JP5643373B2 - 空間光変調器 - Google Patents
空間光変調器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5643373B2 JP5643373B2 JP2013087317A JP2013087317A JP5643373B2 JP 5643373 B2 JP5643373 B2 JP 5643373B2 JP 2013087317 A JP2013087317 A JP 2013087317A JP 2013087317 A JP2013087317 A JP 2013087317A JP 5643373 B2 JP5643373 B2 JP 5643373B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- electro
- light
- substrate
- optic crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
このように構成された発明では、第1電極の第3方向における幅は第1分極部および第2分極部の配列の周期と略同等であり、複数の第1電極ごと、例えば後で説明する第2実施形態の図7(a)では隣接する3本の第1電極により構成される電極単位ごとに、当該電極単位を構成する第1電極への電圧の印加によって当該第1電極と第2電極の間で電界が生じる。このため、周期分極反転構造内では、複数の第1電極(電極単位)ごとに第1電極と第2電極の間の領域で回折効率が変化して当該領域を進む光を変調する。
図1は本発明にかかる空間光変調器を装備したパターン描画装置の第1実施形態を示す斜視図であり、図2は図1に示すパターン描画装置の側面図であり、図3は図1のパターン描画装置の電気的構成を示すブロック図である。このパターン描画装置1では、基台2の一方端側領域(図1および図2の左手側領域)が基板Wの受け渡しを行う基板受渡領域となっているのに対し、他方端側領域(図1および図2の右手側領域)が基板Wへのパターン描画を行うパターン描画領域となっている。この基台2上では、基板受渡領域とパターン描画領域の境界位置にヘッド支持部21が設けられている。このヘッド支持部21では、基台2から上方に2本の脚部材211、212が立設されるとともに、それらの脚部材211、212の頂部を橋渡しするように梁部材213が横設されている。そして、このように構成されたヘッド支持部21のパターン描画領域側で光学ヘッド3が上下方向Zに移動自在に取り付けられており、露光制御部41からの動作指令に応じてヘッド移動機構30が作動することで後述するステージ5に保持される基板Wと光学ヘッド3との距離を高精度に調整可能となっている。なお、光学ヘッド3は本発明にかかる空間光変調器を装備して基板Wに対して光を照射して露光するものであり、その構成および動作については、後で詳述する。
ところで、第1実施形態では、第1電極333の電極幅EW1が格子周期RCより広いが、X方向における第1電極333の電極幅EW1を細くしてもよい。
図8は本発明の第3実施形態を示す図である。この第3実施形態が第1実施形態と大きく相違する点は、第1電極333の配置である。すなわち、複数の第1電極333は、第1実施形態では入射光LIの進む方向Zに対して略垂直な方向Xに配置されているのに対し、第3実施形態ではブラッグ回折光BLの進む方向BD(本発明の「第2方向」に相当)に対して略垂直な方向NDに互いに離間して配置されている。このように本発明の「第3方向」に相当する方向NDに複数の第1電極333を離間して配置した場合も、第1実施形態と同様の作用効果が得られる。なお、第2実施形態においては、第1電極333はブラッグ回折光BLの進む方向BDに延設されている。
図9は本発明の第4実施形態を示す図である。この第4実施形態はブラッグ回折光BLを用いて基板Wの表面へのパターン描画を行う点で、0次光LOを用いて露光記録を行う第1実施形態と大きく相違している。すなわち、第4実施形態の特徴部分は、図9に示すように、空間光変調器33の出射側に設けられる光学系(シリンドリカルレンズ34+シュリーレン光学系35)がXZ平面において入射光LIの進む方向(空間光変調器33の入射側の光軸OA)に対して角度2θbだけ傾斜して配置されている点である。
図10は本発明の第5実施形態を示す図であり、空間光変調器33の具体的構成を示している。同図に示す空間光変調器33は電気光学結晶基板331内にスラブ導波路3314を設けている点で第1実施形態の空間光変調器33(図5(b)参照)と大きく相違する。すなわち、第5実施形態では、図10(a)に示すように、電気光学結晶基板331の一方主面332全体に対してアニールプロトン交換法による処理が施されている。これにより、光の進行方向であるZ方向に垂直な電気光学結晶基板331の断面において一方主面322の位置(同図の上方位置)から(−Y)方向に離れるに従って屈折率(第1電極333と第2電極335間に電界が生じていない状態における屈折率)が小さくなる屈折率分布が、電気光学結晶基板331の全体において同様に形成される。なお、図10では光が進む方向Zに対して垂直な断面に対してグラデーションを付して一方主面332から(−Y)側に離れるに従って屈折率が漸次小さくなっていることを示している。このように構成することで、入射面331aを介して電気光学結晶基板331の周期分極反転構造に入射した光LIは、一方主面332近傍の屈折率が高い部分(薄い板状の部位)のみを通過してZ方向に導かれる。このように、図10(a)の空間光変調器33では、電気光学結晶基板331の一方主面332近傍の部位がスラブ導波路となっている。したがって、電気光学結晶基板331内を伝播している途中での光損失はごく僅かなものとなり、光を効率よく伝播させることができる。
図11は本発明の第6実施形態を示す図である。また、図12は図11に示すパターン描画装置で用いられた空間光変調器を示す図である。さらに、図13は第1実施形態と第6実施形態の対比図である。この第6実施形態にかかる空間光変調器33が第1実施形態と相違するのは、電気光学結晶基板331に形成される周期分極反転構造と、空間光変調器33とシリンドリカルレンズ34との間にスリット板36が配置されている点であり、その他の構成は基本的に第1実施形態と同一である。以下、その相違点を中心に説明する。
31…光源部
32…照明光学系
33…空間光変調器
34…シリンドリカルレンズ(光学系)
35…シュリーレン光学系(光学系)
331…電気光学結晶基板
3311…第1分極部
3312…第2分極部
3313…分極対
3314…スラブ導波路
3315…境界面
331a…入射面
332…(電気光学結晶基板の)一方主面
334…(電気光学結晶基板の)他方主面
336…電位付与部(変調部)
337…薄膜層
AD…配列方向(第1方向)
BD…ブラッグ回折光の進む方向(第2方向)
BL…ブラッグ回折光
LI…入射光
ND…配列方向(第3方向)
OA…光軸
RC…格子周期
W…基板
X…配列方向(第3方向)
Z…入射光の進む方向(第2方向)
Claims (2)
- 電界を受けて発生する分極の向きが互いに反対である第1分極部および第2分極部を交互に所定周期で第1方向に配列した周期分極反転構造を有し、前記第1方向に対して傾斜した第2方向に沿って進む光が前記周期分極反転構造を介して通過する電気光学結晶基板と、
前記電気光学結晶基板の一方主面上に設けられた複数の第1電極と、
前記電気光学結晶基板の他方主面上に設けられた第2電極と、
前記複数の第1電極と前記第2電極の間での電界発生をそれぞれ制御することで前記周期分極反転構造内の複数領域でそれぞれ回折効率を変化させて各領域を進む光を変調する変調部とを備え、
前記複数の第1電極は前記周期分極反転構造内を進む光の進行方向と略垂直な第3方向に互いに離間して配列され、
前記第1電極の前記第3方向における幅は前記所定周期と略同等であり、
前記変調部は前記複数の第1電極ごとに独立して電圧を印加することを特徴とする空間光変調器。 - 前記変調部は、前記第1電極の隣接する3以上の複数本の前記第1電極を一単位として制御し、前記一単位の前記第1電極の位置を前記第3方向において前記第1電極1本分シフトさせて回折光の位置を調整する請求項1に記載の空間光変調器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013087317A JP5643373B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | 空間光変調器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013087317A JP5643373B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | 空間光変調器 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009188848A Division JP5318702B2 (ja) | 2009-08-18 | 2009-08-18 | パターン描画装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014221105A Division JP2015043101A (ja) | 2014-10-30 | 2014-10-30 | 空間光変調器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013164614A JP2013164614A (ja) | 2013-08-22 |
JP5643373B2 true JP5643373B2 (ja) | 2014-12-17 |
Family
ID=49175954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013087317A Active JP5643373B2 (ja) | 2013-04-18 | 2013-04-18 | 空間光変調器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5643373B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6296730B2 (ja) * | 2013-09-06 | 2018-03-20 | 株式会社Screenホールディングス | 光変調器および露光ヘッド |
US11332063B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-05-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Vehicle lighting control apparatus, vehicle lighting control method, and computer readable medium |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0785150B2 (ja) * | 1993-03-17 | 1995-09-13 | 日本電気株式会社 | 集積光回路 |
JP4341084B2 (ja) * | 1998-09-28 | 2009-10-07 | ソニー株式会社 | 光スイッチ及び光ディスク装置 |
JP2002258226A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Sony Corp | 光通信装置 |
JP5249007B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2013-07-31 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 光変調器 |
JP5133956B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2013-01-30 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 空間光変調器および露光装置 |
-
2013
- 2013-04-18 JP JP2013087317A patent/JP5643373B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013164614A (ja) | 2013-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5793308B2 (ja) | 光学デバイス、レーザ装置および露光装置 | |
JP5318702B2 (ja) | パターン描画装置 | |
US8784675B2 (en) | Optical device, a method of manufacturing optical device, and exposure apparatus | |
JP2006208432A (ja) | 露光方法および装置 | |
US9575389B2 (en) | Light modulator and exposure head | |
JP5643373B2 (ja) | 空間光変調器 | |
JP5249009B2 (ja) | 光変調器 | |
JP5232493B2 (ja) | 光変調器および画像記録装置 | |
JP2009031732A5 (ja) | ||
JP5249008B2 (ja) | 光変調器 | |
JP5249007B2 (ja) | 光変調器 | |
JP2015043101A (ja) | 空間光変調器 | |
JP5848802B2 (ja) | 光学デバイス、光学デバイスの製造方法および露光装置 | |
JP2014142494A (ja) | 空間光変調器、空間光変調方法、パターン描画装置、パターン描画方法、空間光変調器の製造方法 | |
JP5133956B2 (ja) | 空間光変調器および露光装置 | |
JP5134031B2 (ja) | 光変調デバイスおよび露光装置 | |
JP6022859B2 (ja) | 空間光変調器、光集積回路 | |
JP5058935B2 (ja) | 光変調器および画像記録装置 | |
KR100916623B1 (ko) | 고개구수 렌즈의 입사광을 변조하기 위한 삼층 편광 변조장치 | |
JP2012208190A (ja) | 光変調器、光変調デバイスの制御装置、光変調デバイスの制御方法、描画装置 | |
JP2012042648A (ja) | 空間光変調器および露光装置 | |
JP2016156923A (ja) | 光学デバイスおよび露光装置 | |
JP2009020306A (ja) | 空間光変調器および画像記録装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140610 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140718 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141007 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141030 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5643373 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |