JP2010161316A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010161316A JP2010161316A JP2009004026A JP2009004026A JP2010161316A JP 2010161316 A JP2010161316 A JP 2010161316A JP 2009004026 A JP2009004026 A JP 2009004026A JP 2009004026 A JP2009004026 A JP 2009004026A JP 2010161316 A JP2010161316 A JP 2010161316A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- support means
- processed
- plasma processing
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】異常放電の発生を抑制可能とするプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】反応室αを有するように、絶縁フランジ81を挟んでチャンバ2と電極フランジ4から構成される処理室内に、被処理体10を載置する支持手段15と、これを上下移動する昇降機構と、被処理体に向けてプロセスガスを供給するシャワープレート5を収容する。チャンバの側壁に、反応室に被処理体の搬出入口12を設けると共に、支持手段に一端が接続され、チャンバに他端が接続されるプレート部材40を設ける。該プレート部材は、支持手段の外周縁部に設けた第一部位と、チャンバの側壁部に設けた第二部位、及び支持手段の移動に伴い、第一部位と第二部位とに電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位から構成されている。シャワープレートに配置されたガス噴出口6を通して導出されたプロセスガスがプラズマ化するように印加する電圧印加手段33を備える。
【選択図】図1
【解決手段】反応室αを有するように、絶縁フランジ81を挟んでチャンバ2と電極フランジ4から構成される処理室内に、被処理体10を載置する支持手段15と、これを上下移動する昇降機構と、被処理体に向けてプロセスガスを供給するシャワープレート5を収容する。チャンバの側壁に、反応室に被処理体の搬出入口12を設けると共に、支持手段に一端が接続され、チャンバに他端が接続されるプレート部材40を設ける。該プレート部材は、支持手段の外周縁部に設けた第一部位と、チャンバの側壁部に設けた第二部位、及び支持手段の移動に伴い、第一部位と第二部位とに電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位から構成されている。シャワープレートに配置されたガス噴出口6を通して導出されたプロセスガスがプラズマ化するように印加する電圧印加手段33を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、プラズマ処理装置に係り、より詳細には、たとえば被処理体からなる被処理体への薄膜形成(成膜)やドライエッチング等の各種プラズマ処理を可能とするプラズマ処理装置に関する。
従来から、プラズマ処理の一例として、プロセスガスをプラズマ化させて、被処理体上に薄膜を形成するプラズマCVD法による成膜装置(p−CVD成膜装置)が知られている。このp−CVD成膜装置は、例えば被処理体上にアモルファスシリコン(a−Si)膜を形成する際に利用される。
図7は、従来のp−CVD成膜装置の一例を示す模式的な断面図である。図7において、成膜装置101はチャンバ102を有しており、チャンバ102の下部には、チャンバ102の底面を挿通し、昇降自在とする支柱125が配置されている。その支柱125のチャンバ102内の端部には、板状のベースプレート103が取り付けられている。チャンバ102の上部には、絶縁フランジ181を介して電極フランジ104が取り付けられている。これにより、成膜装置101は、反応室を有するように、絶縁フランジ181を挟んでチャンバ102と電極フランジ104から構成される処理室を備える。
電極フランジ104は、有底容器状に形成され、容器開口部には容器内部を蓋するようにシャワープレート105が取り付けられている。したがって、シャワープレート105と電極フランジ104との間に空間131が形成されている。
電極フランジ104にはガス導入管107が接続されており、プロセスガス供給部121よりプロセスガスを空間131内に導入することができるように構成されている。シャワープレート105には多数のガス噴出口106・・106が設けられており、空間131内に導入されたプロセスガスはガス噴出口106からチャンバ102内に噴出されるように構成されている。
また、被処理体からなる被処理体110を成膜する際に、チャンバ102の内壁面などにも成膜材料が付着してしまうため、チャンバ102に接続されたフッ素ガス供給部122から供給されたフッ素ガスをラジカル源123で分解し、これによるフッ素ラジカルを、チャンバ102内の成膜空間に供給し、付着物(成膜材料)を除去することができるように構成されている。
ベースプレート103は、表面が平坦に形成されており、その上面に支持手段115が載置されている。このようにベースプレート103の上に支持手段115を載置することで、支持手段115の変形量を抑制することができる。また、支持手段115は、ベースプレート103と同様に表面が平坦に形成されており、その上面に被処理体110が載置されている。被処理体110を配置すると、被処理体110とシャワープレート105とは互いに近接して略平行に位置するように構成されている。支持手段115上に被処理体110を配置した状態で、ガス噴出口106からプロセスガスを噴出させると、そのプロセスガスは被処理体110の表面に吹き付けられる。
電極フランジ104とシャワープレート105とは、ともに導電材で構成されており、電極フランジ104はチャンバ102の外部に設けられた高周波(たとえばRF)電源133に接続されている。
また、支持手段115と、チャンバ102の内底面との間を電気的に接続するように導電材からなるプレート部材140が複数配置されている。このプレート部材140は、支持手段115とベースプレート103との導通が取れている場合、ベースプレート103の裏面一端が電気的に接続され、他端がチャンバ102の内底面近傍に接続されている。つまり、チャンバ102が接地電位に保たれると、プレート部材140を介して、支持手段115及びベースプレート103も接地電位に保たれるように構成されている。
上記構成の成膜装置101を用いて被処理体110の表面に薄膜を成膜するには、まず、真空ポンプ128でチャンバ102内を真空排気する。チャンバ102内を真空状態に維持した状態で、被処理体110をチャンバ102内に搬入し、支持手段115上に載置する。その後、ガス導入管107からプロセスガスを導入して、ガス噴出口106からチャンバ102内にプロセスガスを噴出させる。
