JP2010190887A - 分析装置 - Google Patents
分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010190887A JP2010190887A JP2009288818A JP2009288818A JP2010190887A JP 2010190887 A JP2010190887 A JP 2010190887A JP 2009288818 A JP2009288818 A JP 2009288818A JP 2009288818 A JP2009288818 A JP 2009288818A JP 2010190887 A JP2010190887 A JP 2010190887A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terahertz wave
- terahertz
- unit
- time
- wave pulse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 57
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 54
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 20
- 238000001328 terahertz time-domain spectroscopy Methods 0.000 claims description 3
- 239000012466 permeate Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 44
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 25
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 18
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 5
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007794 visualization technique Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3581—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation
- G01N21/3586—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation by Terahertz time domain spectroscopy [THz-TDS]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】 以下を備える分析装置である。まず、発生部101から発生したテラヘルツ波を物体107における第1の位置121に集光させる第1の光学部111を備える。次に、物体107からのテラヘルツ波を第2の位置122に集光させる第2の光学部112を備える。また、第2の位置122に集光したテラヘルツ波を第3の位置123に集光させる第3の光学部113を備える。また、第3の位置123に集光したテラヘルツ波を検出するための検出部102を備える。そして、物体107からのテラヘルツ波のうち、物体107における第1の位置121からのテラヘルツ波を選択的に検出可能に構成される。
【選択図】 図1
Description
テラヘルツ波を用いて物体を分析するための分析装置であって、
テラヘルツ波を発生させる発生部と、
前記発生部から発生したテラヘルツ波を前記物体における第1の位置に集光させる第1の光学部と、
前記物体からのテラヘルツ波を第2の位置に集光させる第2の光学部と、
前記第2の位置に集光したテラヘルツ波を第3の位置に集光させる第3の光学部と、
前記第3の位置に集光したテラヘルツ波を検出するための検出部と、を備え、
前記物体からのテラヘルツ波のうち、前記物体における前記第1の位置からのテラヘルツ波を選択的に検出可能に構成されることを特徴とする。
図1は、本発明のテラヘルツ波分析装置及び方法の一実施形態の概略構成図である。図1のように、本分析装置は、時間領域でテラヘルツ波パルスの時間波形を構築する部分と、テラヘルツ波パルスを選択する選択部106を有する。
実施形態2の分析装置及び方法の動作の一例を説明する。
図6(a)は、本実施形態の分析装置の動作フローを示したものである。本分析装置は、測定を開始すると、上述の調整機構を用いてサンプル107における焦点位置を調整する(S101)。この調整機構は、予め定められた焦点位置に手動で調整してもよいし、自動で調整してもよい。この焦点位置は、サンプル107の内部構造が予測できる場合、その内部構造より決定する。分析装置は、この焦点位置を固定したまま、選択部106を介したテラヘルツ波パルスの反射時間波形を取得する(S102)。図1のように、焦点位置がBにある場合、Bから反射するテラヘルツ波パルスは検出部102で焦点を結び、AとCから反射するテラヘルツ波パルスは広がる。その結果、検出部102において、AとCから反射するテラヘルツ波パルスの強度は、Bから反射するパルスの強度に比べ低下する。図5(a)は、選択部106がない時、処理部105で構築される時間波形である。しかし、サンプル107から反射するテラヘルツ波パルスT2が選択部106を介することで、処理部105で構築されるテラヘルツ波パルスの時間波形は、図5(b)のように孤立波形に近づく。このため、本実施形態の分析装置によって得られる周波数スペクトルは、複数の反射波の存在下でも干渉フリンジが抑制され、分析性能が向上する。
次に、実施形態3の分析装置及び方法の動作の一例を説明する。これは、具体的には、実施形態2の変形例であり、テラヘルツ波パルスの取得の方法に関するものである。尚、これまでの説明と共通する部分の説明は省略する。
実施形態4の分析装置及び方法の動作の一例を説明する。これは、具体的には、実施形態2の変形例であり、テラヘルツ波パルスの焦点位置の調整方法に関するものである。尚、これまでの説明と共通する部分の説明は省略する。
実施形態5の分析装置及び方法の動作の一例を説明する。これは、具体的には、実施形態2の変形例であり、テラヘルツ波パルスの焦点位置の調整方法に関するものである。尚、これまでの説明と共通する部分の説明は省略する。
