JP2010153961A - 複合基板の製造方法及び複合基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン基板10と、シリコン基板12の外径から面取り部を減じた長さに貼り合わせ時の位置ずれに対応するマージンを見込んだ外径のLT基板とを用意する(図5(a))。次に、LT基板10の裏面に有機接着剤13を塗布し、シリコン基板12と貼り合わせて貼り合わせ基板16を形成する(図5(b))。続いて、LT基板10の表面と研磨定盤との間に研磨砥粒を含むスラリーを供給して、LT基板10の表面を研磨定盤により研磨することによりこのLT基板10の厚みを薄くすると共にその表面を鏡面研磨する(図5(c))。
【選択図】図5
Description
(a)支持基板と、該支持基板の表面の平坦部の直径よりも外径が小さいか又は同じであり且つ少なくとも前記支持基板と貼り合わせる側の角が面取りされていない角立った状態の圧電基板とを用意する工程と、
(b)前記支持基板の表面と前記圧電基板の裏面とを有機接着層を介して貼り合わせて貼り合わせ基板を形成するにあたり、前記圧電基板の外周面が、前記有機接着層の外周面と同一面上になるか又は該有機接着層の外周面よりも内側に位置するようにして貼り合わせる工程と、
(c)前記圧電基板の表面と研磨定盤との間に研磨砥粒を介在させて、該圧電基板の表面を該研磨定盤により研磨することにより該圧電基板の厚みを薄くすると共に該圧電基板の表面を鏡面研磨する工程と、
を含むものである。
支持基板と、
前記支持基板の表面の平坦部の直径よりも外径が小さいか又は同じであり且つ少なくとも前記支持基板と貼り合わせる側の角が面取りされていない角立った状態の圧電基板と、
前記圧電基板と前記支持基板とを接着する有機接着層と、
を備え、
前記圧電基板の外周面が、前記有機接着層の外周面と同一面上にあるか又は該有機接着層の外周面よりも内側に位置しているものである。
図5は、本実施例の複合基板の製造プロセスを模式的に示す断面図である。まず、支持基板として、オリエンテーションフラット部(OF部)を有し、直径が100mm(4インチ)、厚さが350μmのシリコン基板12を用意した。また、圧電基板として、OF部を有し、直径が98mm、厚さが250μmのタンタル酸リチウム基板(LT基板)10を用意した(図5(a))。ここで、シリコン基板12は、角が面取りされている。図6は、面取り部分を説明する部分断面図である。図示するように、シリコン基板12の外周面から300μm内側の位置から面取りが始まり、この位置での面取りの角度は20°である。LT基板10は、弾性表面波(SAW)の伝搬方向をXとし、切り出し角が回転Yカット板である36°YカットX伝搬LT基板を用いた。このLT基板10の外径は、シリコン基板12の外径(100mm)から面取り部分(0.6mm)を減じて、シリコン基板12の表面の平坦部の直径を求め、この直径(99.4mm)に、貼り合わせ時に想定される最大の位置ずれ量に対応するマージンを見込んで98mmとした。また、LT基板10は、面取りされた基板の面取り部分を切り落として全ての角が面取りされていない角立った状態のものを用意した。次いで、LT基板10にスピンコートによりエポキシ系接着剤13を塗布し、シリコン基板12を貼付けて180℃に加熱し、有機接着層14(エポキシ系接着剤13が固化した層)の厚さが0.3μmの貼り合わせ基板16を形成した(図5(b))。このとき、貼り合わせ後は、LT基板10の外周面と有機接着層14の外周面とが同一面上になった。
シリコン基板12と同じ外径でありこのシリコン基板12と貼り合わせられる角が面取りされたLT基板を用意した以外は、実施例1と同様にして複合基板を作製した。同じ製造工程で、5枚の複合基板を製造したときの、LT基板10の縁の欠けの様子を図8に示す。図8は、LT基板10の縁の欠けの様子を目視にて確認し作成したスケッチである。図中、網掛け部分がLT基板10の欠けている部分である。図示するように、1〜5枚目の複合基板につき、それぞれ複数箇所に大きな欠けが見られた。
有機接着層14の厚さを表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして複合基板を作製した。そして、作製した複合基板に、LT基板の表面に金属アルミニウム製の入力電極及び出力電極を形成してSAWフィルタを作製し、その熱膨張係数と周波数温度特性とを測定した。その測定結果を表1に示す。ここで、LT基板のSAWの伝搬方向Xの線熱膨張係数は16ppm/℃である。また、単結晶シリコン基板のSAWの伝搬方向Xの線膨張係数は3ppm/℃である。この表1の結果から明らかなように、有機接着層の厚さを0.1〜1.0μmとすることで、周波数温度特性(温度特性)が臨界的に著しく向上することが分かった。
Claims (6)
- (a)支持基板と、該支持基板の表面の平坦部の直径よりも外径が小さいか又は同じであり且つ少なくとも前記支持基板と貼り合わせる側の角が面取りされていない角立った状態の圧電基板とを用意する工程と、
(b)前記支持基板の表面と前記圧電基板の裏面とを有機接着層を介して貼り合わせて貼り合わせ基板を形成するにあたり、前記圧電基板の外周面が、前記有機接着層の外周面と同一面上になるか又は該有機接着層の外周面よりも内側に位置するようにして貼り合わせる工程と、
(c)前記圧電基板の表面と研磨定盤との間に研磨砥粒を介在させて、該圧電基板の表面を該研磨定盤により研磨することにより該圧電基板の厚みを薄くすると共に該圧電基板の表面を鏡面研磨する工程と、
を含む複合基板の製造方法。 - 前記工程(b)では、前記圧電基板の裏面に有機接着剤を塗布して、該圧電基板と前記支持基板とを貼り合わせ、前記有機接着剤を固化させて前記有機接着層とする、