電極フランジ104は絶縁フランジ181を介してチャンバ102と絶縁されており、チャンバ102を接地電位に接続した状態で、高周波電源133を起動して電極フランジ104に高周波電力を印加する。これにより、シャワープレート105と支持手段115との間に高周波電圧が発生して放電が生じ、電極フランジ104と被処理体110の表面との間にプロセスガスのプラズマpが発生する。こうして発生したプラズマp内でプロセスガスが分解され、被処理体110の表面で気相成長反応が起こることにより、被処理体110の表面に薄膜が成膜される。
また、被処理体110への成膜が何度か繰り返されると、チャンバ102の内壁面などに成膜材料が付着するため、チャンバ102内をクリーニングする。クリーニングは、チャンバ102に接続されたフッ素ガス供給部122から供給されたフッ素ガスをラジカル源123で分解し、これによるフッ素ラジカルをチャンバ102内の成膜空間に供給し、化学反応させることで付着物を除去する。
ここで、プラズマCVD法では、通常13.56MHzを発振周波数とする高周波電源を使用することが一般的である。また、プラズマCVD装置で量産に対応できる成膜速度を得るには、成膜空間の圧力を100Pa〜300Paにすることが多い。この圧力条件においては、電圧が印加されるシャワープレート105と接地電極として機能している支持手段115との間の電極間距離は、15〜25mm程度にすることが一般的である。
このような狭い空間内で被処理体110の出し入れを行なうことは困難であり、特に被処理体110の大型化が進んでいる現状においては、さらに被処理体110の出し入れの困難さは増している。この問題を解決するために、ベースプレート103及び支持手段115を上下方向に昇降可能に構成されたものが知られている。このようなベースプレート103及び支持手段115が昇降可能に構成された成膜装置101では、ベースプレート103及び支持手段115の電位とチャンバ102の電位とを同電位にするため、つまり、接地電位にするために、可撓性を有したプレート部材140が複数設けられている。
また、従来の高周波電力によるCCP(Charged Coupled Plasma)を利用したプラズマCVD法では、プラズマを発生させるとき、支持手段115の外周からチャンバ102の内壁を通ってリターンする電流経路を経て、高周波電流を流すことでプロセスを実現している。
ところで、昨今の液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)製造ならびに太陽電池製造においてプラズマ処理装置は欠かせないが、処理対象である被処理体の大型化に伴い、装置サイズも大きくなってきている。そのため、処理する被処理体面積が大きくなるにつれ、投入する高周波電力も大きくなり、また、ナローギャップ放電によるハイレート成膜が必要とされることから、大電流を流す必要がある。
しかしながら、従来のプレート部材を用いる方式では、複数のプレート部材のうち、1つでも他と接触具合が異なると、この1つのプレート部材において局所的に大きな電位差が発生する。その結果、異常放電(放電抜け)が発生し、RFパワーのプラズマ処理への実効効率が低減すると共に、異常放電によるインピーダンス不整合も起こり、投入できる電力の上限値が低下するという不具合を引き起こしてしまう。この異常放電は、チャンバに対するプレート部材の接触不具合が原因であるが、搬出入口側においてより顕著に発生する傾向がある。これは、チャンバの側壁に設けられ、反応室内に被処理体を搬出・搬入するための搬出入口として機能する空間の存在がインダクタンスの局所的な低下を起こし、装置壁周囲でのインダクタンスのアンバランスを生むためである。
また、このような異常放電の発生は、被処理体等の被処理体に対して面内均一性の高い処理を阻害する要因になったり、あるいはチャンバの内壁の消耗を促す等の不具合をまねいたりする。
また、このような異常放電の発生は、被処理体等の被処理体に対して面内均一性の高い処理を阻害する要因になったり、あるいはチャンバの内壁の消耗を促す等の不具合をまねいたりする。
そこで、第2電極として機能するウエハ保持プレート部(支持手段に相当)の外周部の周囲に、電気絶縁材料からなる絶縁部を配置することで、異常放電の発生を防止するようにした手段が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、支持手段の外周とチャンバの側壁との間に、支持手段と共に移動可能となる仕切り部材を設け、さらに、この仕切り部材の外側の端部に、チャンバの側壁に沿って延在する遮蔽部材を設けることで、遮蔽部材によって搬出入口を塞いでプラズマを処理槽内に閉じ込めるようにした手段も提案されている。(例えば、特許文献2参照)。
しかしながら、上記特許文献1に記載の発明では、ウエハ保持プレート部の電位と反応容器の電位との差を小さくすることができないため、ナローギャップ放電によるハイレート成膜が必要とされる場合に高周波大電流を流すと、大きな電位差が生じることによって異常放電が発生してしまう虞があった。
また、上記特許文献2に記載の発明では、プラズマ密度の低下を抑制してプラズマ効率の最適化が図れるものの、異常放電の発生を解消することは困難であった。
また、上記特許文献2に記載の発明では、プラズマ密度の低下を抑制してプラズマ効率の最適化が図れるものの、異常放電の発生を解消することは困難であった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、投入する高周波電力が大きくなっても、被処理体を載置する支持手段とチャンバとの間において、異常放電の発生を抑制することが可能なプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
本発明の請求項1に係るプラズマ処理装置は、反応室を有するように、絶縁フランジを挟んでチャンバと電極フランジから構成される処理室、前記反応室内に収容されて、被処理体を載置し温度制御機能を備えた支持手段、前記チャンバの側壁に設けられ、前記反応室に前記被処理体を搬出・搬入するための搬出入口、前記支持手段に一端が電気的に接続され、前記チャンバに他端が接続されるプレート部材、および、前記反応室内に収容されて、前記被処理体の被処理面に対向配置され、該被処理体に向けてプロセスガスを供給するシャワープレート、を備え、前記プレート部材が、前記支持手段の外周縁部に設けた第一部位、前記チャンバの側壁部に設けた第二部位、及び、前記支持手段の移動に伴い、前記第一部位と前記第二部位の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位、から構成されることを特徴とする。
本発明の請求項2に係るプラズマ処理装置は、前記請求項1に記載のプラズマ処理装置において、前記第一部位が、前記支持手段より下方に位置する一面を有し、該一面に前記弾性部材が配されていることを特徴とする。