実施形態6の装置及び方法を説明する。本実施形態では、これまで説明した分析装置を画像取得装置として用いる例を示す。尚、これまでの説明と共通する部分の説明は省略する。
実施形態7の装置及び方法を説明する。本実施形態は、上述した分析装置を画像取得装置として用いる例を示す。具体的には、実施形態6の変形例である。尚、これまでの説明と共通する部分の説明は省略する。
実施形態8の装置及び方法を説明する。本実施形態は、本発明の装置を画像分析装置に適用した例を示す。尚、これまでの説明と共通する部分の説明は省略する。
102 検出部
111 第1の光学部
112 第2の光学部
113 第3の光学部
121 第1の位置
122 第2の位置
123 第3の位置
Claims (6)
- テラヘルツ波を用いて物体を分析するための分析装置であって、
テラヘルツ波を発生させる発生部と、
前記発生部から発生したテラヘルツ波を前記物体における第1の位置に集光させる第1の光学部と、
前記物体からのテラヘルツ波を第2の位置に集光させる第2の光学部と、
前記第2の位置に集光したテラヘルツ波を第3の位置に集光させる第3の光学部と、
前記第3の位置に集光したテラヘルツ波を検出するための検出部と、を備え、
前記物体からのテラヘルツ波のうち、前記物体における前記第1の位置からのテラヘルツ波を選択的に検出可能に構成されることを特徴とする分析装置。 - 前記第2の位置は、前記検出部の検出面にあるように構成されることを特徴とする請求項1に記載の分析装置。
- 前記検出部は、光伝導膜と、互いに間隙を有して該光伝導膜に設けられる電極対と、を有する光伝導素子であり、
前記第2の位置は、前記間隙で、且つ前記電極対が設けられる前記光伝導膜における面にあるように構成されることを特徴とする請求項1あるいは2に記載の分析装置。 - テラヘルツ時間領域分光法により、前記検出部で検出したテラヘルツ波を用いて、前記物体における前記第1の位置で反射したテラヘルツ波の時間波形を取得する時間波形取得部を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の分析装置。
- 前記テラヘルツ波を検出するタイミングを変更する遅延光学部と、
前記時間波形の時間領域に応じて前記遅延光学部を制御する制御部と、を備え、
前記時間領域は、前記検出部で検出されるテラヘルツ波の強度に応じて設定されることを特徴とする請求項4に記載の分析装置。 - 前記第3の光学部と前記検出部との間に配置される開口部を備え、
前記開口部は、前記物体からのテラヘルツ波のうち、前記物体における前記第3の位置に集光するテラヘルツ波を選択的に透過するように配置されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009288818A JP5717335B2 (ja) | 2009-01-23 | 2009-12-21 | 分析装置 |
US13/145,330 US8232526B2 (en) | 2009-01-23 | 2010-01-22 | Analyzing apparatus |
PCT/JP2010/000374 WO2010084765A1 (en) | 2009-01-23 | 2010-01-22 | Analyzing apparatus using terahertz wave radiation |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009012455 | 2009-01-23 | ||
JP2009012455 | 2009-01-23 | ||
JP2009288818A JP5717335B2 (ja) | 2009-01-23 | 2009-12-21 | 分析装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010190887A true JP2010190887A (ja) | 2010-09-02 |
JP2010190887A5 JP2010190887A5 (ja) | 2013-02-14 |
JP5717335B2 JP5717335B2 (ja) | 2015-05-13 |
Family
ID=42227126
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009288818A Expired - Fee Related JP5717335B2 (ja) | 2009-01-23 | 2009-12-21 | 分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8232526B2 (ja) |
JP (1) | JP5717335B2 (ja) |
WO (1) | WO2010084765A1 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013170899A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Canon Inc | 測定装置及び測定方法、トモグラフィー装置 |
JP2013181929A (ja) * | 2012-03-04 | 2013-09-12 | Canon Inc | 測定装置及び方法、トモグラフィ装置及び方法 |
JP2013228329A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Jfe Steel Corp | 表面検査装置および欠陥計測方法 |
JP2014001925A (ja) * | 2012-06-14 | 2014-01-09 | Canon Inc | 測定装置及び方法、トモグラフィ装置及び方法 |
JP2014222157A (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-27 | パイオニア株式会社 | テラヘルツ波計測装置 |
JP2015203624A (ja) * | 2014-04-14 | 2015-11-16 | キヤノン株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
JP2018010012A (ja) * | 2017-09-19 | 2018-01-18 | キヤノン株式会社 | 測定物情報取得装置とその取得方法 |