請求項1に記載の複合基板の製造方法。 - 前記工程(a)では、圧電基板よりも熱膨張係数の小さい支持基板を用意し、
前記工程(b)では、前記有機接着層の厚さが0.1〜1.0μmとなるようにする、
請求項1又は2に記載の複合基板の製造方法。 - 前記圧電基板は、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム及びニオブ酸リチウム−タンタル酸リチウム固溶体単結晶、ホウ酸リチウム、ランガサイト、水晶からなる群より選ばれた材質からなり、
前記支持基板は、シリコン、サファイア、窒化アルミニウム、アルミナ、ホウ珪酸ガラス及び石英ガラスからなる群より選ばれた材質からなる、
請求項3に記載の複合基板の製造方法。 - 支持基板と、
前記支持基板の表面の平坦部の直径よりも外径が小さいか又は同じであり且つ少なくとも前記支持基板と貼り合わせる側の角が面取りされていない角立った状態の圧電基板と、
前記圧電基板と前記支持基板とを接着する有機接着層と、
を備え、
前記圧電基板の外周面が、前記有機接着層の外周面と同一面上にあるか又は該有機接着層の外周面よりも内側に位置している、
複合基板。 - 前記支持基板は、前記圧電基板よりも熱膨張係数が小さく、
前記有機接着層は、厚さが0.1〜1.0μmである、
請求項5に記載の複合基板。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010259011A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波素子用基板及び弾性表面波素子の製造方法 |
JP2012105191A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-31 | Taiyo Yuden Co Ltd | 弾性波デバイス |
WO2014148648A1 (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-25 | 日本碍子株式会社 | 弾性波素子用複合基板および弾性波素子 |
JP2015145054A (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | 日本碍子株式会社 | 複合基板の研磨方法及び複合基板 |
JP2017222029A (ja) * | 2017-08-31 | 2017-12-21 | 日本碍子株式会社 | 複合基板の研磨方法 |
CN107615449A (zh) * | 2015-06-02 | 2018-01-19 | 信越化学工业株式会社 | 具备氧化物单晶薄膜的复合晶片的制造方法 |
JP2021158455A (ja) * | 2020-03-25 | 2021-10-07 | 三安ジャパンテクノロジー株式会社 | 接合ウエハと、その製造方法と、弾性波デバイスの製造方法と、接合ウエハに用いる圧電性基板用ウエハ及び非圧電性基板用ウエハ |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5753120A (en) * | 1980-09-16 | 1982-03-30 | Citizen Watch Co Ltd | Production of adhesive substrate for precise lapping of thin material |
JPS5754069A (en) * | 1980-09-09 | 1982-03-31 | Citizen Watch Co Ltd | Precision lapping and polishing method |
JPH1154809A (ja) * | 1997-07-30 | 1999-02-26 | Osaka Prefecture | 圧電装置用積層体、圧電装置用積層体の製造方法、および圧電装置の製造方法 |
JP2001060846A (ja) * | 1999-06-14 | 2001-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波素子およびその製造方法ならびにそれを用いた弾性表面波デバイス |
JP2002009584A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-11 | Hitachi Ltd | 弾性表面波素子 |
JP2002026684A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波素子 |
JP2002079457A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-19 | Noboru Ueda | 薄板の製造方法、圧電素板、および圧電振動子 |
JP2003110392A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の製造方法 |
JP2003124767A (ja) * | 2001-10-16 | 2003-04-25 | Hitachi Ltd | 弾性表面波素子とその製造方法 |
JP2007134889A (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 複合圧電基板 |
JP2008042877A (ja) * | 2006-07-13 | 2008-02-21 | Ngk Insulators Ltd | 圧電薄膜デバイス |
-
2008
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5754069A (en) * | 1980-09-09 | 1982-03-31 | Citizen Watch Co Ltd | Precision lapping and polishing method |
JPS5753120A (en) * | 1980-09-16 | 1982-03-30 | Citizen Watch Co Ltd | Production of adhesive substrate for precise lapping of thin material |
JPH1154809A (ja) * | 1997-07-30 | 1999-02-26 | Osaka Prefecture | 圧電装置用積層体、圧電装置用積層体の製造方法、および圧電装置の製造方法 |
JP2001060846A (ja) * | 1999-06-14 | 2001-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波素子およびその製造方法ならびにそれを用いた弾性表面波デバイス |
JP2002009584A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-11 | Hitachi Ltd | 弾性表面波素子 |
JP2002026684A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波素子 |
JP2002079457A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-19 | Noboru Ueda | 薄板の製造方法、圧電素板、および圧電振動子 |
JP2003110392A (ja) * | 2001-10-02 | 2003-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品の製造方法 |
JP2003124767A (ja) * | 2001-10-16 | 2003-04-25 | Hitachi Ltd | 弾性表面波素子とその製造方法 |
JP2007134889A (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 複合圧電基板 |
JP2008042877A (ja) * | 2006-07-13 | 2008-02-21 | Ngk Insulators Ltd | 圧電薄膜デバイス |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010259011A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波素子用基板及び弾性表面波素子の製造方法 |
JP2012105191A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-31 | Taiyo Yuden Co Ltd | 弾性波デバイス |
US8773000B2 (en) | 2010-11-12 | 2014-07-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Acoustic wave device |
WO2014148648A1 (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-25 | 日本碍子株式会社 | 弾性波素子用複合基板および弾性波素子 |
JP5668179B1 (ja) * | 2013-03-21 | 2015-02-12 | 日本碍子株式会社 | 弾性波素子用複合基板および弾性波素子 |
KR101615081B1 (ko) | 2013-03-21 | 2016-04-22 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 탄성파 소자용 복합 기판 및 탄성파 소자 |
US9438201B2 (en) | 2013-03-21 | 2016-09-06 | Ngk Insulators, Ltd. | Composite substrates for acoustic wave elements, and acoustic wave elements |
JP2015145054A (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | 日本碍子株式会社 | 複合基板の研磨方法及び複合基板 |
CN107615449A (zh) * | 2015-06-02 | 2018-01-19 | 信越化学工业株式会社 | 具备氧化物单晶薄膜的复合晶片的制造方法 |
JP2017222029A (ja) * | 2017-08-31 | 2017-12-21 | 日本碍子株式会社 | 複合基板の研磨方法 |
JP2021158455A (ja) * | 2020-03-25 | 2021-10-07 | 三安ジャパンテクノロジー株式会社 | 接合ウエハと、その製造方法と、弾性波デバイスの製造方法と、接合ウエハに用いる圧電性基板用ウエハ及び非圧電性基板用ウエハ |
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Publication number | Publication date |
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