を木綿布で拭い取った直後の質量(B)を測定して以下の式により算出される値のことをいう。
吸水率(%)=100×(B−A)/A
ここで、乾燥質量(A)とは、土鍋本体11を電気炉を用いて恒量となるまで乾燥してから測定した土鍋本体11の質量値である。詳しくは、乾燥質量(A)とは、土鍋本体11を電気炉を用いて250℃で15時間乾燥した後に質量を測定し、さらに250℃で6時間乾燥して土鍋本体11の質量を測定し、前回の土鍋本体11の質量の測定値と同じ測定値になるまで、250℃で6時間の乾燥を繰り返してから測定する質量値である。満水状態とする際に用いる水は水温15℃〜20℃の水道水を用いる。
吸水率(%)=100×(B−A)/A
ここで、乾燥質量(A)とは、土鍋本体11を電気炉を用いて恒量となるまで乾燥してから測定した土鍋本体11の質量値である。詳しくは、乾燥質量(A)とは、土鍋本体11を電気炉を用いて250℃で15時間乾燥した後に質量を測定し、さらに250℃で6時間乾燥して土鍋本体11の質量を測定し、前回の土鍋本体11の質量の測定値と同じ測定値になるまで、250℃で6時間の乾燥を繰り返してから測定する質量値である。満水状態とする際に用いる水は水温15℃〜20℃の水道水を用いる。
次に本実施形態の作用・効果について説明する。
上記構成の土鍋10を用いて調理を行う際には、土鍋本体11に水と被調理物(図示せず)を入れ、ガスコンロ30の五徳35上にセットする。このとき、温度センサ33の感熱部34が凹部16の奥面に接触することで温度検知が可能な状態となる。
そして、ガスコンロ30のスイッチを入れると、ガスバーナ32の炎により土鍋本体11の底部12が加熱され、この熱が土鍋本体11の内部に伝わることにより調理が行われる。
上記構成の土鍋10を用いて調理を行う際には、土鍋本体11に水と被調理物(図示せず)を入れ、ガスコンロ30の五徳35上にセットする。このとき、温度センサ33の感熱部34が凹部16の奥面に接触することで温度検知が可能な状態となる。
そして、ガスコンロ30のスイッチを入れると、ガスバーナ32の炎により土鍋本体11の底部12が加熱され、この熱が土鍋本体11の内部に伝わることにより調理が行われる。
温度センサ33により検知された土鍋本体11の底部12の温度(凹部16の奥面の温度)は、ガスコンロ30に内蔵されているコントローラに送られ、コントローラは受信した温度データに基づいて、ガスバーナ32の火力を制御し、土鍋本体11の内部の温度が適切な温度となるように調整する。
本実施形態の土鍋10においては、土鍋本体11の底部12の内壁面17に設けた凸部18は他の部分よりも突出していて、水分が溜まり難くなっているので、一般的な土鍋のセンサ接触部よりも、本実施形態の土鍋10の底部12のセンサ接触部16の温度上昇は速い。その結果、本実施形態によれば、土鍋本体11の底部12の温度と土鍋本体11の内部の温度との差が小さくなり、土鍋本体11の内部の温度が温度センサ33により正確に把握されて、土鍋本体11や被調理物が過剰に加熱されて焦げ付くのを防止することができる。
本実施形態の土鍋10においては、土鍋本体11の底部12の内壁面17に設けた凸部18は他の部分よりも突出していて、水分が溜まり難くなっているので、一般的な土鍋のセンサ接触部よりも、本実施形態の土鍋10の底部12のセンサ接触部16の温度上昇は速い。その結果、本実施形態によれば、土鍋本体11の底部12の温度と土鍋本体11の内部の温度との差が小さくなり、土鍋本体11の内部の温度が温度センサ33により正確に把握されて、土鍋本体11や被調理物が過剰に加熱されて焦げ付くのを防止することができる。
特に、本実施形態では土鍋本体11の厚みが、センサ接触部16において最も小さくなっているから、土鍋本体11の内部温度をより正確に把握できるとともに、陶磁器製材料を使用することによって得られる効果を最大限に享受することができ、土鍋10として必要な強度を確保することができる。
ところで、一般的な土鍋は、吸水性が高いという性質に起因して、においや汚れの吸着、水漏れなどが起こり易く、加熱調理中に調理物の汁が漏れ出てきたり、完全に乾燥させるのに長時間を要し、乾燥が不完全であるとカビが生えることがある。また、一般的な土鍋を用いてご飯を炊くと、水が土鍋本体11に吸収されるため、水加減が不安定になり、炊き上がったご飯に不具合が生じるという問題があり、予め米のとぎ汁を吸水させてから、水を配合するなど、工夫が必要である。
吸水性が高いことに起因する上記問題を緩和するために、従来から、例えば土鍋の使用を開始する際に、おかゆを炊くなどの方法により土鍋の内側面(調理物を入れる部分)にデンプンの皮膜を作る「目止め処理」が行われてはいるが、目止め処理を行っただけでは、その後の使用によりデンプンの皮膜が剥がれてしまうため、再度、同様な問題が生じる懸念がある。
しかしながら、本実施形態によれば、陶磁器製の基材の全表面に、土鍋本体11の吸水率を1.0%以下とする釉薬層が形成されているから、一般的な土鍋の有する、上記問題(吸水性が高いことに起因する問題)を解決することができる。
しかしながら、本実施形態によれば、陶磁器製の基材の全表面に、土鍋本体11の吸水率を1.0%以下とする釉薬層が形成されているから、一般的な土鍋の有する、上記問題(吸水性が高いことに起因する問題)を解決することができる。
<実施例>
以下本発明を実施例によりさらに説明する。
1.土鍋本体の底部の形状の検討(凸部の有無)
以下の方法により、土鍋本体の底部に凸部が形成された実施例1の土鍋および、土鍋本体の底部に凸部が形成されていない比較例1〜2の土鍋を作製して性能評価試験を行った。
以下本発明を実施例によりさらに説明する。
1.土鍋本体の底部の形状の検討(凸部の有無)
以下の方法により、土鍋本体の底部に凸部が形成された実施例1の土鍋および、土鍋本体の底部に凸部が形成されていない比較例1〜2の土鍋を作製して性能評価試験を行った。
(1)実施例1の土鍋の作製
実施形態1に示す形状をなし、土鍋本体の底部のセンサ接触部の厚みが5mm、凸部の突出高さを2mmの実施例1の土鍋を以下の方法により作製した。
基材の材料としてペタライト、スポジューメン、珪石粉末、カオリン、粘土、石灰のうちの2種以上を組み合わせた素地土をローラマシン成形機[新栄機工(株)製、型式ACTM−1R−50DT]により、所定形状に成形したのち、1200〜1270℃下で焼成し、土鍋の基材および蓋の基材を作製した。
次に、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を68%、Al2O3を16%、Li2Oを4%、ZnOを5%、ZrO2を4%、顔料などその他の成分を3%の割合で含有する釉薬を調製した。
上記のように調製した釉薬を、土鍋基材および蓋基材の表面全体にスプレー吹きにより厚みが100〜250μmとなるように均一に施釉し、焼成温度が1150〜1250℃となるように焼成して釉薬層を形成させた。
実施形態1に示す形状をなし、土鍋本体の底部のセンサ接触部の厚みが5mm、凸部の突出高さを2mmの実施例1の土鍋を以下の方法により作製した。
基材の材料としてペタライト、スポジューメン、珪石粉末、カオリン、粘土、石灰のうちの2種以上を組み合わせた素地土をローラマシン成形機[新栄機工(株)製、型式ACTM−1R−50DT]により、所定形状に成形したのち、1200〜1270℃下で焼成し、土鍋の基材および蓋の基材を作製した。
次に、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を68%、Al2O3を16%、Li2Oを4%、ZnOを5%、ZrO2を4%、顔料などその他の成分を3%の割合で含有する釉薬を調製した。
上記のように調製した釉薬を、土鍋基材および蓋基材の表面全体にスプレー吹きにより厚みが100〜250μmとなるように均一に施釉し、焼成温度が1150〜1250℃となるように焼成して釉薬層を形成させた。
(2)比較例1および比較例2の土鍋の作製
土鍋本体の底部の内壁面に凸部が形成されていないということ以外は、実施例1と同様にして、比較例1および比較例2の土鍋を作製した。
比較例1では一般的な土鍋と同様に底部の内壁面の中央が凹んだ形状のものを作製し、比較例2では内壁面が平らのものを作製した。
土鍋本体の底部の内壁面に凸部が形成されていないということ以外は、実施例1と同様にして、比較例1および比較例2の土鍋を作製した。
比較例1では一般的な土鍋と同様に底部の内壁面の中央が凹んだ形状のものを作製し、比較例2では内壁面が平らのものを作製した。
(3)性能評価試験1
実施例1の土鍋および、比較例1〜2の土鍋について以下の評価試験を行った。各土鍋の土鍋本体に水を200ml入れて、センサ接触部がリンナイ製ガスコンロ(RINNAI ハオS630VCTS)の温度センサに接するように載置して、強火で加熱し、底部の中心から50mmのところで水が蒸発してから自動消火に要する時間(T1)を測定し、表1に示した。
なお、本評価試験で用いたガスコンロを用いて土鍋を加熱した場合、土鍋本体の底部の中心にはガスバーナの炎があたらず、底部の中心から50mmのところでは、ガスバーナの炎が直接あたる。
実施例1の土鍋および、比較例1〜2の土鍋について以下の評価試験を行った。各土鍋の土鍋本体に水を200ml入れて、センサ接触部がリンナイ製ガスコンロ(RINNAI ハオS630VCTS)の温度センサに接するように載置して、強火で加熱し、底部の中心から50mmのところで水が蒸発してから自動消火に要する時間(T1)を測定し、表1に示した。
なお、本評価試験で用いたガスコンロを用いて土鍋を加熱した場合、土鍋本体の底部の中心にはガスバーナの炎があたらず、底部の中心から50mmのところでは、ガスバーナの炎が直接あたる。
表1から明らかなように、実施例1の本発明の土鍋では、底部の中心から50mmのところの水が蒸発してから自動消火に要する時間が比較例1(従来の土鍋)及び比較例2の土鍋よりも顕著に短かった。
この結果から、本発明の土鍋では、底部の中心から50mmのところとガスコンロの温度センサ接触部が接触する底部の内壁面の中心との温度差が従来の土鍋や底部の内壁面が平らな土鍋よりも小さいといえる。従って、本発明によれば、従来の土鍋や底部の内壁面が平らな土鍋よりも容器内の温度をより正確に把握することができる。
この結果から、本発明の土鍋では、底部の中心から50mmのところとガスコンロの温度センサ接触部が接触する底部の内壁面の中心との温度差が従来の土鍋や底部の内壁面が平らな土鍋よりも小さいといえる。従って、本発明によれば、従来の土鍋や底部の内壁面が平らな土鍋よりも容器内の温度をより正確に把握することができる。
なお、比較例1の土鍋で、底部の中心から50mmのところの水が蒸発してから自動消火に要する時間が6分以上もかかるのは、以下の理由によると考えられる。比較例1の土鍋では底部の中央部が凹んでいるので中央部に水が溜まり易くなっており、他の部分の水分が蒸発して高温になっても、中央部では水が残っているため温度が緩やかに上昇し、温度センサの作動までに長時間を要すると考えられる。
2.土鍋本体の底部の形状の検討(センター接触部の厚み)
以下の方法により、土鍋本体の底部に凸部が形成され、かつセンター接触部の厚みが相違する実施例2〜3の土鍋を作製して性能評価試験を行った。
(1)実施例2の土鍋の作製
土鍋本体の底部のセンサ接触部の厚みを7mmとしたこと以外は実施例1と同様にして実施例2の土鍋を作製した。
以下の方法により、土鍋本体の底部に凸部が形成され、かつセンター接触部の厚みが相違する実施例2〜3の土鍋を作製して性能評価試験を行った。
(1)実施例2の土鍋の作製
土鍋本体の底部のセンサ接触部の厚みを7mmとしたこと以外は実施例1と同様にして実施例2の土鍋を作製した。
(2)実施例3の土鍋の作製
土鍋本体の底部のセンサ接触部の厚みを2.5mmとしたこと以外は実施例1と同様にして実施例3の土鍋を作製した。
土鍋本体の底部のセンサ接触部の厚みを2.5mmとしたこと以外は実施例1と同様にして実施例3の土鍋を作製した。
(3)性能評価試験2
実施例1〜3の土鍋について、下記(i)、(ii)の評価試験を行った。
ガスコンロとしては性能評価試験1で使用したものと同じものを使用した。
(i)各土鍋の土鍋本体に水を200mlを入れて、センサ接触部がガスコンロの温度センサに接するように載置して、強火で加熱し、底部の中心のところで水が蒸発してからバーナーの炎が弱火になるのに要する時間(T2)を測定し、表2に示した。
実施例1〜3の土鍋について、下記(i)、(ii)の評価試験を行った。
ガスコンロとしては性能評価試験1で使用したものと同じものを使用した。
(i)各土鍋の土鍋本体に水を200mlを入れて、センサ接触部がガスコンロの温度センサに接するように載置して、強火で加熱し、底部の中心のところで水が蒸発してからバーナーの炎が弱火になるのに要する時間(T2)を測定し、表2に示した。
(ii)各土鍋の土鍋本体に何もいれずに、センサ接触部がガスコンロの温度センサに接するように載置して、強火で5分加熱した後、土鍋本体の底部の中心の温度(センター温度)、土鍋本体の底部の中心から25mmのところの温度(φ50温度)、底部の中心から50mmのところの温度(φ100温度)、土鍋本体の側壁の温度(側壁温度)を測定し、表2に示した。
表2には、土鍋本体の底部の中心から25mmのところの温度(φ50温度)、底部の中心から50mmのところの温度(φ100温度)、および土鍋本体の側壁の温度(側壁温度)と、センター温度との差を併せて記載した。
土鍋本体の側壁の温度とは土鍋本体の側壁の長さ方向の中央の部分の温度である。
なお、本評価試験で用いたガスコンロを用いて土鍋を加熱すると、土鍋本体の底部の中心にはガスバーナの炎が全くあたらず、底部の中心から25mmのところや50mmのところでは、ガスバーナの炎が直接あたる。
表2には、土鍋本体の底部の中心から25mmのところの温度(φ50温度)、底部の中心から50mmのところの温度(φ100温度)、および土鍋本体の側壁の温度(側壁温度)と、センター温度との差を併せて記載した。
土鍋本体の側壁の温度とは土鍋本体の側壁の長さ方向の中央の部分の温度である。
なお、本評価試験で用いたガスコンロを用いて土鍋を加熱すると、土鍋本体の底部の中心にはガスバーナの炎が全くあたらず、底部の中心から25mmのところや50mmのところでは、ガスバーナの炎が直接あたる。
表2の結果から以下のことがわかった。
センサ接触部の厚みが小さくなると、センサ接触部の形成されている土鍋本体の底部の中心の温度と、各部分の温度との差が小さくなり、容器内の温度をより正確に把握することができるので好ましいということがわかった。
センサ接触部の厚みが小さくなると、センサ接触部の形成されている土鍋本体の底部の中心の温度と、各部分の温度との差が小さくなり、容器内の温度をより正確に把握することができるので好ましいということがわかった。
3.土鍋の吸水率の検討
以下の方法により、吸水率の相違する実施例4〜7の土鍋を作製して性能評価試験を行った。各実施例の土鍋の吸水率の測定は(1)に示す方法により行った。
(1)吸水率の測定
各土鍋の土鍋本体を電気乾燥炉(三洋電器製、MOV−212F(U))を用いて250℃で15時間乾燥した後に質量を測定し、さらに250℃で6時間乾燥して土鍋本体の質量を測定し、前回の測定値と同じ測定値になるまで、250℃で6時間の乾燥を繰り返した。電気炉による乾燥を繰返して前回と同じ測定値となったときに土鍋本体の質量を測定しその値を乾燥質量(A)とした。
予め乾燥質量(A)を測定しておいた土鍋本体に、15℃〜20℃の水道水を入れて満水状態にしてラップフィルムで蓋をし、室温で15時間放置した後、土鍋本体内の水を捨て、容器に付着した水を木綿布で拭い取った直後の質量(B)を測定し、以下の式により吸水率を算出した。
吸水率(%)=100×(B−A)/A
以下の方法により、吸水率の相違する実施例4〜7の土鍋を作製して性能評価試験を行った。各実施例の土鍋の吸水率の測定は(1)に示す方法により行った。
(1)吸水率の測定
各土鍋の土鍋本体を電気乾燥炉(三洋電器製、MOV−212F(U))を用いて250℃で15時間乾燥した後に質量を測定し、さらに250℃で6時間乾燥して土鍋本体の質量を測定し、前回の測定値と同じ測定値になるまで、250℃で6時間の乾燥を繰り返した。電気炉による乾燥を繰返して前回と同じ測定値となったときに土鍋本体の質量を測定しその値を乾燥質量(A)とした。
予め乾燥質量(A)を測定しておいた土鍋本体に、15℃〜20℃の水道水を入れて満水状態にしてラップフィルムで蓋をし、室温で15時間放置した後、土鍋本体内の水を捨て、容器に付着した水を木綿布で拭い取った直後の質量(B)を測定し、以下の式により吸水率を算出した。
吸水率(%)=100×(B−A)/A
(2)実施例4の土鍋の作製
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例4の土鍋を作製した。
実施例4では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、炭酸バリウム、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を66%、Al2O3を15%、Li2Oを3%、ZnOを3%、BaOを5%、CaOを3%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を2%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は5.0%であった。
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例4の土鍋を作製した。
実施例4では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、炭酸バリウム、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を66%、Al2O3を15%、Li2Oを3%、ZnOを3%、BaOを5%、CaOを3%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を2%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は5.0%であった。
(3)実施例5の土鍋の作製
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例5の土鍋を作製した。
実施例5では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を66%、Al2O3を15%、Li2Oを3.5%、ZnOを3%、CaOを3%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を6.5%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は2.0%であった。
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例5の土鍋を作製した。
実施例5では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、石灰、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を66%、Al2O3を15%、Li2Oを3.5%、ZnOを3%、CaOを3%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を6.5%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は2.0%であった。
(4)実施例6の土鍋の作製
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例6の土鍋を作製した。
実施例6では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を67%、Al2O3を16%、Li2Oを3.5%、ZnOを4%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を6.5%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は1.0%であった。
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例6の土鍋を作製した。
実施例6では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を67%、Al2O3を16%、Li2Oを3.5%、ZnOを4%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を6.5%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は1.0%であった。
(5)実施例7の土鍋の作製
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例7の土鍋を作製した。
実施例7では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を67%、Al2O3を15%、Li2Oを3.5%、ZnOを5.0%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を6.5%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は0.4%であった。
以下に示す組成の釉薬を用いたこと以外は実施例1と同様にして実施例7の土鍋を作製した。
実施例7では、釉薬材料として、ペタライト、スポジューメン、炭酸リチウム、マグネサイト、カリ長石、珪石粉末、亜鉛華、ジルコン、粘土、ガラス粉末のうちの3種以上を組み合わせて、釉薬の全質量に対して、SiO2を67%、Al2O3を15%、Li2Oを3.5%、ZnOを5.0%、ZrO2を3%、顔料などその他の成分を6.5%の割合で含有する釉薬を調製して用いた。(1)の方法により測定した吸水率は0.4%であった。
(6)性能評価試験3
実施例4〜7の土鍋について以下の(i)、(ii)の評価試験を行った。ガスコンロとしては性能評価試験1で使用したものと同じものを使用した。
比較例3として、市販の金属製鍋(Vita Craft社製、SEPTA−PLY NICROMIUM STEEL、02−No.7023、直径約210mmの両手鍋)を用いて(i)の評価試験を行った。
(i)各土鍋の土鍋本体に水を200ml入れて、センサ接触部がガスコンロの温度センサに接するように載置して、強火で加熱し、土鍋本体の底部の中心のところで水が蒸発してから消火するのに要する時間(T3)と、土鍋本体の底部全体で水が蒸発してから消火するのに要する時間(T4)とを測定し、表3に示した。
実施例4〜7の土鍋について以下の(i)、(ii)の評価試験を行った。ガスコンロとしては性能評価試験1で使用したものと同じものを使用した。
比較例3として、市販の金属製鍋(Vita Craft社製、SEPTA−PLY NICROMIUM STEEL、02−No.7023、直径約210mmの両手鍋)を用いて(i)の評価試験を行った。
(i)各土鍋の土鍋本体に水を200ml入れて、センサ接触部がガスコンロの温度センサに接するように載置して、強火で加熱し、土鍋本体の底部の中心のところで水が蒸発してから消火するのに要する時間(T3)と、土鍋本体の底部全体で水が蒸発してから消火するのに要する時間(T4)とを測定し、表3に示した。
(ii)各土鍋の土鍋本体に水を200ml入れて、2時間室温にて放置した後、土鍋本体のセンサ接触部がガスコンロの温度センサに接するように載置して、強火で加熱し、土鍋本体の底部の中心のところで水が蒸発してから消火するのに要する時間(T5)と、土鍋本体の底部全体で水が蒸発してから消火するのに要する時間(T6)とを測定し、表3に示した。
表3の結果から明らかなように、水を入れてすぐに加熱した場合には、土鍋本体の吸水率が2%以下の土鍋(実施例5〜7)において、土鍋本体の底部の中心のところで水が蒸発してから消火するのに要する時間(T3)と、全体で水が蒸発してから消化するのに要する時間(T4)とが、顕著に短くなった。
さらに水を入れて2時間放置した場合には、土鍋本体の吸水率が1%以下の土鍋(実施例5〜7)において、土鍋本体の底部の中心のところで水が蒸発してから消火するのに要する時間(T5)と、全体で水が蒸発してから消火するのに要する時間(T6)とが、顕著に短くなった。
これらの結果から、本発明では、土鍋本体の吸水率を1.0%以下とするのが好ましいということがわかった。
さらに水を入れて2時間放置した場合には、土鍋本体の吸水率が1%以下の土鍋(実施例5〜7)において、土鍋本体の底部の中心のところで水が蒸発してから消火するのに要する時間(T5)と、全体で水が蒸発してから消火するのに要する時間(T6)とが、顕著に短くなった。
これらの結果から、本発明では、土鍋本体の吸水率を1.0%以下とするのが好ましいということがわかった。
<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
(1)上記実施形態では、センサ接触部の周縁に対応する位置から底部の中央方向に徐々に隆起させることにより、他の部分よりも上方に突出した凸部が設けられているものを示したが、凸部の形状はこれに限定されない。底部の内壁面のうち、センサ接触部に対応する内壁面が、他の部分よりも突出していればよく、とがったような形状の凸部を形成したものであってもよい。
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
(1)上記実施形態では、センサ接触部の周縁に対応する位置から底部の中央方向に徐々に隆起させることにより、他の部分よりも上方に突出した凸部が設けられているものを示したが、凸部の形状はこれに限定されない。底部の内壁面のうち、センサ接触部に対応する内壁面が、他の部分よりも突出していればよく、とがったような形状の凸部を形成したものであってもよい。
(2)上記実施形態では、土鍋本体と蓋の全表面に釉薬層を形成したものを示したが、土鍋本体の内壁面だけに釉薬層を形成したものや、釉薬層が形成されていないものであってもよく、上述の組成以外の他の釉薬を用いて釉薬層を形成したものであってもよい。
(3)上記実施形態では、土鍋本体の吸水率を1.0%以下とする釉薬層を基材の表面に形成したものを示したが、土鍋本体の吸水率が1.0%を超える釉薬層を備えるものであってもよいし、釉薬層の上にさらにフッ素樹脂をコーティングしたものなどであってもよい。
10…土鍋(本発明の加熱調理用の容器)
11…土鍋本体(容器本体)
12…底部
16…凹部(センサ接触部)
17…内壁面
18…凸部(センサ接触部に対応する内壁面)
30…ガスコンロ(ガス加熱調理器)
32…ガスバーナ
33…温度センサ
11…土鍋本体(容器本体)
12…底部
16…凹部(センサ接触部)
17…内壁面
18…凸部(センサ接触部に対応する内壁面)
30…ガスコンロ(ガス加熱調理器)
32…ガスバーナ
33…温度センサ
Claims (3)
- 容器を加熱するガスバーナと、前記容器の外壁面に接触して前記容器の温度を検知する温度センサとを備えるガス加熱調理器に用いられる加熱調理用の容器であって、
前記容器は、陶磁器製であるとともに、一端が開口した有底の容器本体を備え、
前記容器本体の底部の外壁には、前記温度センサに接触するセンサ接触部が設けられ、
前記容器本体の底部の内壁面のうち、前記センサ接触部に対応する内壁面は、他の部分よりも突出していることを特徴とする加熱調理用の容器。 - 前記容器の厚みは、前記センサ接触部において最も小さくなっていることを特徴とする請求項1に記載の加熱調理用の容器。
- 熱膨張係数が1.0×10−7〜15.0×10−7/℃の陶磁器製の素地の表面に、前記容器本体の吸水率を1.0%以下とする釉薬層が形成されてなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の加熱調理用の容器。
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