JP4410788B2 - プラズマ化学蒸着方法及びプラズマ化学蒸着装置 - Google Patents
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Description
該プラズマ化学蒸着装置は、真空雰囲気に配置された基板と、該基板を保持するとともに接地されているアース電極と、該基板と間隔をもって平行に対向配置されたラダー型電極とを備える。このプラズマ化学蒸着装置に前記物質を含む製膜用ガスを導入すると共に、高周波電力給電回路からラダー型電極に給電し、ラダー型電極と基板間にプラズマを発生させる。すると、該プラズマにより前記製膜用ガスが分解されて、前記基板上に物質が蒸着する(例えば、特許文献1参照。)。
また、複数の給電点に連通する複数のケーブルのセッティング誤差等の配置に起因する各ケーブル間の電気的特性の均一化が困難となって、ケーブルを伝送される高周波電力に位相差が生じることによる上述と同様の問題があった。
請求項1に記載の発明は、製膜用ガスが導入される真空製膜室内に、放電電極と基板とが対向配置され、高周波電力給電回路により高周波電力を複数のケーブルを介して前記放電電極に備えられた複数の給電点へ給電し、前記放電電極と前記基板との間にプラズマを発生させて前記基板上に製膜するプラズマ化学蒸着方法において、前記基板中央部の隣接する前記放電電極部分では前記給電点同士の位相差が同位相となるように前記ケーブルの電気的特性を調整し、前記基板端部近傍の前記放電電極部分では前記ケーブルの電気的特性を調整して前記給電点の位相差を変化させ、前記高周波電力の前記給電点における位相を調整することを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態のプラズマ化学蒸着方法を実施するプラズマ化学蒸着装置の主要部の構成を示すブロック図である。
図1において、符号10は、本実施の形態のプラズマ化学蒸着装置の真空製膜室であって、真空製膜室10内には、放電電極として用意されたラダー電極11と、ラダー電極11と所定の間隔をもって対面配置され、かつ接地されているアース電極(図示せず)と、該アース電極により保持された基板12とが備えられている。
なお、各給電点15a〜15h、及び各給電点16a〜16hは、それぞれ横方向電極棒11b、11cをほぼ9等分する位置にそれぞれ設けられている。
さらに、各出力端子17a〜17hと各コネクタ18a〜18hとをそれぞれ接続する外部ケーブルとして、導体の周囲に絶縁体を有する代表的なケーブルである8本の同軸(外部)ケーブル19a〜19hと、各給電点15a〜15hと各コネクタ18a〜18hとを真空製膜室10の内部でそれぞれ接続する8本の真空(内部)ケーブル20a〜20hとを備える。
上述のラダー電極11と、同軸ケーブル19a〜19h及び24a〜24hと、真空ケーブル20a〜20h及び25a〜25hと、電力分配器17A、17Bと、高周波電源21a、21bと、マッチングボックス22a、22bとは、本実施の形態のプラズマ化学蒸着装置の高周波電力給電回路26を構成している。
また、真空ケーブル20a〜20h及び25a〜25hは、撚り線状の心線31が延在する方向に所定の長さ寸法を有する複数個のアルミナから形成された碍子32が、心線31の表面を連続的に隙間のないよう配設されて構成されている。
上記各ケーブルは、それぞれ一定の寸法をもって真空製膜室10に配設されている。
観察結果に基づいて、調整すべき基板12上の箇所に対応する電極及び給電点に連通する同軸ケーブルの全長を変化させて再び配設し、先の操作と同様の高周波電力を供給して製膜させる。
例えば、同軸ケーブル19b、19c、19f、19gの全長を他のケーブルよりも100mm延長した場合(位相では約11°の遅れに相当)、製膜速度が10%〜40%の範囲で変化して、膜厚分布の偏差が±43.8%から±39.6%に改善される。
11 ラダー電極(放電電極)
12 基板
18a〜18h、23a〜23h コネクタ
19a〜19h、24a〜24h 同軸ケーブル(外部ケーブル)
20a〜20h、25a〜25h 真空ケーブル(内部ケーブル)
26 高周波電力給電回路
27 心線(導体)
28 絶縁体
Claims (5)
- 製膜用ガスが導入される真空製膜室内に、放電電極と基板とが対向配置され、高周波電力給電回路により高周波電力を複数のケーブルを介して前記放電電極に備えられた複数の給電点へ給電し、前記放電電極と前記基板との間にプラズマを発生させて前記基板上に製膜するプラズマ化学蒸着方法において、
前記基板中央部の隣接する前記放電電極部分では前記給電点同士の位相差が同位相となるように前記ケーブルの電気的特性を調整し、
前記基板端部近傍の前記放電電極部分では前記ケーブルの電気的特性を調整して前記給電点の位相差を変化させ、
前記高周波電力の前記給電点における位相を調整することを特徴とするプラズマ化学蒸着方法。 - 前記ケーブルは、前記真空製膜室の外部に設けられる外部ケーブルと、該真空製膜室の内部に設けられる内部ケーブルとを備え、
前記外部ケーブルの長さ及び/又は比誘電率を変化させて前記電気的特性を調整することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ化学蒸着方法。 - 製膜用ガスが導入される真空製膜室と、該真空製膜室内に配置された基板と、該基板に対向配置された放電電極と、該放電電極に設けられた複数の給電点に接続されたケーブルと、該ケーブルを介して高周波電力を該給電点に給電する高周波電力給電回路とを備え、前記放電電極と前記基板との間にプラズマを発生させて、前記基板上に製膜するプラズマ化学蒸着装置において、
前記ケーブルは、前記高周波電力の給電点における電気的特性を調整する調整手段が設けられ、
前記調整手段は、前記基板中央部の隣接する前記放電電極部分では前記給電点同士の位相差が同位相となるように前記ケーブルの電気的特性を調整し、前記基板端部近傍の前記放電電極部分では前記ケーブルの電気的特性を調整して前記給電点の位相差を変化させることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。 - 前記調整手段は、前記高周波電力給電回路から前記給電点までのケーブル長さを変更・調整可能としたことを特徴とする請求項3に記載のプラズマ化学蒸着装置。
- 前記調整手段は、前記ケーブルに絶縁体が備えられ、該絶縁体の比誘電率を調整することを特徴とする請求項3に記載のプラズマ化学蒸着装置。
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