JP2010207807A - 排ガス浄化触媒、排ガス浄化触媒の製造方法、触媒基体の製造方法及びハニカム型触媒基体 - Google Patents
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Abstract
【課題】活性金属の必要量が少なく、高温の条件下で長期間使用しても活性が低下し難い排ガス浄化触媒等を提供する。
【解決手段】排ガス浄化触媒は、ＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体であって、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度に対するＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）のピーク強度比が１：０．００１〜１：７の範囲にある担体に、活性金属が担持されている。
【選択図】図１
【解決手段】排ガス浄化触媒は、ＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体であって、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度に対するＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）のピーク強度比が１：０．００１〜１：７の範囲にある担体に、活性金属が担持されている。
【選択図】図１
Description
本発明は、例えば、自動車排ガス中の有害物質を除去する排ガス浄化触媒、この排ガス浄化触媒の製造方法、この排ガス浄化触媒をコーティングした触媒基体の製造方法及びハニカム型触媒基体に関する。
例えば自動車の排ガス中に含まれる窒素酸化物や一酸化炭素、炭化水素は環境規制の対象となっており、三元触媒（以下、排ガス浄化触媒という）はこれらの物質を分解して排ガスを浄化してから大気へと排出する役割を果たしている。排ガス浄化触媒は、例えばアルミナなどの担体に、白金（Ｐｔ）やパラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）などの貴金属を活性金属として担持させたものが一般的に知られている。この排ガス浄化触媒は、例えばエンジンの出口部付近に配置され、高温の排ガスと接触させることにより汚染物質を分解する活性を得ている。
一般的に、排ガス浄化触媒は例えば１００ｍ２／ｇ以上もの比表面積を有する担体の表面に粒子径の小さな活性金属を均一に分散担持することにより、汚染物質と活性金属との接触効率を向上させるといった構造的な効果を利用して触媒の活性を高めている。ところが排ガス浄化触媒は、高温の排ガスと長期間接触すると、担体の比表面積が低下したり、活性金属が凝集して粒子径が大きくなったりするため、次第にこうした構造的な効果が失われて触媒の活性が低下してしまうシンタリングと呼ばれる現象が知られている。
このため従来の排ガス浄化触媒は、シンタリングによる活性の低下を見越して、使用開始時の必要量よりも例えば３％程度多い活性金属を担持しておくことにより、構造的な効果が失われた後も必要な活性を維持する方策が採られてきた。しかしながらこの方策は、使用開始後、当面の期間中に必要な量以上の活性金属を触媒に担持する必要があるため、触媒コストへの影響が大きく、排ガス処理システムを高額にする要因となっていた。
特許文献１には、スピネル構造を持つＢａＡｌ２Ｏ４を含む排ガス浄化触媒が記載されており、当該触媒は高温雰囲気下で使用しても活性金属が凝集しにくい点と、それでも活性が低下してしまった場合には活性金属を再分散させる再生処理が可能である点とに特徴を有している。
特許文献２には、触媒作用を有する貴金属と、この貴金属が担持される第１の酸化物と、この触媒貴金属が担持された第１の酸化物を包む第２の酸化物とを少なくとも有する触媒粒子ユニットを備え、この触媒粒子ユニットが複数個集まってなる触媒粉末中に、助触媒成分である遷移元素、アルカリ土類金属元素、アルカリ金属元素、希土類元素から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする排気ガス浄化触媒が開示されている。
本発明は、このような事情の下になされたものであり、その目的は、活性金属の必要量が少なく、高温の条件下で長期間使用しても活性が低下し難い排ガス浄化触媒及びその製造方法、この排ガス浄化触媒を用いた触媒基体の製造方法並びにハニカム型触媒基体を提供することにある。
本出願における第１の発明は、ＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体であって、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度に対するＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）のピーク強度比が１：０．００１〜１：７の範囲にある担体に活性金属が担持していることを特徴とする排ガス浄化触媒である。
本出願における第２の発明は、前記担体が更にＡｌ２Ｏ３、ＢａＺｒＯ３又はＺｒＯ２から選ばれる１種以上を含むものであり、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度を１とした時のＡｌ２Ｏ３の面指数（１１３）のピーク強度比（Ｄ）が０〜５の範囲、ＢａＺｒＯ３の面指数（３１０）のピーク強度比（Ｂ）が０〜１の範囲、ＺｒＯ２の面指数（２２０）のピーク強度比（Ｃ）が０〜１２の範囲（ただし、Ｂ、Ｃ、Ｄのうち少なくとも一つは０でない。）であることを特徴とする前記排ガス浄化触媒である。
本出願における第３の発明は、前記排ガス浄化触媒の比表面積が０．１ｍ２／ｇ以上、７０ｍ２／ｇ以下の範囲にあることを特徴とする前記排ガス浄化触媒である。
本出願における第４の発明は、前記活性金属がＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属であることを特徴とする前記排ガス浄化触媒である。
本出願における第５の発明は、前記活性金属の担持量が、前記排ガス浄化触媒質量の０．０１質量％以上、２．０質量％以下の範囲であることを特徴とする前記排ガス浄化触媒である。
本出願における第６の発明は、前記排ガス浄化触媒に担持された活性金属の平均粒径が２ｎｍ以上、７００ｎｍ以下の範囲であることを特徴とする前記排ガス浄化触媒である。
本出願における第７の発明は、次の（１）と（２）の工程を含むことを特徴とする排ガス浄化触媒の製造方法である。
（１）アルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物とを含む混合物であって、アルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲であるものを８００℃以上、１６００℃以下の温度で焼成し、担体を調製する工程。
（２）前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属を担持させる工程。
（１）アルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物とを含む混合物であって、アルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲であるものを８００℃以上、１６００℃以下の温度で焼成し、担体を調製する工程。
（２）前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属を担持させる工程。
本出願における第８の発明は、次の（１）と（２）の工程を含むことを特徴とする前記排ガス浄化触媒の製造方法である。