本発明の請求項3に係るプラズマ処理装置は、前記請求項1に記載のプラズマ処理装置において、前記第二部位が、前記支持手段より下方に位置する一面を有し、該一面に前記弾性部材が配されていることを特徴とする。
本発明の請求項4に係るプラズマ処理装置は、前記請求項1乃至3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置において、前記第三部位の形状が、チューブ状またはバネ状であることを特徴とする。
本発明のプラズマ処理装置によれば、支持手段に一端が接続され、チャンバに他端が接続されるプレート部材が設けられ、該プレート部材が、支持手段の外周縁部に設けた第一部位と、チャンバの側壁部に設けた第二部位、及び支持手段の移動に伴い、第一部位と第二部位とに電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位から構成されたものとなっている。これにより、支持手段の移動によって第三部位が第一部位と第二部位との間に挟まれ、第三部位が弾性変形することから、この第三部位を介して第一部位と第二部位とが短い距離で電気的に接続された状態が安定して得られる。つまり、第三部位の弾性変形の範囲内であれば、第三部位が複数存在しても、この安定性は確保される。ゆえに、第三部位の個数に依存することなく、第一部位と第二部位が第三部位によって確実に接続された状態が保たれる。ゆえに、第一部位と第二部位により第三部位を挟み込む構成としたプレート部材を備えることにより、プレート部材のインダクタンスを低減させ、支持手段とシャワープレートの間に、大面積で安定したプラズマを発生し、長時間に亘って維持することが可能となる。
したがって、投入する高周波電力が大きくなっても、プレート部材において大きな電位差を発生することなく、異常放電の発生を抑制できるプラズマ処理装置が得られる。この構成からなるプレート部材は、搬出入口の存在による異常放電の発生を解消する効果ももたらす。
したがって、投入する高周波電力が大きくなっても、プレート部材において大きな電位差を発生することなく、異常放電の発生を抑制できるプラズマ処理装置が得られる。この構成からなるプレート部材は、搬出入口の存在による異常放電の発生を解消する効果ももたらす。
また、本発明によれば、プレート部材を構成する第一部位と第二部位とを分離した状態で両者の間隔を所望の距離だけ広げることができるので、被処理体の出し入れを容易に行なうことが可能となる。さらに本発明によれば、異常放電の発生が抑制されることによって、大面積の被処理体に対しても面内均一性の高いプラズマ処理を行うことができると共に、チャンバの内壁にダメージを与えるという不具合をも改善することが可能となる。
次に、本発明に係るプラズマ処理装置について、図1と図2、あるいは図1と図3に基づいて説明する。なお、本実施の形態では、支持手段がシャワープレートに対して上下動するタイプの装置例について述べる。
図1に示すように、プラズマCVD法によるプラズマ処理装置1は、反応室αを有するように、絶縁フランジ81を挟んでチャンバ2と電極フランジ4から構成される処理室を備えている。すなわち、チャンバ2の上部には、絶縁フランジ81を介して電極フランジ4が取り付けられている。
図1に示すように、プラズマCVD法によるプラズマ処理装置1は、反応室αを有するように、絶縁フランジ81を挟んでチャンバ2と電極フランジ4から構成される処理室を備えている。すなわち、チャンバ2の上部には、絶縁フランジ81を介して電極フランジ4が取り付けられている。
一方、チャンバ2の下部には、チャンバ2の底部11を挿通するように支柱25が配置されており、支柱25の端部(チャンバ2内)は、板状のベースプレート3の底面19と接続されている。
また、プラズマ処理装置1は、反応室α内に収容されて、被処理体からなる被処理体10を載置する支持手段15を備えている。この支持手段15は、反応室αの下方の位置に配置されている。なお、図1では、平板状の被処理体を例示しているが、被処理体の形状はこれに限定されるものではない。
チャンバ2には、排気管28の一端が接続され、排気管28の他端には真空ポンプ27が設けられており、この真空ポンプ27を起動し、排気管28を介してチャンバ2の内部を真空排気することで、チャンバ2内を真空状態にすることができるように構成されている。したがって、反応室αは気密な真空処理室を構成する。また、チャンバ2の側壁には、反応室αに被処理体10を搬出・搬入するための搬出入口12が設けられ、この搬出入口12には、これを開口するドアバルブ35が設けられている。
なお、チャンバ2は、電気的には接地電位に接続されている。ここで、接地電位に接続されているとは、グランド電位状態もしくはアースした状態をいう。
なお、チャンバ2は、電気的には接地電位に接続されている。ここで、接地電位に接続されているとは、グランド電位状態もしくはアースした状態をいう。
ベースプレート3は、表面が平坦に形成された板状の部材であり、その上面に支持手段15が載置されている。ベースプレート3は、インコネル(登録商標)などのニッケル系合金で形成されている。なお、ベースプレート3は、剛性を有し、耐食性および耐熱性を有するものであればよい。
支柱25は、チャンバ2の外部に設けられた図示しない昇降機構に接続されており、上下方向に移動可能に構成されている。つまり、支柱25の端部に接続されているベースプレート3および支持手段15を上下方向に昇降可能に構成されている。チャンバ2の外部において、支柱25の周囲を覆うようにベローズ26が設けられている。
電極フランジ4は、有底容器状に形成され、容器開口部には容器内部を覆うようにシャワープレート5が取り付けられている。このシャワープレート5は、反応室α内に収容され、被処理体10の被処理面に対向配置されて、被処理体10に向けてプロセスガスを供給する。したがって、シャワープレート5と電極フランジ4との間に空間31が形成されている。
シャワープレート5には、複数の噴出口6・・6がそれぞれ設けられており、空間31内に導入されたプロセスガスが、このガス噴出口6・・6からチャンバ2内に噴出されるように構成されている。
また、電極フランジ4とシャワープレート5とは、ともに導電材で構成されており、電極フランジ4はチャンバ2の外部に設けられた高周波電力印加手段である高周波(たとえばRF)電源33に接続されている。高周波電源33は、ガス噴出口6・・6を通して被処理体10に向けて導出されたプロセスガスがプラズマ化するように、シャワープレート5からなる第一電極部と、支持手段15からなる第二電極部との間に印加する。
支持手段15は、ベースプレート3と同様に表面が平坦に形成された板状の部材であり、その上面に被処理体10が載置される。この支持手段15は、接地電極として機能するため、導電性を有するものが採用される。被処理体10を支持手段15上に配置すると、被処理体10とシャワープレート5とは互いに近接して平行に位置するように構成されている。支持手段15上に被処理体10を配置した状態で、ガス噴出口6・・6からプロセスガスを噴出させると、そのプロセスガスは被処理体10の表面に吹き付けられる。
また、支持手段15は、その内部に温度制御機能を有するヒータ16を備えており、温度調節可能に構成されている。このヒータ16は、例えばアルミニウム合金で形成されている。ヒータ16は、支持手段15の平面視略中央部の底面17から突出されており、ヒータ16への電力供給ラインはベースプレート3の平面視略中央部に形成された貫通孔18および支柱25の内部を挿通して、チャンバ2の外部へと導かれている。そして、ヒータ16の電力供給ラインは、チャンバ2の外部にて図示しない電源と接続され、温度調節がなされるように構成されている。
さらに、プラズマ処理装置1は、支持手段15に一端が電気的に接続され、チャンバ2に他端が接続されるプレート部材40を備える。プレート部材40は、支持手段15の外周縁部に設けた第一部位41と、チャンバ2の側壁部に設けた第二部位42と、支持手段15の上下動(移動)に伴い、第一部位41と第二部位42の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位43とから構成されている。これらの第一部位41、第二部位42、第三部位43は、支持手段15の周囲に連続して配された枠状体又は環状体、もしくは支持手段15の周囲に沿って、所定の間隔を開けて分割して枠状又は環状に配された小片部材によって構成されたものとすることができる。
このようなプレート部材40は、たとえば図2に示すような構成とすることができる。図2は、図1におけるA部の一例を示す概略拡大図であり、図2(A)は支持手段が下降した状態を、図2(B)は支持手段が上昇した状態をそれぞれ示している。
図2に示すように、プレート部材40は、支持手段15の外周縁部に設けた第一部位41と、チャンバ2の側壁部に設けた第二部位42と、支持手段15の上下動(移動)に伴い、第一部位41と第二部位42の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位43とから構成されている。この第三部位43は、チューブ状またはバネ状をしており、図2は、チューブ状の第三部位43が第一部位41に載置された例である。
図2に示すように、プレート部材40は、支持手段15の外周縁部に設けた第一部位41と、チャンバ2の側壁部に設けた第二部位42と、支持手段15の上下動(移動)に伴い、第一部位41と第二部位42の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位43とから構成されている。この第三部位43は、チューブ状またはバネ状をしており、図2は、チューブ状の第三部位43が第一部位41に載置された例である。
この第一部位41は、図2(A)に示すように、支持手段15より下方に位置する一面41aを有し、該一面41aにチューブ状の弾性部材からなる第三部位43が配されている。したがって、図2(A)に示すように、支持手段15が下降した状態では、第三部位43は第二部位42とは接触せず、第一部位41と第二部位42は電気的に接続されていない。一方、図2(B)に示すように、支持手段15が上昇した状態では、第三部位43は、第一部位41と第二部位42との間に挟まれるようにして第二部位42と接触し、第一部位41と第二部位42は第三部位43を介して電気的に接続されたものとなる。その際、第三部位43は、チューブ状の弾性部材から構成されているので、第一部位41と第二部位42との間に挟まれることで容易に変形し、やや扁平状になりながら元の形状に戻ろうとする弾性負勢力をもって第一部位41及び第二部位42と接続された状態となっている。
なお、図2の構成では、支持手段15より下方に位置する第一部位41の一面41aに、チューブ状の弾性部材からなる第三部位43を配置したことにより、第一部位41と第二部位42が電気的に接続された場合、支持手段とシャワープレートとの間に発生するプラズマに第三部材43が曝される状態を回避することが可能となる。
なお、図2の構成では、支持手段15より下方に位置する第一部位41の一面41aに、チューブ状の弾性部材からなる第三部位43を配置したことにより、第一部位41と第二部位42が電気的に接続された場合、支持手段とシャワープレートとの間に発生するプラズマに第三部材43が曝される状態を回避することが可能となる。
また、プレート部材40は、図2の構成に代えて図3に示すような構成とすることもできる。図3は、図1におけるA部の他の一例を示す概略拡大図であり、図3(A)は支持手段が下降した状態を、図3(B)は支持手段が上昇した状態をそれぞれ示している。図3は、チューブ状の第三部位43が第二部位42に載置された例である。
この第二部位42は、図3(B)に示すように、支持手段15より下方に位置する一面42aを有し、該一面42aにチューブ状の弾性部材からなる第三部位43が配されている。したがって、図3(A)に示すように、支持手段15が下降している状態では、第三部位43は第一部位41とは接触せず、第一部位41と第二部位42は電気的に接続されていない。一方、図3(B)に示すように、支持手段15が上昇した状態では、第三部位43は、第一部位41と第二部位42との間に挟まれるようにして第一部位41と接触し、第一部位41と第二部位42は第三部位43を介して電気的に接続されたものとなる。この時の第三部位43もまた、チューブ状の弾性部材から構成されているので、第一部位41と第二部位42との間に挟まれることで容易に変形し、やや扁平状になりながら元の形状に戻ろうとする弾性負勢力をもって第一部位41及び第二部位42と接続された状態となっている。
なお、図3の構成においても、支持手段15より下方に位置する第二部位42の一面42aに、チューブ状の弾性部材からなる第三部位43を配置したことにより、第一部位41と第二部位42が電気的に接続された場合、支持手段とシャワープレートとの間に発生するプラズマに第三部材43が曝される状態を回避することが可能となる。
なお、図3の構成においても、支持手段15より下方に位置する第二部位42の一面42aに、チューブ状の弾性部材からなる第三部位43を配置したことにより、第一部位41と第二部位42が電気的に接続された場合、支持手段とシャワープレートとの間に発生するプラズマに第三部材43が曝される状態を回避することが可能となる。
また、本発明においては、図4乃至図6に示すように、第三部位53を板バネ状としたプレート部材50を備えたプラズマ処理装置51とすることもできる。図4乃至図6において、図1乃至図3に示した部分と同様の構成部分は同じ符号を付してその説明は省略し、特に説明しない限り同じであるものとする。
すなわち、図4に示すプラズマ処理装置51は、支持手段15に一端が電気的に接続され、チャンバ2に他端が接続されるプレート部材50を備える。プレート部材50は、支持手段15の外周縁部に設けた第一部位41と、チャンバ2の側壁部に設けた第二部位42と、支持手段15の上下動(移動)に伴い、第一部位41と第二部位42の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位53とから構成されている。
このようなプレート部材50は、たとえば図5に示すような構成とすることができる。図5は、図4におけるB部の一例を示す概略拡大図であり、図5(A)は支持手段が下降した状態を、図5(B)は支持手段が上昇した状態をそれぞれ示している。図5は、板バネ状の第三部位43が第一部位41に載置された例である。
図5に示すように、プレート部材50は、支持手段15の外周縁部に設けた第一部位41と、チャンバ2の側壁部に設けた第二部位42と、支持手段15の上下動(移動)に伴い、第一部位41と第二部位42の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位53とから構成されている。図5において、板バネ状の第三部位53が示されている。
図5に示すように、プレート部材50は、支持手段15の外周縁部に設けた第一部位41と、チャンバ2の側壁部に設けた第二部位42と、支持手段15の上下動(移動)に伴い、第一部位41と第二部位42の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位53とから構成されている。図5において、板バネ状の第三部位53が示されている。
この第一部位41は、図5(A)に示すように、支持手段15より下方に位置する一面41aを有し、該一面41aに板バネ状の弾性部材からなる第三部位53が配されている。したがって、図5(A)に示すように、支持手段15が下降している状態では、第三部位53は第二部位42とは接触せず、第一部位41と第二部位42は電気的に接続されていない。一方、図5(B)に示すように、支持手段15が上昇した状態では、第三部位53は、第一部位41と第二部位42との間に挟まれるようにして第二部位42と接触し、第一部位41と第二部位42は第三部位53を介して電気的に接続されたものとなる。その際、第三部位53は、板バネ状の弾性部材から構成されているので、第一部位41と第二部位42との間に挟まれることで容易に変形し、やや潰れたように折り畳まれた状態になりながら元の形状に戻ろうとする弾性負勢力をもって第一部位41及び第二部位42と接続された状態となっている。
また、プレート部材50は、図5の構成に代えて図6に示すような構成とすることもできる。図6は、図4におけるB部の他の一例を示す概略拡大図であり、図6(A)は支持手段が下降した状態を、図6(B)は支持手段が上昇した状態をそれぞれ示している。図6は、板バネ状の第三部位43が第二部位42に載置された例である。
第二部位42は、図6(B)に示すように、支持手段15より下方に位置する一面42aを有し、該一面42aに板バネ状の弾性部材からなる第三部位53が配されている。したがって、図6(A)に示すように、支持手段15が下降している状態では、第三部位53は第一部位41とは接触せず、第一部位41と第二部位42は電気的に接続されていない。一方、図6(B)に示すように、支持手段15が上昇した状態では、第三部位53は第一部位41と接触し、第一部位41と第二部位42は第三部位53を介して電気的に接続されたものとなる。この時の第三部位53もまた、板バネ状の弾性部材から構成されているので、第一部位41と第二部位42との間に挟まれることで容易に変形し、やや潰れたように折り畳まれた状態になりながら元の形状に戻ろうとする弾性負勢力をもって第一部位41及び第二部位42と接続された状態となっている。
第二部位42は、図6(B)に示すように、支持手段15より下方に位置する一面42aを有し、該一面42aに板バネ状の弾性部材からなる第三部位53が配されている。したがって、図6(A)に示すように、支持手段15が下降している状態では、第三部位53は第一部位41とは接触せず、第一部位41と第二部位42は電気的に接続されていない。一方、図6(B)に示すように、支持手段15が上昇した状態では、第三部位53は第一部位41と接触し、第一部位41と第二部位42は第三部位53を介して電気的に接続されたものとなる。この時の第三部位53もまた、板バネ状の弾性部材から構成されているので、第一部位41と第二部位42との間に挟まれることで容易に変形し、やや潰れたように折り畳まれた状態になりながら元の形状に戻ろうとする弾性負勢力をもって第一部位41及び第二部位42と接続された状態となっている。
なお、ここでは、板バネ状とした例について詳述したが、板バネ状と同様の機能を果たすもの、たとえばスプリング状のバネを代替品として利用しても構わない。ただし、スプリング状のバネをの第三部位53とした場合、支持手段15の移動に伴って第一部位41もしくは第二部位42と接触することとなる端部に尖った部分が存在することになるため、第三部位53の端部に、たとえば接触用の板状部材等を設ける形態が望ましい。このような工夫を施すことにより、第三部位53の尖った端部が原因となって異常放電が発生してしまう虞を解消することができる。
上述した構成のプレート部材50を採用することにより、プラズマによる処理空間(すなわち、支持手段とシャワープレートとの間の空間)を狭めつつ、プラズマを処理空間内に閉じ込めると共に、支持手段15とチャンバ2とを短い距離で接続することで、プレート部材40(又は50)のインダクタンスを低減させ、異常放電の発生を抑制する。特に、プレート部材40(又は50)の第二部位42が、被処理体10の搬出入口12近傍に設けられていると、インダクタンスが低減されて異常放電の発生が抑制されることになる。
電極フランジ4には、ガス導入管7が接続されており、チャンバ2の外部に設けられたプロセスガス供給手段21からガス導入管7を介して空間31内にプロセスガスを供給するように設けられている。
また、チャンバ2には、プロセスガス用のガス導入管7とは別のガス導入管24が接続されている。このガス導入管24には、フッ素ガス供給部22とラジカル源23とが設けられており、フッ素ガス供給部22から供給されたフッ素ガスをラジカル源23で分解し、これによるフッ素ラジカルを、チャンバ2内の成膜空間に供給可能なように構成されている。
次に、プラズマ処理装置1を用いて被処理体10をプラズマ処理する場合について説明する。なお、以下の説明では、プラズマ処理装置が被処理体の表面に薄膜を成膜する場合について述べる
まず、真空ポンプ27でチャンバ2内を真空排気する。チャンバ2内を真空状態に維持した状態で、被処理体10をチャンバ2内に搬入し、支持手段15上に載置する。ここで、被処理体10を載置する前は、支持手段15は真空チャンバ2内の下方に位置している。つまり、支持手段15とシャワープレート5との間隔が広くなっており、被処理体10を支持手段15上に導入して載置しやすい状態に保持されている。
まず、真空ポンプ27でチャンバ2内を真空排気する。チャンバ2内を真空状態に維持した状態で、被処理体10をチャンバ2内に搬入し、支持手段15上に載置する。ここで、被処理体10を載置する前は、支持手段15は真空チャンバ2内の下方に位置している。つまり、支持手段15とシャワープレート5との間隔が広くなっており、被処理体10を支持手段15上に導入して載置しやすい状態に保持されている。
