JP5927619B2 - プラズマリアクタ - Google Patents
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Description
PECVD技術は、薄膜堆積を行なうためにプラズマ処理装置を用いる。一般的に、しばしば無線周波数(RF)13.56Hz以上である外部発電器からのエネルギは、ガス入口の配列を介して反応チャンバ(プラズマボックスまたはプラズマリアクタ)に送られ、かつ、その中に密閉される前駆体ガス(またはガス混合物)に容量結合または誘導結合される。
簡略性および向上した性能に注目してプラズマリアクタを設計、エンジニアリングすることは、大きな挑戦である。この作業は、しばしば、リアクタの構成を特定の用途またはプロセスに合うように調整することによって簡略化され得る。顧客仕様を超え、かつ長いリストの要件に合うマルチ機能プラットフォームの開発は、いくつかのエンジニアリング上の問題に直面し、時に相反する物理的な課題を解決しなくてはならない。
A)真空容器と、上述の真空容器へのガス入口の配列と、真空容器中にプラズマを発生するプラズマ配列と、真空容器内の基板ホルダと、真空容器から除去されるべきガス用に真空容器の壁に接近しており、かつ、ガス入口の配列および基板ホルダから離れている排気配列とを備え、排気配列は、壁を通る少なくとも1つの排気孔と、上記の除去されるべきガス流の少なくとも一部を排気孔に入る前に真空容器から分流するように構成された少なくとも1つのガス分流器体とを含む、プラズマリアクタである。
2mm≦a≦4mm
の有効範囲があり、
上述のガス分流器体は、上述の表面から距離「b」だけ離れており、距離「b」には、
3mm≦b≦6mm
の有効範囲がある。
2mm≦a≦4mm
の有効範囲があり、
上述のガス分流器体は、上述の基板ホルダ周囲部から距離「b」だけ離れており、距離「b」には、
3mm≦b≦6mm
の有効範囲がある。
Claims (14)
- 真空容器と、前記真空容器へのガス入口の配列と、前記真空容器中にプラズマを発生するプラズマ配列と、前記真空容器内の基板ホルダと、前記真空容器から除去されるべきガス用に前記真空容器の壁に接近して設けられ、かつ、前記ガス入口の配列および前記基板ホルダから離れている排気配列とを備え、前記排気配列は、前記壁を通り、間隔を空けられた少なくとも2つの排気孔と、前記真空容器から除去されるべきガス流のみを、前記少なくとも2つの排気孔の一方または他方のいずれかに向かって分流するように構成された少なくとも1つのガス分流器体とを含み、前記少なくとも1つのガス分流器体は、一方向に延びるバーの形状を有する、プラズマリアクタ。
- 前記真空容器は、頂部壁および底部壁、ならびに側壁を含む箱の形状であり、前記少なくとも1つのガス排気配列は、前記側壁に接近して設けられており、前記プラズマを発生する前記プラズマ配列は、前記頂部壁および前記底部壁の一方に沿って延在する電極表面と、前記側壁から離れた電極表面周囲部とを有する電極を含み、前記ガス分流器体は、前記排気配列に最も近い前記電極表面周囲部のエリアを通過した前記除去されるべきガス流を選択的に分流するように構成されている、請求項1に記載のプラズマリアクタ。
- 前記真空容器は四角い箱の形状であり、前記電極表面は四角い形状である、請求項2に記載のプラズマリアクタ。
- 前記ガス分流器体は、前記排気孔に最も近い前記電極表面周囲部の横に沿って、かつそこから離れて配置され、さらに、前記排気孔に最も近い前記電極表面周囲部と前記排気孔との間の前記真空容器のスペース中の前記排気孔から離れて配置されている、請求項2に記載のプラズマリアクタ。
