JP2012507126A - Vhf装置 - Google Patents
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Abstract
Description
・ 電極と対向電極との間の間隔変化の影響が少ない
・ PV品質が高い
・ 析出速度が高い
・ 経済的である。
・ プラズマの全体積体への出力供給を均一にすること
・ 適合化回路と、消費装置としてのプラズマとの間のVHF反射による構成部材の過熱および損失を回避すること
・ プラズマチャンバにポンプ出力を進入させることおよび放電チャンバの断面積にわたってポンプ出力を均一に分散させること
のような点が困難である。
以下のうちの複数から構成されるアレイ、すなわち、
・ 幅よりも縦に長く形成され、
・ 部分電極1,1a,1b,1cは、側面に対して平行に配置され、
・ 2つの細い端部においてそれぞれ給電され、
・ 真空でも使用可能な誘電体7、有利にはアルミニウム酸化物セラミックまたはKER21,KER339などに埋め込まれており、
・ 上記の2つは導電性シールド6によって一緒に包囲されており、
・ 基板12を保持する可動の対向電極11を有しており、またシールド素子2,6を備えており、
・ 対向電極11が運動することにより、この対向電極と、シールド素子2,6とは、コンタクト13を介して導電的に接続することができ、
・ 電極1にはガス分散部14,15が含まれており、この分散部にはガス供給部15aおよび/または
・ 媒体線管路16,16aまたは
・ 水冷部18を有しており、
・ 隣接する個別電極1a,1bの間には細い、約1mm幅の細いポンプスリット20,20aが設けられており、これらのスリットは、誘電体7および外部シールド6において続いており、図示しないポンプは、真空受容器19に接続されており、
・ プラズマチャンバ100側を向いた誘電体7の面は、金属プレート9によって覆われており、ねじまたは類似のもの9aによって留められており、
・ 複数の増幅器、発振器および結合器などからなりかつ真空受容器の外部にあるVHF回路間の適合化回路。
Claims (18)
- 有利には角柱状に構成された縦長の電極体を備えたVHFプラズマ電極であって、
当該の電極体は、電極面を有しており、
当該の電極面は、電力を供給するための少なくとも2つの接続素子に電気的に接続されているかまたは接続可能であり、
少なくとも1つの第1の接続素子が、前記の電極体の第1の端面に接続されているかまたは当該第1の端面の近くに接続されており、また少なくとも1つの第2の接続素子が、前記の電極体の第2の端面に接続されているかまたは当該第2の端面の近くに接続されており、
有利には前記の電極は、誘電体材料からなりかつ電極面を露出させる埋込コンポーネントに配置されており、または有利には当該の電極面を露出させるシールド素子が設けられており、
当該シールド素子により、前記の電極と、埋込コンポーネントとが共に包囲される形式のVHFプラズマ電極において、
前記の複数の接続素子のうちの少なくとも1つの接続素子が、VHF真空フィードスルー素子として構成されていることを特徴とする
VHFプラズマ電極。 - 前記の接続素子のうちの少なくとも1つの接続素子は、前記の電極体、埋込コンポーネントおよび/または前記のシールド素子を支持する構成部材として構成されている、
請求項1に記載のVHFプラズマ電極。 - 少なくとも1つの接続素子は、同軸線路の部分または帯状線路の部分として構成されている、
請求項1または2に記載のVHFプラズマ電極。 - 前記のシールド素子は少なくとも、接続素子を構成する同軸線路の外部導線の一部に電気的に接続されているか、または
前記のシールド素子は、帯状線路の少なくとも一部分を構成している、
請求項1から3までのいずれか1項に記載のVHFプラズマ電極。 - 帯状線路の第1の極は、少なくとも1つの接続素子に接続されているかまたは接続可能であり、
前記の帯状線路の第2の極は、プラズマ電極の対向電極に接続可能であり、
前記の帯状電極は、有利には対称化素子に接続可能である、
請求項1から4までのいずれか1項に記載のVHFプラズマ電極。 - 前記の電極は、プラズマ処理のためのプロセスガスを供給する少なくとも1つのガス放出開口部を有する、
請求項1から5までのいずれか1項に記載のVHFプラズマ電極。 - 前記の複数の真空フィードスルー素子の少なくとも1つの真空フィードスルー素子には、ガス分散装置の少なくとも1つのガス供給管路および/または流体媒体を供給または排出するための媒体管路が含まれる、
請求項1から6までのいずれか1項に記載のVHFプラズマ電極。 - 真空チャンバにて電極装置と対向電極との間に基板を配置することができ、
少なくとも1つのプラズマ電極装置と、対向電極との間の領域にてプラズマ放電を励起することが可能な平らな基板用のVHFプラズマ処理装置において、
前記のプラズマ電極装置は、請求項1から7までのいずれか1項にしたがって構成された少なくとも1つのプラズマ電極を有することを特徴とする
VHFプラズマ処理装置。 - VHF真空フィードスルー素子として構成された複数の接続素子を用いて、前記の複数のプラズマ電極のうちの少なくとも1つのプラズマ電極を真空チャンバ壁に固定する、
請求項8に記載の装置。 - 前記のプラズマ電極装置は、請求項1から7までのいずれか1項に記載されかつ互いに隣接して配置されたまたは配置可能な少なくとも2つのプラズマ電極を有しており、有利には当該のプラズマ電極の電極体の互いに平行な側面と、互いに同一平面内にある複数の電極面とを備えている、
請求項8または9に記載の装置。 - 前記の2つのプラズマ電極は、前記の2つの電極体の側面の間にギャップが生じるように互いに離隔して配置されており、有利には、10mm以下、有利には5mm以下の最大ギャップ幅で配置されている、
請求項10に記載の装置。 - 前記の電極体間のギャップに、有利にはポンプスリットとして構成されかつプラズマ処理のためのプロセスガスを排出するためのポンプ開口部が配置されている、
請求項11に記載の装置。 - 前記のギャップに導電性の分離素子、有利には電気的なアースに接続されるかまたは接続可能な分離素子が配置されている、
請求項11または12に記載の装置。 - 真空チャンバにて電極装置と対向電極との間に基板を配置することができかつ電極と対向電極との間の領域にプラズマ放電を励起することができる平らな基板のVHFプラズマ処理装置において、
少なくとも1つの部分電極と、電力を供給するための少なくとも2つの接続素子とが接続されており、
隣接する2つの部分電極間のギャップに導電性の分離素子、有利には電気的なアースに接続されているかまたは接続可能な分離素子が配置されていることを特徴とする
VHFプラズマ処理装置。 - 平らな基板をVHFプラズマ処理する方法であって、
当該のプラズマ処理は、析出またはエッチングまたは表面変更プロセスであり、
真空チャンバにて少なくとも1つのプラズマ電極を備えたプラズマ電極装置と、対向電極との間に前記の基板を配置し、
プラズマ電極と対向電極との間の領域にプラズマ放電を励起する形式の方法において、
請求項1から7までのいずれか1項に記載の少なくとも1つのプラズマ電極によって前記のプラズマに電力を供給することを特徴とする
方法。 - 平らな基板をVHFプラズマ処理する方法において、
請求項8から14までのいずれか1項に記載の装置を用いることを特徴とする、
方法。 - 前記のギャップ幅をプラズマ放電の暗黒部間隔よりも狭く選択する、
請求項11から14までのいずれか1項記載の方法。 - 前記の分離素子と、前記のギャップの縁部との間隔を前記のプラズマ放電の暗黒部間隔よりも狭く選択する、
請求項11から14までのいずれか1項記載の方法。
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