JP2010204508A - 光スイッチング装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 49
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 11
- 101100245381 Caenorhabditis elegans pbs-6 gene Proteins 0.000 abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子8を備えた複数のチップ9を所定状態に配置して有する空間光変調手段4に光源2から光源光を照射すると共に、前記複数の光変調素子8を駆動制御して前記空間光変調手段4の射出光をオン・オフする光スイッチング装置1であって、前記空間光変調手段4は、前記光源光をPBS6により偏波面が直交する二つの直線偏光に分離し、該二つの直線偏光を前記複数のチップ9に照射させる構成としたものである。
【選択図】図1
Description
先ず、光源2から放射されたランダム偏光Rは、光ビーム整形手段3により図1において手前から奥に延びた横断面細線状の光ビームに整形される。
先ず、光スイッチング装置1の光源2が点灯された後、被露光体25を矢印A方向に搬送しながら撮像手段27で被露光体25表面に形成された基準パターン上の露光位置の画像を撮像する。撮像された画像は、制御手段29の画像処理部30で画像処理されて画像データに変換される。そして、この画像データは、CADデータ記憶部31から読み出された対応するCADデータと比較器32で比較され両画像データの搬送方向に略直交する方向のずれ量が検出される。
2…光源
3…光ビーム整形手段
4…空間光変調手段
6…PBS(偏光ビームスプリッタ)
8…光変調素子
9…チップ
12A…第1のチップ列
12B…第2のチップ列
21…波長板
Claims (5)
- 電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子を備えた複数のチップを所定状態に配置して有する空間光変調手段に光源から光源光を照射すると共に、前記複数の光変調素子を駆動制御して前記空間光変調手段の射出光をオン・オフする光スイッチング装置であって、
前記空間光変調手段は、前記光源光を偏光ビームスプリッタにより偏波面が直交する二つの直線偏光に分離し、該二つの直線偏光を前記複数のチップに照射させる構成としたことを特徴とする光スイッチング装置。 - 前記複数のチップは、所定の配列ピッチで二列に並べて配置されており、
前記分離された二つの直線偏光は、前記二列に並んだ複数のチップに夫々照射することを特徴とする請求項1記載の光スイッチング装置。 - 前記二列に並んだ複数のチップは、前記並び方向に互い違いに配置されると共に、各チップに備えた複数の光変調素子が前記並び方向に所定の配列ピッチで並ぶように配置されたことを特徴とする請求項2記載の光スイッチング装置。
- 前記空間光変調手段に入射する光源光の光路上に、該光源光を横断面細線状の光ビームに整形する光ビーム整形手段を配設したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光スイッチング装置。
- 前記偏光ビームスプリッタにより分離された二つの直線偏光のうち一方の直線偏光の光路上に偏波面を90度回転させる波長板を配置したことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光スイッチング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009051564A JP5354779B2 (ja) | 2009-03-05 | 2009-03-05 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009051564A JP5354779B2 (ja) | 2009-03-05 | 2009-03-05 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010204508A true JP2010204508A (ja) | 2010-09-16 |
JP5354779B2 JP5354779B2 (ja) | 2013-11-27 |
Family
ID=42966038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009051564A Expired - Fee Related JP5354779B2 (ja) | 2009-03-05 | 2009-03-05 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5354779B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012063608A1 (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
RU2490680C2 (ru) * | 2011-08-31 | 2013-08-20 | Юрий Николаевич Перепелицын | Фотонный матричный переключатель |
WO2019026912A1 (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光源装置及びレーザ光照射装置 |
WO2019117040A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置および物品の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0466915A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-03-03 | Minolta Camera Co Ltd | 光シャッタ装置 |
JP2003142379A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-16 | Hitachi Ltd | パターン露光方法及びその装置並びに電子装置の製造方法及び電子装置 |
-
2009
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0466915A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-03-03 | Minolta Camera Co Ltd | 光シャッタ装置 |
JP2003142379A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-16 | Hitachi Ltd | パターン露光方法及びその装置並びに電子装置の製造方法及び電子装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012063608A1 (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
JP2012104723A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-31 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
TWI638236B (zh) * | 2010-11-12 | 2018-10-11 | V科技股份有限公司 | 曝光裝置(二) |
RU2490680C2 (ru) * | 2011-08-31 | 2013-08-20 | Юрий Николаевич Перепелицын | Фотонный матричный переключатель |
WO2019026912A1 (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光源装置及びレーザ光照射装置 |
JP2019029625A (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光源装置及びレーザ光照射装置 |
WO2019117040A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置および物品の製造方法 |
JP2019109307A (ja) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置および物品の製造方法 |
KR20200093039A (ko) * | 2017-12-15 | 2020-08-04 | 캐논 가부시끼가이샤 | 조명 광학계, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
US11215930B2 (en) | 2017-12-15 | 2022-01-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, and article manufacturing method |
JP7020900B2 (ja) | 2017-12-15 | 2022-02-16 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
KR102447672B1 (ko) * | 2017-12-15 | 2022-09-28 | 캐논 가부시끼가이샤 | 조명 광학계, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
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Publication number | Publication date |
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JP5354779B2 (ja) | 2013-11-27 |
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