（１）アルミニウム含有化合物、バリウム含有化合物及びジルコニウム含有化合物を含む混合物であって、アルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲、アルミニウムとジルコニウムのモル比が１：０〜１：０．５の範囲であるものを８００℃以上、１６００℃以下の温度で焼成し、担体を調製する工程。
（２）前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属を担持させる工程。
（１）アルミニウム含有化合物、バリウム含有化合物及びジルコニウム含有化合物を含む混合物であって、アルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲、アルミニウムとジルコニウムのモル比が１：０〜１：０．５の範囲であるものを８００℃以上、１６００℃以下の温度で焼成し、担体を調製する工程。
（２）前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属を担持させる工程。
本出願における第９の発明は、前記アルミニウム含有化合物が、アルミニウム酸化物、アルミニウム水酸化物、アルミニウム硝酸塩、アルミニウム塩化物、アルミニウム酢酸塩、アルミニウム炭酸塩、アルミニウム錯塩、アルミニウムアルコキシドから選択される少なくとも１種類以上であることを特徴とする前記排ガス浄化触媒の製造方法である。
本出願における第１０の発明は前記バリウム含有化合物が、バリウム酸化物、バリウム水酸化物、バリウム硝酸塩、バリウム塩化物、バリウム酢酸塩、バリウム炭酸塩、バリウム錯塩、バリウムアルコキシドから選択される少なくとも１種類以上であることを特徴とする排ガス浄化触媒の製造方法である。
本出願における第１１の発明は、前記ジルコニウム含有化合物は、ジルコニウム酸化物、ジルコニウム水酸化物、ジルコニウム硝酸塩、ジルコニウム塩化物、ジルコニウム酢酸塩、ジルコニウム炭酸塩、ジルコニウム錯塩、ジルコニウムアルコキシドから選択される少なくとも１種類以上であることを特徴とする前記排ガス浄化触媒の製造方法である。
本出願における第１２の発明は、前記排ガス浄化触媒に含まれるアルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲にあることを特徴とする排ガス浄化触媒である。
本出願における第１３の発明は、前記排ガス浄化触媒に含まれるアルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲にあり、アルミニウムとジルコニウムのモル比が１：０〜１：０．５の範囲にあることを特徴とする排ガス浄化触媒である。
本出願における第１３の発明は、前記排ガス浄化触媒に含まれるアルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲にあり、アルミニウムとジルコニウムのモル比が１：０〜１：０．５の範囲にあることを特徴とする排ガス浄化触媒である。
本出願における第１４の発明は、前記排ガス浄化触媒を５質量％〜５０質量％含有してなる水性スラリーに、基体を浸漬し、引き上げた後、温度１００℃〜２００℃の範囲で乾燥させる工程Ａを含むことを特徴とする触媒基体の製造方法である。
本出願における第１５の発明は、第１４の発明に記載の工程Ａに続いて、以下に記載の工程Ｂを１回または２回以上行うことを特徴とする触媒基体の製造方法である。
工程Ｂ：前記排ガス浄化触媒を５質量％〜５０質量％含有してなる水性スラリーに、触媒基体を浸漬し、引き上げた後、温度１００℃〜２００℃の範囲で乾燥させる工程。
本出願における第１５の発明は、第１４の発明に記載の工程Ａに続いて、以下に記載の工程Ｂを１回または２回以上行うことを特徴とする触媒基体の製造方法である。
工程Ｂ：前記排ガス浄化触媒を５質量％〜５０質量％含有してなる水性スラリーに、触媒基体を浸漬し、引き上げた後、温度１００℃〜２００℃の範囲で乾燥させる工程。
本出願における第１６の発明は、前記水性スラリーの２５℃における粘度が、０．７ｍＰａ・ｓ〜２５ｍＰａ・ｓの範囲にあるものであることを特徴とする触媒基体の製造方法である。
本出願における第１７の発明は、前記水性スラリーが粘度調整剤を含むものであることを特徴とする触媒基体の製造方法である。
本出願における第１８の発明は、前記基体がハニカム構造を有するものであることを特徴とする触媒基体の製造方法である。
本出願における第１７の発明は、前記水性スラリーが粘度調整剤を含むものであることを特徴とする触媒基体の製造方法である。
本出願における第１８の発明は、前記基体がハニカム構造を有するものであることを特徴とする触媒基体の製造方法である。
本出願における第１９の発明は、前記排ガス浄化触媒がコート密度２０ｇ／ｌ〜３００ｇ／ｌの範囲でコーティング処理されてなるハニカム型触媒基体である。
本出願における第２０の発明は、前記ハニカム型触媒基体が、体積１ｃｍ３〜５０００ｃｍ３、単位面積あたりのセル数１００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２〜１２００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２の範囲のものであることを特徴とするハニカム型触媒基体である。
本出願における第２０の発明は、前記ハニカム型触媒基体が、体積１ｃｍ３〜５０００ｃｍ３、単位面積あたりのセル数１００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２〜１２００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２の範囲のものであることを特徴とするハニカム型触媒基体である。
本発明によれば、ＢａＡｌ２Ｏ４とＢａＡｌ１２Ｏ１９とを含有する担体に活性金属を担持することにより活性金属の活性が向上するものと推測され、担体の比表面積が低下したり、担体上で活性金属が凝集したりするシンタリングが進行した場合であっても、従来の排ガス浄化触媒に比べて高い触媒活性を維持することができる。この結果、シンタリングの進行に伴う活性の低下を見越して使用開始時に必要量以上の活性金属を担持するといった方策を採る必要がないか、必要があったとしてもその担持量を削減することが可能となり触媒コストの低減に貢献することができる。
［１］排ガス浄化触媒
本発明に係る排ガス浄化触媒は、所定量のＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体に活性金属が担持してなるものである。担体中にＢａＡｌ２Ｏ４とＢａＡｌ１２Ｏ１９が共存することにより、排ガス浄化触媒の高温耐久性が向上し、高温雰囲気下においても優れた触媒性能（排ガス浄化効果）を示すことができる。本発明に係る排ガス浄化触媒について、以下に説明する。
本発明に係る排ガス浄化触媒は、所定量のＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体に活性金属が担持してなるものである。担体中にＢａＡｌ２Ｏ４とＢａＡｌ１２Ｏ１９が共存することにより、排ガス浄化触媒の高温耐久性が向上し、高温雰囲気下においても優れた触媒性能（排ガス浄化効果）を示すことができる。本発明に係る排ガス浄化触媒について、以下に説明する。
排ガス浄化触媒の組成
本発明に係る排ガス浄化触媒は、ＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体であって、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度に対するＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）のピーク強度比が１：０．００１〜１：７の範囲にある担体に活性金属が担持していることを特徴とするものである。前記担体は、例えば、アルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物とを所定の比率で含む混合物の溶液を乾燥し、所定の条件下で焼結させることにより得ることができる。得られた担体は、スピネル構造のＢａＡｌ２Ｏ４とマグネトプライムバイト（magnetoplumbite）構造のＢａＡｌ１２Ｏ１９を含むものとなる。
本発明に係る排ガス浄化触媒は、ＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体であって、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度に対するＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）のピーク強度比が１：０．００１〜１：７の範囲にある担体に活性金属が担持していることを特徴とするものである。前記担体は、例えば、アルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物とを所定の比率で含む混合物の溶液を乾燥し、所定の条件下で焼結させることにより得ることができる。得られた担体は、スピネル構造のＢａＡｌ２Ｏ４とマグネトプライムバイト（magnetoplumbite）構造のＢａＡｌ１２Ｏ１９を含むものとなる。
前記担体について、Ｘ線回折パターンを測定した場合、回折角度２８．２（２Θ／ｄｅｇ）にＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）に対応するピークが現れる。また、同じく回折角度３３．１（２Θ／ｄｅｇ）にＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）面に対応するピークが現れる。このピークの強度比は、担体中に存在するＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９の質量比に対応するものである。本発明においては、両ピーク強度の比率は、１：０．００１〜１：７の範囲にあるものが好ましい。このような担体に活性金属が担持してなる排ガス浄化触媒が、良好な触媒活性と高温での耐久性を示す作用機構の詳細については、明らかではないが、ＢａＡｌ２Ｏ４とＢａＡｌ１２Ｏ１９が共存することにより、活性金属と担体の間の相互作用により、触媒の耐久性が向上したものと推察される。
ＢａＡ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度を１とした場合、ＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）のピーク強度が０．００１未満の場合については、高温雰囲気での触媒の耐久性に問題がある。また、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度１に対して、ＢａＡｌ１２Ｏ１９のピーク強度が７を超える場合については、本発明製造方法により得ることは容易ではない。前記ピーク強度比については、さらに好適には、１：０．０１〜１：６の範囲が推奨される。
本発明に係る排ガス浄化触媒は、前記担体が、さらにＡｌ２Ｏ３、ＢａＺｒＯ３又はＺｒＯ２から選ばれる１種以上を含むものであっても構わない。この場合、そのＸ線回折パターンにおいてＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）面のピーク強度を１とした時のＡｌ２Ｏ３の面指数（１１３）のピーク強度比（Ｄ）は０〜５の範囲、ＢａＺｒＯ３の面指数（３１０）面のピーク強度比（Ｂ）は０〜１の範囲、ＺｒＯ２の面指数（２２０）面のピーク強度比（Ｃ）は０〜１２の範囲（ただし、Ｂ、Ｃ、Ｄのうち少なくとも一つは０でない。）が好ましい。
なお、Ａｌ２Ｏ３の面指数（１１３）のピークは、回折角度４３．４（２Θ／ｄｅｇ）に、ＢａＺｒＯ３の面指数、（３１０）のピークは、回折角度７１．０（２Θ／ｄｅｇ）に、ＺｒＯ２の面指数（２２０）面のピークは、回折角度５０．２（２Θ／ｄｅｇ）に現れる。
担体中に存在するＡｌ２Ｏ３の割合が高まると、相対的にＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９の割合が低下するため、触媒としての耐久性に問題が生じる場合があるので、Ａｌ２Ｏ３の面指数（１１３）のピーク強度比は、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度１に対して、５以下であることが望ましい。
担体中におけるＢａＺｒＯ３又はＺｒＯ２のＸ線回折パターンによるピーク強度は、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度を１とした場合、ＢａＺｒＯ３のそれは１以下、ＺｒＯ２のそれは１２以下が好適である。ＢａＺｒＯ３のピーク強度比が１を超える場合、相対的にＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９の割合が低下するため望ましくない。また、ＺｒＯ２の場合も同じくピーク強度比が１２を超えると、相対的にＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９の割合が低下するため望ましくない。
前記Ａｌ２Ｏ３の前記ピーク強度比については、好適には４以下が推奨され。同じく前記ＢａＺｒＯ３のピーク強度比については、好適には０．４以下が推奨される。また、同じく前記ＺｒＯ２のピーク強度比については、好適には９．８以下が推奨される。
本発明に係る排ガス浄化触媒に含まれるアルミニウムとバリウムの比率については、モル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲にあるものが好ましい。また、本発明に係る排ガス浄化触媒がジルコニウムを含む場合は、アルミニウムとジルコニウムのモル比が１：０〜１：０．５の範囲にあるものが好ましい。
排ガス浄化触媒の性状
従来の排ガス浄化用触媒の比表面積は、概ね１００ｍ２／ｇ程度であり、触媒として使用した場合、経時でシンタリングが進行し、経時で比表面積が低下し、触媒性能が低下する傾向があった。
本発明に係る排ガス浄化触媒の比表面積については、格別に限定されるものではなく、例えば、０．１〜７０ｍ２／ｇの範囲で使用可能であるが、特に０．１ｍ２／ｇ以上、１．３ｍ２／ｇ以下の範囲であることが望ましい。本発明に係る排ガス浄化触媒は、当初から比表面積を低く設計した場合であっても、実用的な触媒活性を示すことが可能である。前記比表面積については、好ましくは０．１ｍ２／ｇ〜２ｍ２／ｇ程度の範囲が推奨される。
従来の排ガス浄化用触媒の比表面積は、概ね１００ｍ２／ｇ程度であり、触媒として使用した場合、経時でシンタリングが進行し、経時で比表面積が低下し、触媒性能が低下する傾向があった。
本発明に係る排ガス浄化触媒の比表面積については、格別に限定されるものではなく、例えば、０．１〜７０ｍ２／ｇの範囲で使用可能であるが、特に０．１ｍ２／ｇ以上、１．３ｍ２／ｇ以下の範囲であることが望ましい。本発明に係る排ガス浄化触媒は、当初から比表面積を低く設計した場合であっても、実用的な触媒活性を示すことが可能である。前記比表面積については、好ましくは０．１ｍ２／ｇ〜２ｍ２／ｇ程度の範囲が推奨される。
活性金属
前記活性金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属が使用される。
排ガス浄化触媒の担体中にスピネル構造のＢａＡｌ２Ｏ４やマグネトプライムバイト構造のＢａＡｌ１２Ｏ１９を含有していることで、汚染物質の分解活性が高くなり、また、その耐久性が向上する理由は必ずしも明らかではないが、ＢａＡｌ２Ｏ４とＢａＡｌ１２Ｏ１９とを含んだ担体に、貴金属からなる活性金属を担持すると、ＢａＡｌ２Ｏ４やＢａＡｌ１２Ｏ１９は該活性金属に対して、助触媒としての役割を果たしているものと考えられる。
前記活性金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属が使用される。
排ガス浄化触媒の担体中にスピネル構造のＢａＡｌ２Ｏ４やマグネトプライムバイト構造のＢａＡｌ１２Ｏ１９を含有していることで、汚染物質の分解活性が高くなり、また、その耐久性が向上する理由は必ずしも明らかではないが、ＢａＡｌ２Ｏ４とＢａＡｌ１２Ｏ１９とを含んだ担体に、貴金属からなる活性金属を担持すると、ＢａＡｌ２Ｏ４やＢａＡｌ１２Ｏ１９は該活性金属に対して、助触媒としての役割を果たしているものと考えられる。
前記排ガス浄化触媒に占める活性金属の割合については、０．０１質量％以上、２．０質量％以下の範囲が好ましい。活性金属の割合が０．０１質量％未満の場合は、実用的な触媒性能が得られない場合がある。また、活性金属の割合が２．０質量％を超える場合は、触媒活性を向上させる効果が飽和する傾向が強くなるので、必ずしも必要とはされない。排ガス浄化触媒に占める活性金属の割合については、さらに好適には０．０３〜１．０質量％の範囲が推奨される。
前記活性金属については、担体に担持して平均粒子径２〜７００ｎｍの範囲であることが好ましい。２ｎｍ未満の場合は、調製が容易ではない場合がある。７００ｎｍを超える場合は、比表面積が小さくなるため、触媒活性の低下が顕著となる場合がある。前記活性金属の平均粒子径については、更に好適には１０〜１００ｎｍの範囲が推奨される。
本発明に係る排ガス浄化触媒には、前記活性金属に加えて、例えば遷移金属元素あるいは希土類元素等の元素、例えばＴｉ（チタン）、Ｍｎ（マンガン）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）、Ｙ（イットリウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｃｅ（セリウム）、Ｐｒ（プラセオジム）などから選択される１以上の元素を添加剤として担持しても構わない。これらの添加剤は、活性向上の目的で必要に応じて適宜添加される。
［２］排ガス浄化触媒の製造方法
本発明に係る排ガス浄化触媒は、アルミニウム含有化合物及びバリウム含有化合物の混合物を８００〜１６００℃の範囲で焼成し、得られた担体に活性金属を担持させることを特徴とするものである。本発明に係る排ガス浄化触媒の製造方法について、以下に記す。
本発明に係る排ガス浄化触媒は、アルミニウム含有化合物及びバリウム含有化合物の混合物を８００〜１６００℃の範囲で焼成し、得られた担体に活性金属を担持させることを特徴とするものである。本発明に係る排ガス浄化触媒の製造方法について、以下に記す。
担体の製造工程
本発明に係る排ガス浄化触媒は、例えば次のようにして製造することができるが、これに限定されるものではない。
原料としては、少なくともアルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物を使用する。通常は、バリウム、アルミニウム夫々の酸化物、水酸化物、硝酸塩、塩化物、酢酸塩、炭酸塩、錯塩及びアルコキシドから選ばれる１種類以上ずつを使用する。
本発明に係る排ガス浄化触媒は、例えば次のようにして製造することができるが、これに限定されるものではない。
原料としては、少なくともアルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物を使用する。通常は、バリウム、アルミニウム夫々の酸化物、水酸化物、硝酸塩、塩化物、酢酸塩、炭酸塩、錯塩及びアルコキシドから選ばれる１種類以上ずつを使用する。
具体的には、前記アルミニウム含有化合物としては、アルミニウム酸化物、アルミニウム水酸化物、アルミニウム硝酸塩、アルミニウム塩化物、アルミニウム酢酸塩、アルミニウム炭酸塩、アルミニウム錯塩又はアルミニウムアルコキシドから選ばれるアルミニウム含有化合物が好適に使用される。また、前記バリウム含有化合物としては、バリウム酸化物、バリウム水酸化物、バリウム硝酸塩、バリウム塩化物、バリウム酢酸塩、バリウム炭酸塩、バリウム錯塩又はバリウムアルコキシドから選ばれるバリウム含有化合物が好適に使用される。
使用するアルミニウム含有化合物及びバリウム含有化合物の性状（例えば、粉末状であるか溶液であるかなど）に応じて固相混合法、液相混合法、共沈法、含浸法などの適切な混合方法を選択し、これらの原料の混合物を調製する。
なお、担体の調製にあたっては、前記アルミニウム含有化合物及びバリウム含有化合物に加えて、ジルコニウム含有化合物を加えても構わない。使用するジルコニウム含有化合物としては、ジルコニウム酸化物、ジルコニウム水酸化物、ジルコニウム硝酸塩、ジルコニウム塩化物、ジルコニウム酢酸塩、ジルコニウム炭酸塩、ジルコニウム錯塩、ジルコニウムアルコキシドからなるジルコニウム源群から選択される少なくとも１種類以上を使用することができる。
各原料を混合するにあたっては、各原料の混合比と、焼成後の担体中のＢａＡｌ２Ｏ４とＢａＡｌ１２Ｏ１９の含有量との相関関係を予備実験などにより予め求めておき、排ガス浄化触媒中のＢａＡｌ２Ｏ４、ＢａＡｌ１２Ｏ１９の含有量が設計値となるように各原料の混合比を当該相関に基づいて決定することが望ましいが、通常は、アルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物とを、アルミニウムとバリウムのモル比を１：０．０４〜１：０．８の範囲に調整して混合することが好ましい。また、ジルコニウム含有化合物を使用する場合は、アルミニウムとジルコニウムとのモル比が１：０〜１：０．５の範囲に調整して混合することが好ましい。
既述のように本実施の形態に係わる担体中には、スピネル構造のＢａＡｌ２Ｏ４とマグネトプライムバイト構造のＢａＡｌ１２Ｏ１９との２種類の物質が含有されていることが必要である。即ち、前記混合物を例えば８００℃よりも低い温度にて焼成し、例えば単純にＢａＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２の結晶のみが混ざり合った単体を得たとしても、本実施の形態に係わる排ガス浄化触媒のように、比表面積が小さく、粒径の大きな活性金属が担持された状態において高い触媒活性を示す排ガス浄化触媒を得ることはできない。
得られた混合物は、必要に応じて乾燥させ、その後、例えば空気中で８００℃〜１６００℃の範囲の温度にて焼成することにより、本実施の形態に係わる排ガス浄化触媒の担体を得ることができる。焼成温度が８００℃よりも低い場合には、スピネル構造のＢａＡｌ２Ｏ４及びマグネトプライムバイト構造のＢａＡｌ１２Ｏ１９が形成されにくく十分な触媒活性を得ることができない。また１６００℃を越える温度で焼成を行う場合には、耐熱性の高い特殊な炉材を用いた焼成炉が必要となり経済性が低くなるおそれがある。
活性金属の担持工程
本発明に係る排ガス浄化触媒の製造方法においては、前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、ＡｕまたはＡｇから選ばれる貴金属から選ばれる活性金属を担持させる。担持方法については、格別に限定されるものではないが、通常は固相混合法、液相混合法、共沈法、含浸法、逆ミセル法などの各種の担持法が適用される。
本発明に係る排ガス浄化触媒の製造方法においては、前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、ＡｕまたはＡｇから選ばれる貴金属から選ばれる活性金属を担持させる。担持方法については、格別に限定されるものではないが、通常は固相混合法、液相混合法、共沈法、含浸法、逆ミセル法などの各種の担持法が適用される。
例えば含浸法による場合は、前記活性金属の単体の溶液または前記活性金属を含む化合物（例えば、金属塩、金属酸化物、金属水酸化物）の溶液に、前記工程で調製した担体を含浸させ、溶媒を蒸発乾固体させた後、大気中または不活性雰囲気中にて温度３００〜５５０℃で焼成することにより、排ガス浄化触媒を調製する。前記焼成時間については、通常は１〜５時間の範囲で行なわれる。なお、焼成に先立って、温度９０〜１５０℃で１〜１２時間の範囲で乾燥処理を行っても構わない。
前記活性金属の単体又は活性金属を含む化合物の溶液の溶媒については、水または有機溶媒が使用される。ここで、有機溶媒としては、担体、活性金属の単体金属又は活性金属を含む化合物と反応性のないものであれば使用することができる。
排ガス浄化触媒における前記活性金属の担持量又は担持した活性金属の粒子径については、活性金属の担持方法によっても異なるが、通常は前記活性金属の金属単体の溶液又は活性金属を含む化合物の溶液に含まれる金属成分の濃度を調節することにより制御することができる。金属濃度としては、通常は０．１〜１０質量％の範囲が選択される。なお、排ガス浄化触媒に担持した活性金属の粒子径については、担体の組成によっても影響を受ける場合があるため、排ガス浄化触媒の設計に当たっては、事前に担体組成、活性金属の種類、活性金属単体溶液又は活性金属を含む化合物の溶液濃度などについて、実験により検量線を作成することが推奨される。
本発明に係る排ガス浄化触媒における活性金属の担持量は、排ガス浄化触媒の全質量に対して、０．０１重量％〜２．０重量％の範囲が望ましく、更に好適には０．０３重量％〜２．０重量％の範囲が推奨される。活性金属の担持量が０．０１質量％を下回る場合には、十分な触媒活性が得られないことがあり、担持量が２．０質量％を上回る場合には触媒活性を向上させる効果が飽和する場合があり、２．０質量％以上の担持は不要となる場合がある。
製造された排ガス浄化触媒は、例えばセラミック製のハニカム基体に例えば吸引法、流し込み法またはウォッシュコート法などによってコーティングすることにより、本実施の形態の触媒基体（ハニカム型触媒基体）であるモノリス触媒を得ることができる。ウォッシュコート法は、前記排ガス浄化触媒を均一に分散させ、粘度を調整した水性スラリー中に当該基体を浸漬してから引き上げ、これを乾燥させることにより触媒をコーティングする手法である。なお、自動車などに搭載する排ガス浄化触媒の形状はモノリス触媒に限定されるものではなく、例えば打錠や転動により、触媒をペレット状に形成してもよい。
ウォッシュコート法によるモノリス触媒の製造方法について以下に記す。
（水性スラリーの調製）
前記排ガス浄化触媒を（Ａ）水または（Ｂ）水及び水溶性溶媒からなる混合溶媒に分散させることにより水性スラリーを調製する。水性スラリーにおける排ガス浄化触媒の濃度（固形分濃度）については、５質量％〜５０質量％の範囲が好ましい。５質量％未満では、基体の浸漬を反復する回数が多くなり、また、５０質量％を超える場合は、粘度が増大し、例えばセラミック製のハニカム基体であれば、スラリーがセルの中を通り抜けにくいといった問題がある。水性スラリーにおける排ガス浄化触媒の濃度については、さらに好適には５質量％〜１０質量％の範囲が推奨される。
（水性スラリーの調製）
前記排ガス浄化触媒を（Ａ）水または（Ｂ）水及び水溶性溶媒からなる混合溶媒に分散させることにより水性スラリーを調製する。水性スラリーにおける排ガス浄化触媒の濃度（固形分濃度）については、５質量％〜５０質量％の範囲が好ましい。５質量％未満では、基体の浸漬を反復する回数が多くなり、また、５０質量％を超える場合は、粘度が増大し、例えばセラミック製のハニカム基体であれば、スラリーがセルの中を通り抜けにくいといった問題がある。水性スラリーにおける排ガス浄化触媒の濃度については、さらに好適には５質量％〜１０質量％の範囲が推奨される。
前記水溶性溶媒としては、通常は、水溶性アルコール類、ケトン類、アルデヒト類、エーテル類、エステル類、カルボン酸類、ヒドロキシ酸類などが好適に使用される。このうち実用的には、アルコール類、ケトン類、カルボン酸類などが好ましい。水と水溶性溶媒の混合比としては、通常は、１００：０〜１００：４０の範囲が望ましい。
前記水性スラリーについては、好適には、２５℃での粘度が０．７ｍＰａ・ｓ〜２５ｍＰａ・ｓの範囲であるものが好適に使用される。粘度が０．７ｍＰａ・ｓ未満の場合は、基体の浸漬処理を反復する回数が増大し、実用的ではない。また、粘度が２５ｍＰａ・ｓを超える場合は、例えばセラミック製のハニカム基体であれば、スラリーがセルの中を通り抜けにくいといった問題がある。水性スラリーの粘度のさらに好適な範囲としては１ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの範囲が推奨される。
前記水性スラリーには、必要に応じて、粘度調整剤を添加してもかまわない。このような粘度調整剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース系粘度調整剤、ポリアクリル酸ナトリウム、アルカリ可溶性エマルション、会合型アルカリ可溶性エマルションなどのポリカルボン酸系粘度調整剤、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコールアルキルエステル、会合型ポリエチレングリコール誘導体などのポリエチレングリコール系粘度調整剤、ポリビニルアルコールなどのその他の水溶性高分子系粘度調整剤、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイトなどのスメクタイト系の粘度調整剤などが挙げられる。これらの粘度調整剤は、単独で用いても２種類以上を併用してもよい。なお、前記水溶性溶媒の中にも粘度調整機能を有するものがある。この例としてはポリビニルアルコールなどを挙げることができる。粘度調整剤の添加量については、水性スラリーを所望の粘度に調整できる程度の添加されるものであるが、通常は水性スラリーに対して０質量％〜４０質量％の範囲で添加される。
（浸漬処理）
水性スラリーへの基体の浸漬については、水性スラリーを満たした容器に基体の全体を浸し、通常は１０秒〜３００秒経過した後、引き上げる方法がとられる。浸漬処理を行う際の水性スラリーの温度については、通常は常温で行われるが、基体上に予定した程度の量の水性スラリーがコートされる限り、格別に制限されるものではない。
水性スラリーへの基体の浸漬については、水性スラリーを満たした容器に基体の全体を浸し、通常は１０秒〜３００秒経過した後、引き上げる方法がとられる。浸漬処理を行う際の水性スラリーの温度については、通常は常温で行われるが、基体上に予定した程度の量の水性スラリーがコートされる限り、格別に制限されるものではない。
（乾燥処理）
水性スラリーへの浸漬処理を終えた基体については、温度１００℃〜２００℃の範囲で、加熱、乾燥を行う。乾燥処理時間としては、通常は１０分〜１２０分の範囲で行われるが、この範囲に限定されるものではない。乾燥温度が１００℃未満の場合は、乾燥効率の点で実用性に劣る。２００℃を超える場合は急激な乾燥によりコート層が剥離する問題がある。
基体にウォッシュコート法にて触媒層をコートする場合、通常は所望のコート密度が得られるまで、得られた触媒基体にさらに１回または２回以上のウォッシュコート法を適用して、コート密度を高める方法がとられる。例えば、ハニカム基体へのガス浄化触媒のコート密度が、２０ｇ／ｌ〜３００ｇ／ｌの範囲となるようにコーティング処理することが好適である。
水性スラリーへの浸漬処理を終えた基体については、温度１００℃〜２００℃の範囲で、加熱、乾燥を行う。乾燥処理時間としては、通常は１０分〜１２０分の範囲で行われるが、この範囲に限定されるものではない。乾燥温度が１００℃未満の場合は、乾燥効率の点で実用性に劣る。２００℃を超える場合は急激な乾燥によりコート層が剥離する問題がある。
基体にウォッシュコート法にて触媒層をコートする場合、通常は所望のコート密度が得られるまで、得られた触媒基体にさらに１回または２回以上のウォッシュコート法を適用して、コート密度を高める方法がとられる。例えば、ハニカム基体へのガス浄化触媒のコート密度が、２０ｇ／ｌ〜３００ｇ／ｌの範囲となるようにコーティング処理することが好適である。
（基体）
触媒層をコートして触媒基体とするための基体としては、ハニカム構造体が好適に用いられる。ハニカム構造体からなる基体の材質としては、例えばコージェライト製のセラミックハニカムなどが使用されるが、これに限定されるものではない。例えばコルゲートハニカムやメタルハニカムなどでもよい。ハニカム構造体の仕様としては、通常は体積が１ｃｍ３〜５０００ｃｍ３、単位面積あたりのセル数が１００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２〜１２００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２のものが好適に使用される。
触媒層をコートして触媒基体とするための基体としては、ハニカム構造体が好適に用いられる。ハニカム構造体からなる基体の材質としては、例えばコージェライト製のセラミックハニカムなどが使用されるが、これに限定されるものではない。例えばコルゲートハニカムやメタルハニカムなどでもよい。ハニカム構造体の仕様としては、通常は体積が１ｃｍ３〜５０００ｃｍ３、単位面積あたりのセル数が１００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２〜１２００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２のものが好適に使用される。
以上に述べた手法によって得られた排ガス浄化触媒は、後述の実験結果に示すように、従来の排ガス浄化触媒と比較して比表面積が小さく、且つ活性金属の担持量が少ないにも拘らず、排ガス中の窒素酸化物や一酸化炭素、炭化水素を分解して排ガスを浄化する高い触媒活性を備えている。さらにこの排ガス浄化触媒は、高温の排ガスと長期間接触させてもその触媒活性が低下しにくいといった特徴も備えている。
［１］Ｘ線回折測定（ＸＲＤ）
Ｘ線回折測定は株式会社リガク製MultiFlexを用いた。測定はＸ線源をＣｕ、波長15.4056nm）、管電圧を４０ｋＶ、管電流を２０ｍＡ、データ範囲を２Θ=１０〜８０Ｄｅｇ．、サンプリング間隔を０．０２Ｄｅｇ．、スキャン速度を０．３Ｄｅｇ．/秒、発散スリットを１．０Ｄｅｇ．、散乱スリットを１．０Ｄｅｇ．、発光スリットを０．３ｍｍの条件で行った。
Ｘ線回折測定は株式会社リガク製MultiFlexを用いた。測定はＸ線源をＣｕ、波長15.4056nm）、管電圧を４０ｋＶ、管電流を２０ｍＡ、データ範囲を２Θ=１０〜８０Ｄｅｇ．、サンプリング間隔を０．０２Ｄｅｇ．、スキャン速度を０．３Ｄｅｇ．/秒、発散スリットを１．０Ｄｅｇ．、散乱スリットを１．０Ｄｅｇ．、発光スリットを０．３ｍｍの条件で行った。
［２］比表面積測定
比表面積はＢＥＴ法によって測定した。測定はユアサアイオニクス株式会社製マルチソーブ１２型を用い、サンプルの前処理は２５０℃で４０分間行った。
比表面積はＢＥＴ法によって測定した。測定はユアサアイオニクス株式会社製マルチソーブ１２型を用い、サンプルの前処理は２５０℃で４０分間行った。
［３］ＣＯパルス法による担持微粒子の平均粒子径測定
貴金属の担持微粒子の平均粒子径測定は、自作の流通式の装置を用いた。測定は日本触媒学会発行の触媒(1986年,page28-41)に記載されているＣＯパルス法によって求めた。
貴金属の担持微粒子の平均粒子径測定は、自作の流通式の装置を用いた。測定は日本触媒学会発行の触媒(1986年,page28-41)に記載されているＣＯパルス法によって求めた。
［４］触媒活性試験
実施例及び比較例で調製した各排ガス浄化触媒を高温雰囲気下で保持する高温耐久処理を行い、処理前後での触媒の活性を調べた。使用したモノリス触媒の作製方法とライトオフ温度の測定方法は次の通り。
実施例及び比較例で調製した各排ガス浄化触媒を高温雰囲気下で保持する高温耐久処理を行い、処理前後での触媒の活性を調べた。使用したモノリス触媒の作製方法とライトオフ温度の測定方法は次の通り。
（１）モノリス触媒の作製方法
実施例及び比較例で調製した排ガス浄化触媒を水に分散して、排ガス浄化用触媒を含有するスラリー（固形分３０質量％）を得た。そして、コージェライト製のセラミックハニカム基体（体積５．３ｃｍ３、４００cells／inch２）を前記スラリー中に浸漬し、引き上げる方法（ウォッシュコート法）により、コート密度が１００ｇ／Ｌとなるようにコートして、基体上に均一な触媒層を形成させ、サンプル用のモノリス触媒を得た。なお、乾燥条件は、何れも温度１５０℃、３０分とし、ウォッシュコートの回数は１回とした。
実施例及び比較例で調製した排ガス浄化触媒を水に分散して、排ガス浄化用触媒を含有するスラリー（固形分３０質量％）を得た。そして、コージェライト製のセラミックハニカム基体（体積５．３ｃｍ３、４００cells／inch２）を前記スラリー中に浸漬し、引き上げる方法（ウォッシュコート法）により、コート密度が１００ｇ／Ｌとなるようにコートして、基体上に均一な触媒層を形成させ、サンプル用のモノリス触媒を得た。なお、乾燥条件は、何れも温度１５０℃、３０分とし、ウォッシュコートの回数は１回とした。
（２）ライトオフ温度の測定方法
各モノリス触媒を８００℃に加熱した大気雰囲気中で２４時間保持する高温耐久処理を行い、当該処理の前後にてモデルガスを処理し、各触媒の耐久性能を調べた。
モデルガスの処理実験にあたっては、各モノリス触媒を常圧流通式の試験装置に装填し、（表１）に示す組成のモデルガス（理論空気比１４．７）を空間速度５００００ｈ−１で通流した。試験装置の触媒のホルダーにはヒータが設けられており、このヒータによりモノリス触媒の温度を１５０℃から６５０℃へと漸次上昇させ、モデルガス中のプロピレン（Ｃ３Ｈ６：以下ＨＣという）の浄化率（（モノリス触媒入口のＨＣ濃度−モノリス触媒出口のＨＣ濃度）×１００／モノリス触媒入口のＨＣ濃度［％］）が５０％に達したときの温度をライトオフ温度（以下、Ｔ５０温度と記す）と定義して、このライトオフ温度を比較することにより評価を行った。
ＮＯ：一酸化窒素、ＣＯ：一酸化炭素、Ｈ２：水素、Ｃ３Ｈ６：プロピレン、Ｎ２：窒素
各モノリス触媒を８００℃に加熱した大気雰囲気中で２４時間保持する高温耐久処理を行い、当該処理の前後にてモデルガスを処理し、各触媒の耐久性能を調べた。
モデルガスの処理実験にあたっては、各モノリス触媒を常圧流通式の試験装置に装填し、（表１）に示す組成のモデルガス（理論空気比１４．７）を空間速度５００００ｈ−１で通流した。試験装置の触媒のホルダーにはヒータが設けられており、このヒータによりモノリス触媒の温度を１５０℃から６５０℃へと漸次上昇させ、モデルガス中のプロピレン（Ｃ３Ｈ６：以下ＨＣという）の浄化率（（モノリス触媒入口のＨＣ濃度−モノリス触媒出口のＨＣ濃度）×１００／モノリス触媒入口のＨＣ濃度［％］）が５０％に達したときの温度をライトオフ温度（以下、Ｔ５０温度と記す）と定義して、このライトオフ温度を比較することにより評価を行った。
［実施例１］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）５４４ｇ（固形分５４．４ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔ金属として４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。また、Ｘ線回折パターンを図１に示す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）５４４ｇ（固形分５４．４ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔ金属として４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。また、Ｘ線回折パターンを図１に示す。
［実施例２］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）３７ｇを混合し、硝酸バリウム水溶液（和光純薬工業株式会社製、和光特級）（固形分１０質量％）８４６ｇ（固形分８４．６ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔ金属として４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）３７ｇを混合し、硝酸バリウム水溶液（和光純薬工業株式会社製、和光特級）（固形分１０質量％）８４６ｇ（固形分８４．６ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔ金属として４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［実施例３］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）３７ｇを混合し、硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）８４６ｇ（固形分８４．６ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）５．６ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）３７ｇを混合し、硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）８４６ｇ（固形分８４．６ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）５．６ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［実施例４］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）３７ｇを混合し、硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）８４６ｇ（固形分８４．６ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）３７ｇを混合し、硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）８４６ｇ（固形分８４．６ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［実施例５］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）２６ｇを混合し、硝酸バリウム水溶液（和光純薬工業株式会社製、和光特級）（固形分１０質量％）１９５ｇ（固形分１９．５ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇに硝酸ロジウム溶液（田中貴金属工業株式会社Ｒｈとして４質量％含有）１．２５ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｒｈの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）２６ｇを混合し、硝酸バリウム水溶液（和光純薬工業株式会社製、和光特級）（固形分１０質量％）１９５ｇ（固形分１９．５ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇに硝酸ロジウム溶液（田中貴金属工業株式会社Ｒｈとして４質量％含有）１．２５ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｒｈの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［実施例６］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）２６ｇを混合し、硝酸バリウム水溶液（和光純薬工業株式会社製、和光特級）（固形分１０質量％）２９５ｇ（固形分２９．５ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔ金属として４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）２６ｇを混合し、硝酸バリウム水溶液（和光純薬工業株式会社製、和光特級）（固形分１０質量％）２９５ｇ（固形分２９．５ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔ金属として４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［比較例１］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）からなる担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）からなる担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［比較例２］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）からなる担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）からなる担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）１１．１ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［比較例５］
ＢａＡｌ２Ｏ４粉末（株式会社高純度化学研究所製、２Ｎ）７５ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）２５ｇを混合することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
ＢａＡｌ２Ｏ４粉末（株式会社高純度化学研究所製、２Ｎ）７５ｇと酸化ジルコニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）２５ｇを混合することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［比較例６］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）１４１ｇ（固形分１４．１ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）１００ｇと硝酸バリウム（和光純薬工業株式会社製、和光特級）水溶液（固形分１０質量％）１４１ｇ（固形分１４．１ｇ）を加えて、その全量を含浸させた後、ホットプレートを用いて水分を蒸発させて乾固した。乾固して得られ固体をさらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥させた後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。
得られた担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［比較例７］
ＢａＡｌ２Ｏ４粉末（株式会社高純度化学研究所製、２Ｎ）からなる担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
ＢａＡｌ２Ｏ４粉末（株式会社高純度化学研究所製、２Ｎ）からなる担体５０ｇにジニトロジアンミン白金溶液（田中貴金属工業株式会社、Ｐｔとして４．５質量％含有）３．３３ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、１５００℃の大気雰囲気中で１０時間焼成することにより粉体状の担体を調製した。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｐｔの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
