TWI510865B

TWI510865B - 曝光裝置

Info

Publication number: TWI510865B
Application number: TW099144867A
Authority: TW
Inventors: Michinobu Mizumura
Original assignee: V Technology Co Ltd
Priority date: 2009-12-22
Filing date: 2010-12-21
Publication date: 2015-12-01
Also published as: WO2011077965A1; JP5282979B2; KR20120112396A; CN102668025B; KR101813212B1; CN102668025A; TW201131318A; JP2011134767A

Description

曝光裝置

本發明係關於一種曝光裝置，係驅動由光電結晶材料所構成之開關元件來生成既定之明暗圖案，將該明暗圖案曝光於被曝光體上；更詳細地說，係關於一種曝光裝置，將曝光位置以類比方式控制以謀求提升曝光圖案之定位精度。

習知之此種曝光裝置，係使得光電結晶材料所構成複數開關元件於二維平面內排列以所具有之圖案產生器來生成既定之圖案，將該圖案對於在一方向搬運中之被曝光體進行曝光，上述圖案產生器，係使得複數開關元件在與被曝光體搬運方向呈正交之方向以既定間距配置成一直線狀之開關元件列，於被曝光體搬運方向上以既定間隔配置複數列，並使得鄰接之開關元件列彼此在與被曝光體搬運方向呈正交之方向錯開既定量來配置(例如參見特開2007-310251號公報)。

但是，於此種習知之曝光裝置，由於曝光位置之解析能力係取決於開關元件之端面尺寸(像素尺寸)以及開關元件列在與被曝光體搬運方向呈正交方向上的偏移量，故為了提高曝光位置之解析能力，必須縮小像素尺寸且儘量減少開關元件列在與被曝光體搬運方向呈正交方向上之偏移量，有圖案產生器之製造變得困難且零件成本增加之虞。

是以，本發明為了處理此種問題點，其目的在於提供一種曝光裝置，係將曝光位置以類比方式控制而謀求提高曝光圖案之定位精度。

為了達成上述目的，本發明之曝光裝置曝光裝置，具備有：光束點生成機構，係接收光源光而生成以既定間隔相互錯開至少排列2列之複數光束點；光掃描機構，係使得該複數光束點於該等排列方向分別於既定範圍內進行往返掃描；圖案產生器，係藉由將複數開關元件加以開啟、關閉驅動，來對該光源光進行光調變而生成既定之明暗圖案，該複數開關元件係由角柱狀光電結晶材料所構成，以中心軸分別對齊於該複數光束點之往返掃描中心的方式配置，在與該中心軸平行之對向面設置有一對電極；以及投影透鏡，係將該明暗圖案投影於被曝光體上；且該各開關元件在該光束點之掃描方向之寬度係較該光束點在同方向之寬度為大。

藉由此種構成，係以光束點生成機構接收光源光而生成以既定間隔相互錯開之排列至少2列之複數光束點，利用光掃描機構使複數光束點在其等之排列方向上分別於既定範圍內往返掃描，並利用圖案產生器使其中心軸分別對齊於上述複數光束點之往返掃描中心來配置，藉由在與該中心軸平行之對向面設置有一對電極之角柱狀光電結晶材料所構成之複數開關元件受到開啟、關閉驅動，來對光源光進行光調變而生成既定之明暗圖案，以投影透鏡將此明暗圖案投影於被曝光體上。於此種情況下，將各開關元件在光束點掃描方向之寬度設定為大於光束點於同方向上之寬度，讓光束點掃描開關元件上，並藉由控制開關元件之驅動時機來將被曝光體上之明暗圖案位置以類比方式控制。從而，藉由控制開關元件之驅動時機，則利用複數開關元件作光調變而形成於被曝光體上之明暗圖案的位置能以類比方式控制。藉此，即使是具有複數開關元件至少排列2列之簡單構成的圖案產生器，亦可提高曝光圖案之定位精度並降低裝置之製造成本。