そして、被処理体10が支持手段15上に載置された後に、図示しない昇降装置が起動して支柱25が上方へ押し上げられ、それに合わせて支持手段15上に載置された被処理体10も上方へと移動して、シャワープレート5との間隔を、成膜を行うのに適正な距離に保持される。その後、ガス導入管7からプロセスガスを導入して、空間31内へ供給(放出)すると共に、空間31内より、ガス噴出口6・・6を介してチャンバ2内にプロセスガスを噴出させる。
電極フランジ4は、絶縁フランジ81を介してチャンバ2と電気的に絶縁されており、チャンバ2を接地電位に接続した状態で、高周波電源(RF電源)33を起動して電極フランジ4に高周波電力を印加する。これにより、シャワープレート5と支持手段15との間に高周波電圧が発生して放電が生じ、電極フランジ4と被処理体10の表面との間にプラズマPが発生する。そして、プラズマP内でプロセスガスが分解され、被処理体10の表面で気相成長反応が起こることにより、被処理体10の表面に薄膜が成膜される。
なお、高周波電源としては、たとえば発振周波数が13.56MHzのRF電源が用いられるが、他の発振周波数としても構わない。また、このような成膜装置1で量産に対応できる成膜速度を得るには、成膜空間の圧力を100Pa〜300Paに設定する。この圧力条件においては電圧が印加されるシャワープレート5と接地電極である支持手段15との間の電極間距離は、通常25mm以下に設定されるが、特に高圧枯渇法を採用する場合には3〜10mm程度のナローギャップに設定される。
また、被処理体10への成膜が何度か繰り返されると、チャンバ2の内壁面などに成膜材料が付着するため、チャンバ2内を定期的にクリーニングする。クリーニングは、チャンバ2に接続されたガス導入管24に設けられたフッ素ガス供給部22から供給されたフッ素ガスをラジカル源23で分解し、これによるフッ素ラジカルを、チャンバ2内の成膜空間に供給し、化学反応させることにより付着物を除去する。
本実施の形態によれば、支持手段15に一端が電気的に接続され、チャンバ2に他端が接続されるプレート部材40(又は50)を設け、このプレート部材40(又は50)が、支持手段の外周縁部に設けた第一部位41と、チャンバの側壁部に設けた第二部位42、及び支持手段の移動に伴い、第一部位と第二部位とに電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位43から構成したことにより、高周波電圧を印加した際に流れる電流の伝送距離が短く、かつ電気的な接続も安定して確保されるので、プレート部材40(又は50)のインダクタンスを低減することができる。これにより、異常放電の発生を著しく抑制することができる。
したがって、ナローギャップ放電によるハイレート成膜が必要とされる場合でも、大電流を流すことができ、被処理体に対して面内均一性の高い薄膜を形成することができる。
したがって、ナローギャップ放電によるハイレート成膜が必要とされる場合でも、大電流を流すことができ、被処理体に対して面内均一性の高い薄膜を形成することができる。
ここでは、本発明に係るプラズマ処理装置が薄膜を形成する成膜装置とした場合について詳述したが、プロセスガスとして各種のエッチングガスを用い、被処理体自体や被処理体上に設けた各種薄膜に対してドライエッチング処理を施すエッチング装置にも、本発明は有効に機能する。すなわち、本発明によれば、被処理体自体や被処理体上に設けた各種薄膜に対して、面内均一性の高いエッチング処理を実現できるエッチング装置が得られる。
尚、本発明の技術範囲は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、上述した実施の形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施の形態で挙げた具体的な材料や構成等は一例にすぎず、適宜変更が可能である。
たとえば、本実施の形態では、支持手段が上下動する場合について詳述したが、支持手段に向かってシャワープレートが上下動する場合においても、本発明に係るプレート部材は適用できる。また、図1のプラズマ処理装置は、シャワープレートと支持手段とが紙面の上下に配置された場合を示しているが、これらの上下関係を逆転させた場合や、シャワープレートと支持手段とが左右に配置された場合にも、本発明に係るプレート部材は適用できる。
たとえば、本実施の形態では、支持手段が上下動する場合について詳述したが、支持手段に向かってシャワープレートが上下動する場合においても、本発明に係るプレート部材は適用できる。また、図1のプラズマ処理装置は、シャワープレートと支持手段とが紙面の上下に配置された場合を示しているが、これらの上下関係を逆転させた場合や、シャワープレートと支持手段とが左右に配置された場合にも、本発明に係るプレート部材は適用できる。
次に、支持手段の外周縁部に設けた第一部位と、チャンバの側壁部に設けた第二部位と、支持手段が上昇することで、第一部位と第二部位とによって挟み込まれる弾性部材からなる第三部位によって、異常放電の発生を抑制できることを確認するため、上述したプラズマ処理装置を用いて被処理体上にシリコン膜を成膜した際に投入できる高周波電力の値を測定した。
成膜は、短辺が1100mm、長辺が1400mmの大きさを有する矩形のガラス基板からなる被処理体を用い、この表面にシリコン膜を形成した。その際、第一電極部として機能するシャワープレート5の大きさは、1300mm×1600mmとし、第二電極部として機能する支持手段(ヒータを内蔵するサセプター)15の大きさは、1400mm×1700mmとした。
また、本実施例では、成膜のための原料ガスとして、ケイ素付与ガス(シランガス:SiH4)と、反応を促進する希釈ガス(水素ガス:H2)とを1:25の比率で混合したプロセスガスを、プロセスガス供給部21より供給した。
高周波電力の測定条件は、高周波電源33の周波数を27.12MHzとし、700Pa、1300Pa、2000Paの各圧力において、シャワープレートと被処理体との間の距離を、4mm,6mm,8mm,10mmとそれぞれ変更して行った。
表1に、その測定結果を纏めて示した。
表1に、その測定結果を纏めて示した。
一方、比較例として、従来のプラズマ処理装置101を用い、上記実施例と同様に、被処理体上に成膜したときに投入できる高周波電力の値を測定した。比較例の評価結果も、表1に併記した。
表1に示す高周波電力の値より、以下の点が明らかとなった。
(1)本発明に係るプラズマ処理装置を用いた場合(実施例)には、電極間距離に依存することなく、各圧力ごとに所定の高周波電力を印加できることが分かった。
(2)これに対して、従来のプラズマ処理装置を用いた場合(比較例)は、何れの電極間距離においても、各圧力ごとに所定の高周波電力を印加することは困難であることが確認された。
以上の結果より、本発明のプラズマ処理装置1は、電極間距離をナローギャップ条件とした場合でも、圧力に応じた所定の高周波電力を印加できることから、常に安定したプラズマ処理を実現できることが確認された。
(1)本発明に係るプラズマ処理装置を用いた場合(実施例)には、電極間距離に依存することなく、各圧力ごとに所定の高周波電力を印加できることが分かった。
(2)これに対して、従来のプラズマ処理装置を用いた場合(比較例)は、何れの電極間距離においても、各圧力ごとに所定の高周波電力を印加することは困難であることが確認された。
以上の結果より、本発明のプラズマ処理装置1は、電極間距離をナローギャップ条件とした場合でも、圧力に応じた所定の高周波電力を印加できることから、常に安定したプラズマ処理を実現できることが確認された。
本発明に係るプラズマ処理装置は、被処理体の大面積化が求められている液晶ディスプレイや太陽電池等の種々の半導体製造分野で利用することが可能であり、特に生産性の観点から高速成膜が必要とされるマイクロクリスタルシリコンを利用した太陽電池の製造において有用である。
α 反応室、1 プラズマ処理装置(成膜装置)、2 チャンバ、 3 ベースプレート、4 電極フランジ、5 シャワープレート、6 ガス噴出口、7 ガス導入管、10 被処理体、12 搬出入口、15 支持手段、16 ヒータ、21 プロセスガス供給手段、31 空間、33 高周波電源(RF電源)、34 ガス導入口、35 ドアバルブ、40,50 プレート部材、41 第一部位、42 第二部位、43 (チューブ状の)第三部位、53 (板バネ状の)第三部位、81 絶縁フランジ。
Claims (4)
- 反応室を有するように、絶縁フランジを挟んでチャンバと電極フランジから構成される処理室、
前記反応室内に収容されて、被処理体を載置し温度制御機能を備えた支持手段、
前記支持手段を上下移動する昇降機構、
前記チャンバの側壁に設けられ、前記反応室に前記被処理体を搬出・搬入するための搬出入口、
前記支持手段に一端が電気的に接続され、前記チャンバに他端が接続されるプレート部材、
および、前記反応室内に収容されて、前記被処理体の被処理面に対向配置され、該被処理体に向けてプロセスガスを供給するシャワープレート、
を備え、
前記プレート部材が、
前記支持手段の外周縁部に設けた第一部位、
前記チャンバの側壁部に設けた第二部位、及び、
前記支持手段の移動に伴い、前記第一部位と前記第二部位の両者と電気的に接続する導電性の弾性部材からなる第三部位、
から構成されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記第一部位が、前記支持手段より下方に位置する一面を有し、該一面に前記弾性部材が配されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第二部位が、前記支持手段より下方に位置する一面を有し、該一面に前記弾性部材が配されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第三部位の形状が、チューブ状またはバネ状であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009004026A JP2010161316A (ja) | 2009-01-09 | 2009-01-09 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009004026A JP2010161316A (ja) | 2009-01-09 | 2009-01-09 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010161316A true JP2010161316A (ja) | 2010-07-22 |
Family
ID=42578256
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009004026A Pending JP2010161316A (ja) | 2009-01-09 | 2009-01-09 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010161316A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012186248A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2016136522A (ja) * | 2009-02-04 | 2016-07-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | プラズマ処理チャンバのための高周波リターンデバイス及びプラズマ処理システム |
CN109196619A (zh) * | 2016-06-03 | 2019-01-11 | 瑞士艾发科技 | 等离子体蚀刻室和等离子体蚀刻的方法 |
WO2019226294A1 (en) * | 2018-05-25 | 2019-11-28 | Applied Materials, Inc. | Ground path systems for providing a shorter and symmetrical ground path |
CN111321463A (zh) * | 2020-03-06 | 2020-06-23 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 反应腔室 |
JP2020202243A (ja) * | 2019-06-07 | 2020-12-17 | 株式会社アルバック | プラズマ処理装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335892A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Asm Japan Kk | 薄膜形成装置 |
JP2006104575A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-20 | Applied Materials Inc | プロセスチャンバのカソードの高周波接地 |
-
2009
- 2009-01-09 JP JP2009004026A patent/JP2010161316A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335892A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Asm Japan Kk | 薄膜形成装置 |
JP2006104575A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-20 | Applied Materials Inc | プロセスチャンバのカソードの高周波接地 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016136522A (ja) * | 2009-02-04 | 2016-07-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | プラズマ処理チャンバのための高周波リターンデバイス及びプラズマ処理システム |
JP2012186248A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
CN109196619A (zh) * | 2016-06-03 | 2019-01-11 | 瑞士艾发科技 | 等离子体蚀刻室和等离子体蚀刻的方法 |
JP2019523987A (ja) * | 2016-06-03 | 2019-08-29 | エヴァテック・アーゲー | プラズマエッチングチャンバ及びプラズマエッチング方法 |
JP7156954B2 (ja) | 2016-06-03 | 2022-10-19 | エヴァテック・アーゲー | プラズマエッチングチャンバ及びプラズマエッチング方法 |
CN112088426A (zh) * | 2018-05-25 | 2020-12-15 | 应用材料公司 | 用于提供较短且对称的接地路径的接地路径系统 |
JP2021525952A (ja) * | 2018-05-25 | 2021-09-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | より短い対称的な接地経路を提供するための接地経路システム |
US11434569B2 (en) | 2018-05-25 | 2022-09-06 | Applied Materials, Inc. | Ground path systems for providing a shorter and symmetrical ground path |
WO2019226294A1 (en) * | 2018-05-25 | 2019-11-28 | Applied Materials, Inc. | Ground path systems for providing a shorter and symmetrical ground path |
TWI798443B (zh) * | 2018-05-25 | 2023-04-11 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於提供較短及對稱的接地路徑的接地路徑系統 |
JP7362669B2 (ja) | 2018-05-25 | 2023-10-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | より短い対称的な接地経路を提供するための接地経路システム |
TWI832723B (zh) * | 2018-05-25 | 2024-02-11 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於提供較短及對稱的接地路徑的接地路徑系統 |
JP2020202243A (ja) * | 2019-06-07 | 2020-12-17 | 株式会社アルバック | プラズマ処理装置 |
JP7267843B2 (ja) | 2019-06-07 | 2023-05-02 | 株式会社アルバック | プラズマ処理装置 |
CN111321463A (zh) * | 2020-03-06 | 2020-06-23 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 反应腔室 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7079686B2 (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
TWI433610B (zh) | 電漿處理設備 | |
JP2010161316A (ja) | プラズマ処理装置 | |
WO2010079756A1 (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR19990067900A (ko) | 플라즈마 화학증착(cvd) 장치 | |
TWI414628B (zh) | 電漿處理裝置及電漿cvd成膜方法 | |
JP5377749B2 (ja) | プラズマ生成装置 | |
JP2009278062A (ja) | 真空容器およびプラズマ処理装置 | |
JP5927619B2 (ja) | プラズマリアクタ | |
JP5378416B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP5022077B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP4575998B2 (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | |
JP5105898B2 (ja) | シリコン系薄膜の成膜方法 | |
JP2007220926A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
JP5394403B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2007273773A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置のクリーニング方法 | |
JP4933979B2 (ja) | 成膜装置のクリーニング方法 | |
US20090183681A1 (en) | Slotted Electrode and Plasma Apparatus Using the Same | |
JP2004356511A (ja) | プラズマ処理装置 | |
US20230059495A1 (en) | Optimization of Radiofrequency Signal Ground Return in Plasma Processing System | |
WO2010079740A1 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2008244389A (ja) | 真空処理装置、真空処理方法及びプラズマcvd方法 | |
JP2007291442A (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
KR200279497Y1 (ko) | 반도체소자 제조장치 | |
JP2010219344A (ja) | プラズマ処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110816 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20120518 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20120522 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20120925 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |