JP2010152343A5 - - Google Patents

Description

本発明の全ての態様においては、好ましくは、１種以上の物質は１種以上の樹脂と実質的に非混和性である。本明細書において言及される場合、１種以上のフォトレジスト樹脂と実質的に非混和性である１種以上の物質は、水性アルカリ現像による欠点の低減をもたらすフォトレジストに添加される物質であることができる。

Claims (3)

1. （ａ）（ｉ）光酸不安定基を含む１種以上の樹脂、
   （ｉｉ）光活性成分、および
   （ｉｉｉ）前記１種以上の樹脂とは異なる１種以上の物質であって、−Ｃ（ＣＨ（ＣＨ _３ ） _２ ） _３ 、−Ｃ（ＣＨ _３ ） _２ ＣＨ（ＣＨ _３ ） _２ 、−Ｃ（ＣＨ _３ ）（ＣＨ（ＣＨ _３ ） _２ ） _２ 、−Ｃ（ＣＨ _２ ＣＨ _３ ）（ＣＨ（ＣＨ _３ ） _２ ） _２ 、−Ｃ（ＣＨ _３ ）（ＣＨ _２ ＣＨ _３ ） _２ 、−Ｃ（ＣＨ _３ ）（Ｃ（ＣＨ _３ ） _３ ） _２ 、−Ｃ（ＣＨ _３ ） _２ Ｃ（ＣＨ _３ ） _３ 、および−Ｃ（ＣＨ _３ ）（ＣＨ _２ ＣＨ（ＣＨ _３ ） _２ ） _２ からなる群から選択される分岐エステル基を含む光酸不安定基とカルボキシ基を含む１種以上の物質、
   を含み；
   前記１種以上の物質の光酸不安定基の脱保護活性化エネルギーが、前記１種以上の樹脂の光酸不安定基の脱保護活性化エネルギーより低いかまたはこれと同じであり；および
   前記１種以上の物質が、前記１種以上の樹脂と実質的に非混和性である
   フォトレジスト組成物を基体上に適用し；並びに
   （ｂ）フォトレジスト組成物を活性化する放射線でフォトレジスト層を液浸露光する；
   ことを含む、
   フォトレジスト組成物を処理する方法。
2. 前記１種以上の樹脂の光酸不安定基より分岐した炭素鎖を含む光酸不安定基を前記１種以上の物質が含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記１種以上の物質が樹脂である、請求項１または２に記載の方法。