此外，前述光束點生成機構為具有複數聚光透鏡於平面內排列之微透鏡列。藉此，以具有於平面內排列複數聚光透鏡之微透鏡列生成複數光束點。從而，可將光源光聚光生成光束點，可提高光源光之利用效率。因此，可減低所使用之光源的功率，可減輕光源之負擔。

再者，前述光束點生成機構係具有複數開口於平面內排列之光罩。藉此，以具有複數開口於平面內排列之光罩來生成複數光束點。從而，可藉由使用光微影技術所形成之光罩來生成複數光束點。因此，能以高精度來形成此複數光束點之形狀以及位置，可更為提高曝光圖案之定位精度。

此外，前述光掃描機構係於方型塊狀之光電結晶材料的對向側面使得既定寬度之一對帶狀電極，以其長邊中心軸與該側面之長寬其中一者之中心軸成為既定角度的方式傾斜形成，光可通過該一對電極間。藉此，因光掃描機構係於方型塊狀之光電結晶材料的對向側面使得既定寬度之一對帶狀電極，以其長邊中心軸與該側面之長寬其中一者之中心軸成為既定角度的方式傾斜形成，光可通過該一對電極間，故以此光掃描機構讓複數光束點分別於既定範圍內往返掃描。從而，能以驅動電壓來控制光束點之掃描。因此，只要事先取得開關元件上之光束點位置與驅動電壓之相關，則開關元件上之光束點位置可從驅動電壓得知，開關元件之驅動時機能以驅動電壓來控制。

此外，前述被曝光體係於與該光束點之掃描方向呈大致正交方向上連續移動。藉此，一邊使得被曝光體於與光束點之掃描方向呈大致正交方向上連續移動一邊進行曝光。從而，可一邊連續移動被曝光體一邊進行曝光，可縮短曝光製程之生產時間。

以下，依據所附圖式詳細說明本發明之實施形態。圖1係顯示本發明之曝光裝置之實施形態之示意圖。此曝光裝置，係驅動由光電結晶材料所構成之開關元件來生成既定之明暗圖案，將該明暗圖案曝光於被曝光體上者；具備：搬運機構1、曝光光學單元2、攝像機構3、以及控制機構4。以下，針對被曝光體為濾色片基板之情況作說明。

圖2係本發明之曝光裝置所使用之濾色片基板5之俯視圖。此濾色片基板5係黑矩陣(具備矩陣狀之可穿透光之複數像素6)形成於透明玻璃基板表面所得者。

於上述搬運機構1，塗佈有既定彩色光阻劑之濾色片基板5係載置於平台7上面朝一方向(圖1所示箭頭A方向)被連續搬運，藉由例如馬達與齒輪等組合所構成之移動機構來移動平台7。或是，亦可於平台7表面具備氣體之噴出口以及吸引口，使得氣體之噴輸出以及吸引力達到平衡而讓濾色片基板5於平台7上處在上浮既定量的狀態下進行搬運。此外，於搬運機構1設有用以測量濾色片基板5之移動距離的位置感應器(圖示省略)。

於上述搬運機構1上方設有曝光光學單元2。此曝光光學單元2係將光源光L₁ 加以光調變而生成既定明暗圖案之曝光光L₂ ，將該曝光光L₂ 照射於濾色片基板5表面而使得濾色片基板5之對應像素6上的彩色光阻劑曝光；於光之行進方向自上游側依順序具備：光源裝置8、光束點生成機構9、光掃描機構10、圖案產生器11、以及投影透鏡12。

此處，上述光源裝置8，乃對於後述光束點生成機構9照射具有均勻亮度分布之光源光L₁ 之平行光者，構成上具備有：放射紫外線之雷射光源、將此雷射光源所放射之光源光L₁ 的光束徑加以放大之擴束器、使得經放大光束徑之光源光L₁ 的亮度分布均勻化之例如光學積分器、以及將亮度分布均勻化之光源光L₁ 調整為平行光之聚光透鏡。

此外，上述光束點生成機構9，乃接收光源光L₁ 而朝與圖1中箭頭A所示基板搬運方向呈正交方向以排列間距W₁ 相互錯開至少排列2列而生成複數光束點者，具體而言，如圖3所示般讓複數聚光透鏡13於透明基板14表面例如排列成2列而成為微透鏡列。此種情況下，2列透鏡列15之間隔係設定為W₂ 。此外，於各聚光透鏡13周圍形成有遮光膜16，可遮斷光之穿透。

再者，上述光掃描機構10係使得由上述光束點生成機構9所生成之複數光束點在與基板搬運方向(箭頭A方向)之正交方向(上述複數聚光透鏡13之排列方向)上分別在既定範圍內進行往返掃描者，如圖4(a)所示般係於方型塊狀光電結晶材料17的對向側面17a，使得具有既定寬度之一對帶狀電極18以其長邊中心軸與上述側面17a之長寬其中一者之中心軸成為既定角度的方式傾斜形成，讓光通過該一對電極18之間。於此種情況下，若對兩電極18間施加電場，則由兩電極18所挾持之部分的光電結晶材料17的折射率會變化，而於該兩電極18所挾持之部分與其他部分之間(界面17b)產生折射率差。從而，光源光L₁ 會對應於此折射率差而於上述界面17b被折射。因此，若使得光掃描機構10之上述電極18間的電場變化來改變上述界面17b之折射率差，則如同圖(b)所示般，自光掃描機構10所射出之光源光L₁ 會以既定之擺動角θ作擺動，光束點19於後述開關元件21(參見圖5)上會朝同圖所示箭頭B、C方向進行往返掃描。

此外，上述圖案產生器11係由後述控制機構4(參見圖10)所控制，對光源光L₁ 進行光調變而生成既定之明暗圖案(曝光光L₂ )，具有由角柱狀光電結晶材料所構成之複數開關元件21，如圖4(b)所示般，開關元件21係使得中心軸分別對齊複數光束點19之往返掃描的中心，於圖5中以箭頭B、C所示之光束點19的掃描方向(圖1中以箭頭A所示基板搬運方向之正交方向)上以排列間距W₁ 相互錯開排列配置成2列，與上述光束點19之掃描方向(箭頭B、C方向)對應之寬度W₃ (於本實施形態中係以W₃ =W₁ 表示)係形成為較光束點19在同方向之寬度W₄ 來得大，與光束點19之掃描方向平行之側面對向設有一對電極20。此外，2列開關元件列22a、22b之中心線間距離係相當於光束點生成機構9之2列透鏡列15的中心線間距離W₂ 。此外，圖案產生器11之構成包含有：開關元件組裝體23，其具備上述複數開關元件21；偏光板24，係近接配置於光掃描機構10之入射側端面；以及偏光板25，係近接配置於開關元件組裝體23之射出側端面。於此種情況下，兩個偏光板24、25係配置成偏光軸相互正交之偏光正交(crossed nicols)。

以此方式構成之圖案產生器11係以下述方式動作。亦即，如圖6所示般，通過光束點生成機構9之聚光透鏡13之光源光L₁ 於偏光板24成為直線偏光之後，係射入開關元件21之入射側端面21a。於此種情況下，如同圖(a)所示般，當開關元件21之電極20未被施加電壓之時，開關元件21係成為關閉驅動，通過開關元件21內之直線偏光的偏波面不會旋轉。從而，自開關元件21之射出側端面21b所射出之直線偏光的偏波面相對於偏光板25之偏光軸呈正交，直線偏光會被此偏光板25所遮斷。

另一方面，如圖6(b)所示般，若對於開關元件21之電極20施加既定之電壓將開關元件21加以開啟驅動，則通過該開關元件21內之直線偏光的偏波面會作90°旋轉。從而，自開關元件21之射出側端面21b所射出之直線偏光的偏波面，係與偏光板25之偏光軸一致，直線偏光會通過偏光板25。如此般，圖案產生器11可使得複數開關元件21對應於既定之圖案進行開啟、關閉驅動，以生成經明暗式光調變之曝光光L₂ 並加以射出。

其次，針對上述開關元件組裝體23之形成方法參照圖7作說明。

首先，於圖7(a)所示之光電結晶材料所構成長方條狀板材26之一面，如同圖(b)所示般，使用切割機於其長軸平行地形成深度D之溝槽27，相對於長邊中心軸對稱地形成寬度W₅ 之一對凸部28。此時，兩凸部28之中心線間隔係設定為間隔W₂ 。

其次，如圖7(c)所示般，於與上述一對凸部28的長軸平行之兩側面以及溝槽27之底面部以公知技術形成導電膜29。

接著，如同圖(d)所示般，使用刀片之片厚為W₃ (=W₁ )之切割機，於上述一對凸部28的短軸方向以寬度W₃ (W₃ ＞W₅ )、間距2W₃ 來形成深度較上述溝槽27之深度D為深之分離溝槽30，將一對凸部28作複數分割來形成複數開關元件21。此時，於同圖(d)中，對於右側凸部28使得切割機之刀片朝箭頭E方向移動來分割右側凸部28之後，對於左側凸部28使得切割機之刀片朝箭頭F方向移動而保留與右側凸部28之鄰接之分離溝槽30間相對應之左側凸部28部分來分割左側凸部28。藉此，形成複數開關元件21彼此錯開而排列為2列之開關元件組裝體23。於此種情況下，若以於長軸方向延伸之中央溝槽27的底面部之導電膜29作為接地電極端子，則於各開關元件21之一對電極20，開關元件組裝體23在長邊中心軸側之電極20成為接地電極。

圖8係顯示上述開關元件組裝體23之其他形成方法之說明圖。如同圖所示般，針對於圖7(c)所示一對凸部28之平行於長軸之側面以及溝槽27之底面部形成有導電膜29的光電結晶材料之長方條狀板材26，使用切割機來對於上述一對凸部28以斜向方式形成深度較上述溝槽27之深度D來得深之分離溝槽30，將一對凸部28分割為複數份。此時，藉由適當設定一對凸部28之中心線間隔W₂ 以及上述分離溝槽相對於一對凸部28之長軸的傾斜角度φ，則自基板移動方向(箭頭A方向)觀看，可使得鄰接之開關元件21之端部21c如同圖以虛線所示般重疊。藉此，當濾色片基板5於圖1中沿箭頭A方向移動並進行曝光之際，藉由於基板移動方向前後存在之開關元件21之端部21c進行重複曝光，可避免於曝光圖案之一部份產生未曝光部之問題。於此種情況下，如圖8所示般，由於開關元件21之端部21c受到斜向切除，該端部21c所造成之平均曝光量會成為以直角形成之端部21c之情況下的曝光量的一半。從而，藉由上述重複曝光得到既定之曝光量，而進行既定深度之曝光。因此，可避免因重複曝光所致過度曝光之問題。

此外，上述投影透鏡12係將上述圖案產生器11所生成之明暗圖案縮小投影於濾色片基板5面上，構成上包含成像透鏡31與物透鏡32。

朝基板搬運方向(箭頭A方向)在上述曝光光學單元2之前方側設有攝像機構3。此攝像機構3係對濾色片基板5表面進行攝像者，於基板搬運方向之大致正交方向上有多數之受光元件排列成一直線狀成為線狀攝像機，如圖9所示般，相對於開關元件組裝體23當中朝基板搬運方向位於內側之開關元件列22a之中心軸係離開距離L來配置著。此種情況下，開關元件組裝體23與攝像機構3係相互定位配置，開關元件組裝體23之開關元件21A係與攝像機構3之長邊中心軸上之位置x₁ ～x₂ 對應，開關元件21B係與位置x₂ ～x₃ 對應，開關元件21C係與位置x₃ ～x₄ 對應，開關元件21D係與位置x₄ ～x₅ 對應，開關元件21E係與位置x₅ ～x₆ 對應，開關元件21F係與位置x₆ ～x₇ 對應。此外，平台7下側之對向於攝像機構3之攝像位置設有圖示省略之照明機構，可對濾色片基板5之上述攝像位置進行照明以利用攝像機構3進行基板表面之攝像。

設置有與上述搬運機構1、光掃描機構10、圖案產生器11之開關元件組裝體23、以及攝像機構3作電連接之控制機構4。此控制機構4係將各構成要素加以適切地驅動，如圖10所示般，具備有圖像處理部33、運算部34、記憶體35、搬運機構驅動控制器36、光掃描機構驅動控制器37、開關元件驅動控制器38、以及控制部39。

此處，上述圖像處理部33係對於由攝像機構3所取得之濾色片基板5之像素6之一維圖像進行處理，檢測亮度急變之位置，將該位置作為像素6之邊緣部位置來檢測。

此外，上述運算部34係基於搬運機構1之位置感應器的輸出來算出濾色片基板5之移動距離，對後述開關元件驅動控制38發出驅動指令，使得濾色片基板5移動相當於在後述記憶體35所事先設定保存之攝像機構3與開關元件組裝體23之各開關元件列22a,22b之間的距離L、(L+W₂ )。

再者，上述記憶體35係事先保存雷射光源之功率、攝像機構3與開關元件組裝體23之各開關元件列22a,22b間的距離L、(L+W₂ )等初期設定值之數據，並暫時保存運算部34之運算結果以及由圖像處理部33所檢測之像素6的邊緣部位置數據。

此外，上述搬運機構驅動控制器36係驅動搬運機構1之移動機構使得平台7沿圖1中箭頭A方向以一定速度來連續移動。

再者，上述光掃描機構驅動控制器37係對於光掃描機構10送出圖11所示鋸齒狀驅動訊號，使得於光掃描機構10之被帶狀電極18所挾持之部分與其他部分之間的界面17b所發生之折射率差在既定範圍內作連續性變化，而使得自光掃描機構10所射出之雷射光之光束點19於既定範圍內進行往返掃描。此種情況下，由於光束點19之掃描速度取決於上述鋸齒狀驅動訊號之反覆周期，故控制驅動訊號之反覆周期使得光束點19之掃描速度與搬運機構1之平台7的移動速度(等同於濾色片基板5之移動速度)成為同步。此外，光束點19之掃描速度通常係設定為在濾色片基板5移動距離W₅ (W₅ 等同於開關元件21於基板搬運方向之寬度)或比距離W₅ 更短之距離之間進行一次往返。此外，於本實施形態，光束點19之掃描速度相對於濾色片基板5之移動速度係設定為非常快。此外，係將驅動訊號下降速度控制成上升速度的10倍，以使得光束點19之返回掃描速度成為前進掃描速度之大致10倍。

此外，上述開關元件驅動控制38係接收自運算部34所傳送之驅動指令而依序讀取保存於記憶體35之像素6的邊緣部位置數據，而將驅動訊號(用以對於與該位置數據對應之各開關元件21進行開啟、關閉驅動)送訊給開關元件組裝體23。於此種情況下，開關元件驅動控制38係於進行往返掃描之光束點19之前進掃描期間將開啟、關閉驅動訊號送訊給開關元件組裝體23，於光束點19之返回掃描期間，則是發送關閉驅動訊號。

此外，上述控制部39係扮演將上述各要素加以適切地驅動之調和角色，為CPU。

其次，針對此種構成之曝光裝置之動作作說明。

首先，將塗佈有既定彩色光阻劑之濾色片基板5定位、載置於搬運機構1之平台7上之既定位置。之後，一旦起動開關作動，由控制機構4之搬運機構驅動控制器36所控制之搬運機構1便起動，濾色片基板5會沿圖1所示箭頭A方向以一定速度受到搬運。

一旦濾色片基板5被搬運到達攝像機構3之攝像位置，濾色片基板5表面會被攝像機構3作攝像，此一維之攝像圖像於控制機構4之圖像處理部33受到圖像處理。此時，於圖像處理部33，會調查上述攝像圖像在基板搬運方向(箭頭A方向)之正交方向上的亮度變化，將亮度超過既定臨界值而急變之位置檢測作為像素6(亮部)之邊緣部。

具體而言，如圖12(a)所示般，一旦濾色片基板5被搬運，像素6在基板搬運方向之前端到達攝像機構3之攝像位置，此時依據所攝像之攝像圖像而檢測出例如線P₁ 上之像素6(亮部)之邊緣部的位置x₈ ，x₉ ，x₁₀ ，x₁₁ ...，此位置數據被保存於記憶體35。於此種情況下，若事先設定成每隔兩個像素6(亮部)進行檢測，則可無視位於相同色(例如紅色)之鄰接的兩個像素6R間之其他色(例如綠、藍)之像素6G、6B。

濾色片基板5於圖12(a)中沿箭頭A方向被搬運，一旦線P₁ 與開關元件組裝體23之開關元件列22a中心軸對齊，線P₁ 上之既定位置係受該開關元件列22a之各開關元件21作選擇性曝光。亦即，線P₁ 上之位置x₈ 與x₃ 間、位置x₄ 與x₉ 間、以及位置x₁₂ 與x₁₃ 間係分別由開關元件21C、21E、21K擔當進行曝光。此種情況下，開關元件21C在光束點19正在掃描位置x₈ 與x₃ 間之過程中受到開關元件驅動控制38之控制而被開啟驅動。同樣地，開關元件21E在光束點19正在掃描位置x₄ 與x₉ 間之過程中被開啟驅動，開關元件21K在光束點19正在掃描位置x₁₂ 與x₁₃ 間被開啟驅動。藉此，如同圖中繪有交叉影線所示般，像素6R上之位置x₈ 與x₃ 間、位置x₄ 與x₉ 間以及位置x₁₂ 與x₁₃ 間之區域受到曝光。此時，開關元件列22a之開關元件21A、21G、21I、21M受到關閉驅動。此外，開關元件21上之光束點19之位置係和光掃描機構10之雷射光束的擺動角θ相關，該雷射光束之擺動角θ係與光掃描機構驅動控制器37之驅動訊號電壓相關。從而，開關元件21上之光束點19之位置可從上述驅動訊號電壓得知。

之後，一邊使得光束點19往返掃描一邊與上述同樣地使得開關元件列22a之各開關元件21受到驅動，對於以一定速度移動中之濾色片基板5實行曝光。此外，此曝光於圖12(a)中係基於圖像數據(於線P₁ 在與箭頭A為相反方向上漸次錯開距離相等於濾色片基板5於光束點19進行一次往返之間所移動之距離之位置所攝像者)來驅動上述各開關元件21而進行。

此外，如圖12(b)所示般，一旦濾色片基板5移動使得線P₁ 與開關元件列22b之中心軸對齊，則線P₁ 上之既定位置會因該開關元件列22b之各開關元件21B、21D、21F、21H、21J、21L受到選擇性曝光。亦即，線P₁ 上之位置x₄ 與x₅ 間、位置x₁₀ 與x₁₂ 間、以及位置x₁₃ 與x₁₁ 間係和前述同樣分別由開關元件21D、21J、21L擔當進行曝光。此時，開關元件21B、21F、21H受到關閉驅動。

另一方面，開關元件列22a之各開關元件21係自記憶體35讀取出相對於線P₁ 在與箭頭A呈相反方向上錯開W₂ 之線P₂ 上的像素6R之邊緣部之位置數據而由開關元件驅動控制38所驅動。此外，線P₂ 上之像素6R之位置x₃ 與x₄ 間係利用開關元件21C而被曝光，像素6R之位置x₁₂ 與x₁₃ 間係利用開關元件21K而被曝光。此時，開關元件21A、21E、21G、21J、21M受到關閉驅動。

之後，一邊對於以一定速度移動中之濾色片基板5使得光束點19往返掃描一邊以開關元件列22a對像素6R上之既定位置先行作曝光，且以開關元件列22b補齊開關元件列22a之各開關元件21間的部分進行曝光。藉此，如圖13中描繪成交叉影線所示般，像素6R上受到曝光而形成既定之曝光圖案40。如本實施形態般，當光束點之掃描速度遠高於濾色片基板5之移動速度的情況下，如圖13所示般，可平順地形成相對於基板搬運方向呈斜向交叉之曝光圖案之邊緣部或圓形之曝光圖案之邊緣部。此外，由於基板搬運方向之正交方向的光束點之照射位置能以類比方式進行控制，故有別於習知之數位控制，可進行更緻密之圖案曝光。

此外，於上述實施形態中，係針對開關元件組裝體23以2列之開關元件列22a、22b來構成之情況作了說明，惟本發明不限於此，亦能以2列之開關元件列22a、22b作為1組而將複數組於基板搬運方向上以既定間距排列配置。

藉此，濾色片基板5之像素6上的區域能以複數組之開關元件列22a、22b之各開關元件21進行多重曝光，可降低雷射光源之功率而減輕雷射光源之負擔。

此外，於上述實施形態中，係針對光束點生成機構9為微透鏡列之情況作了說明，惟本發明不限於此，光束點生成機構9亦可為在平面內排列有複數開口之光罩。

再者，於上述實施形態中，係針對光掃描機構10係於方型塊狀之光電結晶材料17的對向側面17a使得既定寬度之一對帶狀電極18以其長邊中心軸與側面17a之長寬其中一者之中心軸成為既定角度的方式傾斜形成之情況作了說明，惟本發明不限於此，光掃描機構10亦可為例如電磁制動器、聲光元件等，只要可使雷射光束往返掃描者無論何種皆可。

此外，於以上之說明中，係針對被曝光體為濾色片基板5之情況作了描述，惟本發明不限於此，被曝光體亦可為例如電路基板等任何物。

1．．．搬運機構

2．．．曝光光學單元

3．．．攝像機構

4．．．控制機構

5．．．濾色片基板

6,6R,6G,6B．．．像素

7．．．平台

8．．．光源裝置

9．．．光束點生成機構

10．．．光掃描機構

11．．．圖案產生器

12．．．投影透鏡

13．．．聚光透鏡

14．．．透明基板

15．．．透鏡列

16．．．遮光膜

17．．．光電結晶材料

17a,17b．．．界面

18．．．帶狀電極

19．．．光束點

20．．．電極

21．．．開關元件

21a．．．入射側端面

21b．．．射出側端面

21A~21M．．．開關元件

22a,22b．．．開關元件列

23．．．開關元件組裝體

24,25．．．偏光板

26．．．板材

27．．．溝槽

28．．．凸部

29．．．導電膜

30．．．分離溝槽

31．．．成像透鏡

32．．．物透鏡

33．．．圖像處理部

34．．．運算部

35．．．記憶體

36．．．搬運機構驅動控制器

37．．．光掃描機構驅動控制器

38．．．開關元件驅動控制器

39．．．控制部

40．．．曝光圖案

圖1係顯示本發明之曝光裝置之實施形態之示意圖。

圖2係顯示上述實施形態所使用之濾色片基板之一構成例之俯視圖。

圖3係顯示本發明之曝光裝置之光束點生成機構之一構成例之圖，(a)為俯視圖，(b)為前視圖。

圖4係顯示本發明之曝光裝置之光掃描機構之一構成例之圖，(a)係立體圖，(b)係(a)之O箭頭視圖。

圖5係顯示本發明之曝光裝置之開關元件組裝體之一構成例之俯視圖。

圖6係顯示上述開關元件組裝體之各開關元件的動作之說明圖，(a)係顯示關閉驅動狀態，(b)係顯示開啟驅動狀態。

圖7(a)～(d)係說明上述開關元件組裝體之形成方法之製程圖。

圖8係顯示上述開關元件組裝體之其他形成方法之說明圖，顯示最終製程。

圖9係顯示本發明之曝光裝置之開關元件組裝體與攝像機構之位置關係之說明圖。

圖10係顯示本發明之曝光裝置之控制機構之構成的方塊圖。

圖11係顯示驅動上述光掃描機構之驅動訊號波形之說明圖。

圖12(a)、(b)係顯示本發明之曝光裝置之曝光動作之說明圖。

圖13係顯示以上述曝光動作所形成之曝光圖案一例之說明圖。