- 前記真空容器は、頂部壁および底部壁、ならびに側壁を含む箱の形状であり、前記少なくとも1つのガス排気配列は、前記側壁に接近して設けられており、前記基板ホルダは、前記頂部壁および前記底部壁の一方に沿って延在し、かつ、前記側壁から離れた基板ホルダ周囲部を有し、前記ガス分流器体は、前記排気配列に最も近い前記基板ホルダ周囲部のエリアを通過した前記除去されるべきガス流を選択的に分流するように構成されている、請求項1に記載のプラズマリアクタ。
- 前記真空容器は四角い箱の形状であり、前記基板ホルダは四角い形状である、請求項5に記載のプラズマリアクタ。
- 前記ガス分流器体は、前記排気孔に最も近い前記基板ホルダ周囲部の横に沿って、かつそこから離れて配置され、さらに、前記排気孔に最も近い前記基板ホルダ周囲部と前記排気孔との間の前記真空容器のスペース中の前記排気孔から離れて配置されている、請求項5に記載のプラズマリアクタ。
- 前記真空容器は、頂部壁および底部壁、ならびに側壁を含む箱の形状であり、前記少なくとも1つのガス排気配列は、前記側壁に接近して設けられており、前記プラズマを発生する前記プラズマ配列は、前記頂部壁および前記底部壁の一方に沿って延在する電極表面と、前記側壁から離れた電極表面周囲部とを有する電極を含み、前記ガス分流器体は、前記排気配列に最も近い前記電極表面周囲部のエリアを通過した前記除去されるべきガス流を選択的に分流するように構成されている、請求項1に記載のプラズマリアクタ。
- 前記真空容器は四角い箱の形状であり、前記電極表面は四角い形状であり、前記排気配列は、四角い箱の4つの側壁の1つに接近して設けられている、請求項8に記載のプラズマリアクタ。
- 前記ガス分流器体は、前記排気孔に最も近い前記電極表面周囲部の横に沿って、かつそこから離れて配置され、さらに、前記排気孔に最も近い前記電極表面周囲部と前記排気孔との間の前記真空容器のスペース中の前記排気孔から離れて配置されている、請求項8に記載のプラズマリアクタ。
- 前記真空容器は、頂部壁および底部壁、ならびに側壁を含む箱の形状であり、前記少なくとも1つのガス排気配列は、前記側壁に接近して設けられており、前記基板ホルダは、前記頂部壁および前記底部壁の一方に沿って延在し、かつ、前記側壁から離れた基板ホルダ周囲部を有し、前記ガス分流器体は、前記排気配列に最も近い前記基板ホルダ周囲部のエリアを通過した前記除去されるべきガス流を選択的に分流するように構成されている、請求項1に記載のプラズマリアクタ。
- 前記ガス分流器体は、前記排気孔に最も近い前記基板ホルダ周囲部の横に沿って、かつそこから離れて配置され、さらに、前記排気孔に最も近い前記基板ホルダ周囲部と前記排気孔との間の前記真空容器のスペース中の前記排気孔から離れて配置されている、請求項11に記載のプラズマリアクタ。
- 前記少なくとも1つのガス分流器体は金属からなり、前記プラズマリアクタの金属部に電気的に接続されているか、前記プラズマリアクタの如何なるさらなる金属部からも電気的に絶縁されている、請求項1から12のいずれかに記載のプラズマリアクタ。
- 排気された真空容器中に基板を設ける工程と、前記基板の表面に沿って分散されるプラズマ放電を発生する工程と、前記プラズマ放電中に分散されるガスを吸入して、前記プラズマ放電からのガスを、前記真空容器中の間隔を空けられた少なくとも2つの排気孔を通して除去する工程と、前記排気孔に接近して設けられ、かつそこから離れている少なくとも1つのガス流ブロッキング分流器体によって、前記少なくとも2つのガス排気孔の排気効果の空間的な分散を選択的に調整することにより、前記プラズマ放電からのガス流の分散を前記少なくとも2つの排気孔に向かってその中へと制御する工程とを含み、前記少なくとも1つのガス流ブロッキング分流器体は、一方向に延びるバーの形状を有する、真空処理された基板を製造するための方法。
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