［比較例８］
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）からなる担体５０ｇに硝酸ロジウム溶液（田中貴金属工業株式会社Ｒｈとして４質量％含有）１．２５ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｒｈの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
酸化アルミニウム粉末（和光純薬工業株式会社製、和光特級）からなる担体５０ｇに硝酸ロジウム溶液（田中貴金属工業株式会社Ｒｈとして４質量％含有）１．２５ｇを加えて、その全量を含浸させ、ホットプレートを用いて、蒸発乾固させて、さらに１１０℃の大気雰囲気中で３時間乾燥後、４００℃の大気雰囲気中で３時間焼成し、排ガス浄化触媒を得た。この排ガス浄化触媒についての調製条件を表２、表３に記し、分析結果（Ｘ線回折、比表面積、Ｒｈの平均粒子径）並びにライトオフ温度の測定結果を表４および表５に記す。
Claims (20)
- ＢａＡｌ２Ｏ４およびＢａＡｌ１２Ｏ１９を含む担体であって、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度に対するＢａＡｌ１２Ｏ１９の面指数（１０７）のピーク強度比が１：０．００１〜１：７の範囲にある担体に活性金属が担持していることを特徴とする排ガス浄化触媒。
- 前記担体が更にＡｌ２Ｏ３、ＢａＺｒＯ３又はＺｒＯ２から選ばれる１種以上を含むものであり、その２Θ値及び相対強度で規定されるＸ線回折パターンにおいて、ＢａＡｌ２Ｏ４の面指数（２０２）のピーク強度を１とした時のＡｌ２Ｏ３の面指数（１１３）のピーク強度比（Ｄ）が０〜５の範囲、ＢａＺｒＯ３の面指数（３１０）のピーク強度比（Ｂ）が０〜１の範囲、ＺｒＯ２の面指数（２２０）のピーク強度比（Ｃ）が０〜１２の範囲（ただし、Ｂ、Ｃ又はＤのうち少なくとも一つは０でない。）にあることを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化触媒。
- 前記排ガス浄化触媒の比表面積が０．１ｍ２／ｇ以上、７０ｍ２／ｇ以下の範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の排ガス浄化触媒。
- 前記活性金属がＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の排ガス浄化触媒。
- 前記活性金属の担持量が、前記排ガス浄化触媒の０．０１質量％以上、２．０質量％以下の範囲にあることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の排ガス浄化触媒。
- 前記排ガス浄化触媒に担持された活性金属の平均粒径が２ｎｍ以上、７００ｎｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の排ガス浄化触媒。
- 次の（１）と（２）の工程を含むことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の排ガス浄化触媒の製造方法。
（１）アルミニウム含有化合物とバリウム含有化合物とを含む混合物であって、アルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲であるものを８００℃以上、１６００℃以下の温度で焼成し、担体を調製する工程。
（２）前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属を担持させる工程。 - 次の（１）と（２）の工程を含むことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の排ガス浄化触媒の製造方法。
（１）アルミニウム含有化合物、バリウム含有化合物及びジルコニウム含有化合物を含む混合物であって、アルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲、アルミニウムとジルコニウムのモル比が１：０〜１：０．５の範囲であるものを８００℃以上、１６００℃以下の温度で焼成し、担体を調製する工程。
（２）前記担体にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｕ及びＡｇからなる貴金属群から選ばれる少なくとも１種類以上の活性金属を担持させる工程。 - 前記アルミニウム含有化合物が、アルミニウム酸化物、アルミニウム水酸化物、アルミニウム硝酸塩、アルミニウム塩化物、アルミニウム酢酸塩、アルミニウム炭酸塩、アルミニウム錯塩、アルミニウムアルコキシドから選択される少なくとも１種類以上であることを特徴とする請求項７または８記載の排ガス浄化触媒の製造方法。
- 前記バリウム含有化合物が、バリウム酸化物、バリウム水酸化物、バリウム硝酸塩、バリウム塩化物、バリウム酢酸塩、バリウム炭酸塩、バリウム錯塩、バリウムアルコキシドから選択される少なくとも１種類以上であることを特徴とする請求項７または８記載の排ガス浄化触媒の製造方法。
- 前記ジルコニウム含有化合物は、ジルコニウム酸化物、ジルコニウム水酸化物、ジルコニウム硝酸塩、ジルコニウム塩化物、ジルコニウム酢酸塩、ジルコニウム炭酸塩、ジルコニウム錯塩、ジルコニウムアルコキシドから選択される少なくとも１種類以上であることを特徴とする請求項８記載の排ガス浄化触媒の製造方法。
- 前記排ガス浄化触媒に含まれるアルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲にあることを特徴とする請求項１記載の排ガス浄化触媒。
- 前記排ガス浄化触媒に含まれるアルミニウムとバリウムのモル比が１：０．０４〜１：０．８の範囲にあり、アルミニウムとジルコニウムのモル比が１：０〜１：０．５の範囲にあることを特徴とする請求項２記載の排ガス浄化触媒。
- 請求項１〜６、１２、１３の何れかに記載の排ガス浄化触媒を５質量％〜５０質量％含有してなる水性スラリーに、基体を浸漬し、引き上げた後、温度１００℃〜２００℃の範囲で乾燥させる工程Ａを含むことを特徴とする触媒基体の製造方法。
- 請求項１４記載の工程Ａに続いて、以下に記載の工程Ｂを１回または２回以上行うことを特徴とする触媒基体の製造方法。
工程Ｂ：前記排ガス浄化触媒を５質量％〜５０質量％含有してなる水性スラリーに、触媒基体を浸漬し、引き上げた後、温度１００℃〜２００℃の範囲で乾燥させる工程。 - 前記水性スラリーの２５℃における粘度が、０．７ｍＰａ・ｓ〜２５ｍＰａ・ｓの範囲にあるものであることを特徴とする請求項１４または請求項１５記載の触媒基体の製造方法。
- 前記水性スラリーが粘度調整剤を含むものであることを特徴とする請求項１４、請求項１５または請求項１６記載の触媒基体の製造方法。
- 前記基体がハニカム構造を有するものであることを特徴とする請求項１４、請求項１５、請求項１６または請求項１７記載の触媒基体の製造方法。
- 請求項１〜６、１２、１３の何れかに記載の排ガス浄化触媒がコート密度２０ｇ／ｌ〜３００ｇ／ｌの範囲でコーティング処理されてなるハニカム型触媒基体。
- 前記ハニカム型触媒基体が、体積１ｃｍ３〜５０００ｃｍ３、単位面積あたりのセル数１００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２〜１２００ｃｅｌｌｓ／ｉｎｃｈ２の範囲のものであることを特徴とする請求項１９記載のハニカム型触媒基体。
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