JP5354779B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
先ず、光源2から放射されたランダム偏光Rは、光ビーム整形手段3により図1において手前から奥に延びた横断面細線状の光ビームに整形される。
先ず、光スイッチング装置1の光源2が点灯された後、被露光体25を矢印A方向に搬送しながら撮像手段27で被露光体25表面に形成された基準パターン上の露光位置の画像を撮像する。撮像された画像は、制御手段29の画像処理部30で画像処理されて画像データに変換される。そして、この画像データは、CADデータ記憶部31から読み出された対応するCADデータと比較器32で比較され両画像データの搬送方向に略直交する方向のずれ量が検出される。
2…光源
3…光ビーム整形手段
4…空間光変調手段
6…PBS(偏光ビームスプリッタ)
7…偏光板(検光子)
8…光変調素子
9…チップ
12A…第1のチップ列
12B…第2のチップ列
21…波長板
25…被露光体
29…制御手段
Claims (4)
- 被露光体を一定方向に搬送しながら露光する露光装置であって、
電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子を備えた複数のチップを二列に互い違いに並べて配置して有する空間光変調手段に光源から光源光を照射すると共に、前記複数の光変調素子を駆動制御して前記空間光変調手段の射出光をオン・オフする光スイッチング装置と、
前記空間光変調手段の前記複数の光変調素子を個別に駆動するためのビットマップデータを作成して前記空間光変調手段に転送する制御手段と、
を備え、
前記空間光変調手段は、前記光源光を偏光ビームスプリッタにより偏波面が直交する二つの直線偏光に分離し、該二つの直線偏光を前記複数のチップに照射させる構成とし、
前記複数のチップは、前記光変調素子の前記被露光体の搬送方向の幅をwとすると、被露光体の搬送方向に中心間距離でnw(nは正の整数)だけ隔てて二列に並べて配置され、
前記制御手段は、前記二列に並んだ複数のチップのうち、前記被露光体の搬送方向上流側の第1のチップ列に前記被露光体が距離wだけ搬送される度に新たなビットマップデータを転送し、前記被露光体の搬送方向下流側の第2のチップ列には、n回前に前記第1のチップ列に転送されたものと同じビットマップデータ、又は反転したビットマップデータを転送する、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記第1のチップ列に入射する直線偏光と前記第2のチップ列に入射する直線偏光とが同じ直線偏光であり、且つ第1及び第2のチップ列の光射出側に共通の検光子が配置されているとき、
前記制御手段は、前記第2のチップ列に、n回前に前記第1のチップ列に転送されたものと同じビットマップデータを転送することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記第1のチップ列に入射する直線偏光と前記第2のチップ列に入射する直線偏光とが互いに直交する直線偏光であり、且つ第1及び第2のチップ列の光射出側に共通の検光子が配置されているとき、
前記制御手段は、前記第2のチップ列に、n回前に前記第1のチップ列に転送されたものを反転したビットマップデータを転送することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記空間光変調手段に入射する光源光の光路上に、該光源光を横断面細線状の光ビームに整形する光ビーム整形手段を配設したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
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