JP2010209367A - 低汚染性に優れたアルミニウム合金部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アルミニウム合金で成る基材の表面に陽極酸化皮膜を形成したアルミニウム合金部材であって、陽極酸化皮膜は、その表面側から1μm以上が、ポア間の障壁厚さが30nm以下のポーラス層とする。また、その表面側のポーラス層を除く基材側の部位が、ポア間の障壁厚さが30nm超で、層厚が5μm以上のバリアー層とする。
【選択図】なし
Description
Claims (2)
- アルミニウム合金で成る基材の表面に陽極酸化皮膜を形成したアルミニウム合金部材であって、
前記陽極酸化皮膜は、その表面側から1μm以上が、ポア間の障壁厚さが30nm以下のポーラス層であることを特徴とする低汚染性に優れたアルミニウム合金部材。 - 前記陽極酸化皮膜のうち、その表面側のポーラス層を除く基材側の部位が、ポア間の障壁厚さが30nm超で、層厚が5μm以上のポーラス層であることを特徴とする請求項1記載の低汚染性に優れたアルミニウム合金部材。
Priority Applications (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5683077B2 (ja) | 2015-03-11 |
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A521 | Written amendment |
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