JP2010165616A - 高分子電解質膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】イオン性基の金属塩を含有する高分子電解質溶液の流延塗布工程、乾燥工程、酸処理工程をこの順に有する高分子電解質膜の製造方法において、下記工程を有することを特徴とする高分子電解質膜の製造方法。
(1) 流延塗布工程前の該高分子電解質溶液にグリコール類および/または環状金属捕捉剤を添加する工程。
(2) 乾燥工程後にグリコール類および/または環状金属捕捉剤を除去する工程。
【選択図】なし
Description
(1) 流延塗布工程前の該高分子電解質溶液にグリコール類および/または環状金属捕捉剤を添加する工程。
(2) 乾燥工程後にグリコール類および/または環状金属捕捉剤を除去する工程。
実施例中の特性は下記に示す方法で測定した。
(1)膜厚
ミツトヨ製グラナイトコンパレータスタンドBSG−20にセットしたミツトヨ製ID−C112型を用いて測定した。
(2)ヘーズ
スガ試験機製ヘーズメーター“HGM−2DP”を用いてDry状態およびWet状態のヘーズを測定した。
(3)電解質膜のスルホン酸基密度
作製した電解質膜を0.1g計り取り真空乾燥機にて80℃12時間以上減圧乾燥後、重量を測定した。電解質膜を30%の塩化カリウム溶液に2時間浸漬し純水で洗浄後、再び真空乾燥機にて80℃で12時間以上乾燥した。電解質膜を入れたサンプル瓶に10wt%の硫酸(秤量)を入れ60℃で2時間浸漬した。10wt%硫酸溶液を純水で10倍に薄めた液をサンプルとし、大塚電子製キャピラリー電気泳動装置でカリウム量を測定した。測定した濃度から、下記式に従いスルホン酸基密度を算出した。
スルホン酸基密度(mmol/g)=[酸処理液中カリウム重量(g)×1000]/[39×電解質膜重量(g)]
(4)引張試験
電解質膜をJISのK−7127に準じ、2号型試験片の1/2サイズにカットしたものを試験片とした。測定装置には島津製“オートグラフ”を用い、試験速度は20±2.0mm/minで実施し、破断点応力(MPa)および破断点伸度(%)を測定した。
(5)低加湿下での発電評価(水素燃料)
燃料電池セルをセル温度80℃、燃料ガス:水素、酸化ガス:空気、ガス利用率:アノード70%/カソード40%、加湿;アノード側30%RH/カソード30%RH、背圧0.1MPa(両極)において電流−電圧(I−V)測定した。電流−電圧曲線の電流と電圧の積が最高になる点を電極面積で割った値を出力密度とした。
4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン(495g、DHBP、東京化成試薬)、モンモリロナイトクレイK10(750g、アルドリッチ試薬)を入れ、窒素置換後、エチレングリコール(1200mL、和光純薬試薬)/オルトギ酸トリメチル(500mL、和光純薬試薬)を追加した。攪拌しながらバス温110℃/内温74℃/蒸気温52℃で、メタノール、ギ酸メチルをオルトギ酸トリメチルとともに徐々に蒸留させながら8時間反応させた。次に、オルトギ酸トリメチル500mLを追加し、さらに8時間反応させた。酢酸エチル1Lで希釈後、濾過によりクレイを除去し、1.5Lの酢酸エチルで洗液した。2%NaHCO3水溶液1Lで4回、飽和食塩水1Lで1回抽出し、Na2SO4で脱水後、濃縮した。得られた白色スラリー溶液へジクロロメタン500mL追加し濾過、洗浄後、目的の加水分解性可溶性付与基を含むモノマーである2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,3−ジオキソラン(K−DHBP)/DHBP混合物を淡黄色固体として得た(K−DHBP/DHBP=94/6(mol%))。構造は1H−NMRで確認し、K−DHBP/DHBPの比を算出した。その他不純物はガスクロマトグラフィーで認められなかった。
前記、重合原液Aを大量の水中で沈殿し水洗後、80℃の真空乾燥機で12時間以上乾燥した。乾燥ポリマーをN−メチル−2−ピロリドン中に溶解し固形分25%の塗液とした。当該液にポリマーの10wt%にあたる18−Crown−6を加え、均一になるまで撹拌した。当該液をガラス板上に流延塗布し、60℃にて10分さらに100℃にて2時間乾燥して21μmのフィルムを得た。60℃の10%硫酸に2時間浸漬してプロトン置換した後に大過剰量の純水に1日間以上浸漬して充分洗浄し、60℃2時間乾燥して電解質膜Aを得た。
前記、重合原液Aを久保田製作所製“インバーター・コンパクト高速冷却遠心機6930”にアングルローターRA−800をセットし、25℃、30分間、遠心力20000Gで固液分離を行った。上澄み液を回収し、固形分が25wt%になるようNMPを添加して調整した。該塗液にポリマーの10wt%にあたる18−Crown−6を加え、均一になるまで撹拌した。当該液をガラス板上に流延塗布し、60℃にて10分さらに100℃にて2時間乾燥して21μmのフィルムを得た。60℃の10%硫酸に2時間浸漬してプロトン置換した後に大過剰量の純水に1日間以上浸漬して充分洗浄し、60℃2時間乾燥して電解質膜Bを得た。
18−Crown−6を添加しなかった以外は実施例1と同様に作製し、電解質膜Cを得た。
18−Crown−6の添加量をポリマー重量の50wt%にした以外は実施例1と同様に作製し、電解質膜Dを得た。
添加剤としてPEG300を用いた以外は実施例1と同様に作製し、電解質膜Eを得た。
この電解質膜Eのヘーズは6.2%であり、水に浸漬したときのヘーズが35.6%であった。また、引張試験結果から、破断点強度は76MPa、破断点伸度は180%であった。また、低加湿下での発電評価では500mW/cm2得られた。このことから、PEG300においても凝集抑制効果が得られたことがわかった。
炭酸カリウム6.2g(アルドリッチ試薬、50mmol)、前記K−DHBP/DHBP=94/6(mol%)混合物38.4g(150mmol)を混合し撹拌した。窒素置換後、NMP50mL、トルエン25mLを加え、環流しながら180℃で2時間脱水した。
Claims (4)
- イオン性基の金属塩を含有する高分子電解質溶液の流延塗布工程、乾燥工程、酸処理工程をこの順に有する高分子電解質膜の製造方法において、下記工程を有することを特徴とする高分子電解質膜の製造方法。
(1) 流延塗布工程前の該高分子電解質溶液にグリコール類および/または環状金属捕捉剤を添加する工程。
(2) 乾燥工程後にグリコール類および/または環状金属捕捉剤を除去する工程。 - 前記環状金属捕捉剤がクラウンエーテル類である請求項1記載の高分子電解質膜の製造方法。
- 前記グリコール類が多価アルコールまたは分子量4000以下のポリエチレングリコールである請求項1または2記載の高分子電解質膜の製造方法。
- 前記、高分子電解質が芳香族炭化水素系電解質である請求項1〜3のいずれか記載の高分子電解質膜の製造方法。
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