JPWO2019116461A1 (ja) * | 2017-12-13 | 2020-11-19 | 株式会社日立ハイテク | 遠赤外光源、遠赤外分光装置 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014142309A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-08-07 | Canon Inc | 測定物情報取得装置とその取得方法 |
JP2015127699A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-07-09 | キヤノン株式会社 | 情報取得装置、及び情報取得方法 |
JP2016114371A (ja) * | 2014-12-11 | 2016-06-23 | パイオニア株式会社 | テラヘルツ波計測装置 |
JP6330703B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2018-05-30 | ソニー株式会社 | テラヘルツ波顕微鏡および焦点制御方法 |
JP6952917B2 (ja) * | 2019-07-17 | 2021-10-27 | パイオニア株式会社 | テラヘルツ波計測装置 |
JP2019174489A (ja) * | 2019-07-17 | 2019-10-10 | パイオニア株式会社 | テラヘルツ波計測装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003083888A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Communication Research Laboratory | テラヘルツ電磁波時間分解分光装置 |
JP2003232730A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-22 | Tochigi Nikon Corp | テラヘルツ光検出器 |
JP2004003902A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-08 | Tochigi Nikon Corp | テラヘルツ光を用いた平面基板の電気特性測定方法 |
JP2005121513A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Japan Science & Technology Agency | 反射分光スペクトル観測のための光学配置 |
WO2006092874A1 (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-08 | Osaka University | 高分解・高速テラヘルツ分光計測装置 |
JP2007281419A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-10-25 | Canon Inc | 光伝導素子及びセンサ装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003005002A1 (fr) * | 2001-07-02 | 2003-01-16 | Advantest Corporation | Appareil et procede de mesure des propagations |
GB2397207B (en) | 2003-01-10 | 2005-04-13 | Teraview Ltd | Imaging techniques and associated apparatus |
JP2005069840A (ja) | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Japan Science & Technology Agency | 時系列変換パルス分光計測装置の時系列信号取得のための光路差補償機構 |
JP4480146B2 (ja) * | 2004-09-01 | 2010-06-16 | 独立行政法人理化学研究所 | テラヘルツ波を用いた散乱物検出装置と方法 |
JP4874069B2 (ja) | 2006-11-27 | 2012-02-08 | オリンパス株式会社 | 共焦点顕微鏡 |
-
2009
- 2009-12-21 JP JP2009288818A patent/JP5717335B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-01-22 US US13/145,330 patent/US8232526B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-01-22 WO PCT/JP2010/000374 patent/WO2010084765A1/en active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003083888A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Communication Research Laboratory | テラヘルツ電磁波時間分解分光装置 |
JP2003232730A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-22 | Tochigi Nikon Corp | テラヘルツ光検出器 |
JP2004003902A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-08 | Tochigi Nikon Corp | テラヘルツ光を用いた平面基板の電気特性測定方法 |
JP2005121513A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Japan Science & Technology Agency | 反射分光スペクトル観測のための光学配置 |
WO2006092874A1 (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-08 | Osaka University | 高分解・高速テラヘルツ分光計測装置 |
JP2007281419A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-10-25 | Canon Inc | 光伝導素子及びセンサ装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013170899A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Canon Inc | 測定装置及び測定方法、トモグラフィー装置 |
JP2013181929A (ja) * | 2012-03-04 | 2013-09-12 | Canon Inc | 測定装置及び方法、トモグラフィ装置及び方法 |
JP2013228329A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Jfe Steel Corp | 表面検査装置および欠陥計測方法 |
JP2014001925A (ja) * | 2012-06-14 | 2014-01-09 | Canon Inc | 測定装置及び方法、トモグラフィ装置及び方法 |
JP2014222157A (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-27 | パイオニア株式会社 | テラヘルツ波計測装置 |
JP2015203624A (ja) * | 2014-04-14 | 2015-11-16 | キヤノン株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
JP2018010012A (ja) * | 2017-09-19 | 2018-01-18 | キヤノン株式会社 | 測定物情報取得装置とその取得方法 |
JPWO2019116461A1 (ja) * | 2017-12-13 | 2020-11-19 | 株式会社日立ハイテク | 遠赤外光源、遠赤外分光装置 |
JP7012098B2 (ja) | 2017-12-13 | 2022-02-10 | 株式会社日立ハイテク | 遠赤外光源、遠赤外分光装置 |
US11644418B2 (en) | 2017-12-13 | 2023-05-09 | Hitachi High-Tech Corporation | Far-infrared light source and far-infrared spectrometer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5717335B2 (ja) | 2015-05-13 |
US20110272579A1 (en) | 2011-11-10 |
WO2010084765A1 (en) | 2010-07-29 |
US8232526B2 (en) | 2012-07-31 |
WO2010084765A4 (en) | 2010-11-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5717335B2 (ja) | 分析装置 | |
CN105466886B (zh) | 中红外扫描系统 | |
JP5367298B2 (ja) | ビーム走査式画像生成装置 | |
JP5721195B2 (ja) | 光学特性測定装置及び光学特性測定方法 | |
KR20130114242A (ko) | 이물 검출 장치 및 이물 검출 방법 | |
US9134182B2 (en) | Measurement apparatus and method, tomography apparatus and method | |
JP5735824B2 (ja) | 情報取得装置及び情報取得方法 | |
JP2013181929A (ja) | 測定装置及び方法、トモグラフィ装置及び方法 | |
JP5284184B2 (ja) | テラヘルツ波の時間波形を取得するための装置及び方法 | |
JP4761817B2 (ja) | 干渉計,フーリエ分光装置 | |
WO2020017017A1 (ja) | 光計測装置および試料観察方法 | |
JP2006308426A (ja) | テラヘルツ測定装置 | |
US9924115B2 (en) | Apparatus and method for three-dimensional infrared imaging of surfaces | |
US10184835B2 (en) | High dynamic range infrared imaging spectroscopy | |
CN112945130B (zh) | 同时获得深度和表面信息的超快显微成像系统 | |
JP2017067613A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2016186424A (ja) | 情報取得装置及び固定具 | |
KR101505745B1 (ko) | 이중 검출 반사 공초점 현미경 및 이를 사용하는 시편의 높이의 정보를 검출하는 방법 | |
Rousseau et al. | Hadamard multiplexing in laser ultrasonics | |
US8610901B2 (en) | Method and apparatus for determining flatness characteristic for reflective facet of polygon assembly | |
JP2006300661A (ja) | 干渉計,フーリエ分光装置 | |
JP2016028230A (ja) | 測定装置及び測定方法 | |
JP2016053540A (ja) | テラヘルツ波計測装置及びテラヘルツ波計測装置の調整方法 | |
JP7407683B2 (ja) | 情報取得装置 | |
JP2006300664A (ja) | フーリエ分光装置,測定タイミング検出方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121219 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140701 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140901 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150217 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150317 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |