JP2010147187A - 半導体素子収納用パッケージ及び半導体装置並びにそれらの製造方法 - Google Patents

半導体素子収納用パッケージ及び半導体装置並びにそれらの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010147187A
JP2010147187A JP2008321463A JP2008321463A JP2010147187A JP 2010147187 A JP2010147187 A JP 2010147187A JP 2008321463 A JP2008321463 A JP 2008321463A JP 2008321463 A JP2008321463 A JP 2008321463A JP 2010147187 A JP2010147187 A JP 2010147187A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor element
coaxial connector
package
wiring pattern
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008321463A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5225825B2 (ja
JP2010147187A5 (ja
Inventor
Mikio Suyama
幹夫 巣山
Misuzu Machii
美鈴 待井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority to JP2008321463A priority Critical patent/JP5225825B2/ja
Publication of JP2010147187A publication Critical patent/JP2010147187A/ja
Publication of JP2010147187A5 publication Critical patent/JP2010147187A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5225825B2 publication Critical patent/JP5225825B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01014Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01028Nickel [Ni]

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)

Abstract

【課題】 高周波特性に影響を及ぼす、中継基板と同軸コネクタの中心導体の高さ方向のギャップの寸法管理を軽減することが可能な半導体素子収納用パッケージ及び半導体装置並びにそれらの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 この半導体素子収納用パッケージの製造方法は、基体の一方の面に設けられた中継基板載置部に、配線パターンを有する中継基板を載置する第1工程と、前記中継基板載置部の、前記中継基板に隣接する部分に形成されている掘り込み部に、固着剤を供給する第2工程と、前記固着剤を溶融させ、毛細管現象を利用して前記中継基板載置部と前記中継基板との間に展延させる第3工程と、前記基体の前記一方の面の外縁部に設けられた枠体に、同軸コネクタを固定する第4工程と、前記同軸コネクタと前記配線パターンとを電気的に接続する第5工程と、を有することを要件とする。
【選択図】 図3

Description

本発明は、同軸コネクタを有する半導体素子収納用パッケージ及び半導体装置並びにそれらの製造方法に関する。
従来より、高周波特性を要求される半導体素子収納用パッケージでは、要求される特性を得るために、外部との信号の授受をするための端子として、同軸タイプのコネクタ(以下、同軸コネクタとする)が用いられている。同軸コネクタは、外周導体中に誘電体が充填され、誘電体の中心に中心導体を有するコネクタである。
同軸コネクタを用いた半導体素子収納用パッケージにおいて、半導体素子と同軸コネクタの中心導体との接続は、半導体素子収納用パッケージ内に設けられた載置部に、配線パターンを有する中継基板を、ろう材等の固着剤で固着し、中継基板を介して行われるのが一般的である。この際、中継基板の配線パターンと同軸コネクタの中心導体とは、ろう材等の固着剤で接続される。半導体素子と同軸コネクタの中心導体とを直接接続しないのは、中心導体の断面形状が略円形であるためワイヤボンド性が悪いからである。
特開2006−128323号公報
ところで、中継基板を用いて半導体素子と同軸コネクタの中心導体を接続する場合、中継基板と同軸コネクタの中心導体の高さ方向のギャップは、半導体素子収納用パッケージの高周波特性(信号損失やノイズ特性等)を左右するので、できるだけ小さい方が好ましい。
そのため、載置部の高さや中継基板の厚さを適正化するとともに、中継基板と載置部を固着する際のろう材等の固着剤の厚さ、中継基板と同軸コネクタの中心導体を接続する際のろう材等の固着剤の厚さを厳格に管理しなければならないという問題があった。
上記に鑑みて、高周波特性に影響を及ぼす、中継基板と同軸コネクタの中心導体の高さ方向のギャップの寸法管理を軽減することが可能な半導体素子収納用パッケージ及び半導体装置並びにそれらの製造方法を提供することを課題とする。
この半導体素子収納用パッケージの製造方法は、基体の一方の面に設けられた中継基板載置部に、配線パターンを有する中継基板を載置する第1工程と、前記中継基板載置部の、前記中継基板に隣接する部分に形成されている掘り込み部に、固着剤を供給する第2工程と、前記固着剤を溶融させ、毛細管現象を利用して前記中継基板載置部と前記中継基板との間に展延させる第3工程と、前記基体の前記一方の面の外縁部に設けられた枠体に、同軸コネクタを固定する第4工程と、前記同軸コネクタと前記配線パターンとを電気的に接続する第5工程と、を有することを要件とする。
この半導体装置の製造方法は、本発明に係る半導体素子収納用パッケージの内部に、電極パッドを有する半導体素子を搭載する第6工程と、前記電極パッドと前記配線パターンとを電気的に接続する第7工程と、を有することを要件とする。
この半導体素子収納用パッケージは、基体と、前記基体の一方の面の外縁部に設けられた枠体と、前記枠体に固定された同軸コネクタと、前記基体の前記一方の面に設けられた中継基板載置部に載置され、前記同軸コネクタと電気的に接続される配線パターンを有する中継基板と、を有し、前記中継基板載置部の、前記中継基板に隣接する部分に掘り込み部が形成されていることを要件とする。
この半導体装置は、本発明に係る半導体素子収納用パッケージの内部に、電極パッドを有する半導体素子が搭載され、前記電極パッドは、前記配線パターンと電気的に接続されていることを要件とする。
開示の技術によれば、高周波特性に影響を及ぼす、中継基板と同軸コネクタの中心導体の高さ方向のギャップの寸法管理を軽減することが可能な半導体素子収納用パッケージ及び半導体装置並びにそれらの製造方法を提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態の説明を行う。
〈第1の実施の形態〉
[本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの構造]
始めに、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの構造について説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージを例示する平面図である。図2は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージを例示する図1のA−A線に沿う断面図である。図3は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージを例示する図1のB−B線に沿う断面図である。
図1〜図3を参照するに、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージ10は、基体11と、枠体12と、中継基板載置部14と、中継基板15と、半導体素子搭載用基板16と、同軸コネクタ19と、固着層21及び22とを有する。
半導体素子収納用パッケージ10において、枠体12は、基体11の面11aの外縁部に設けられている。基体11の材料としては、例えばCu等の金属を用いることができる。基体11の厚さ(Z方向)は、例えば2mmとすることができる。基体11のX方向の長さL1は、例えば30mmとすることができる。基体11のY方向の長さL2は、例えば20mmとすることができる。基体11及び枠体12のZ方向の長さL3は、例えば20mmとすることができる。
枠体12の材料としては、例えばCu等の金属を用いることができる。枠体12の厚さ(X方向及びY方向)は、例えば2mmとすることができる。枠体12は、基体11と一体成形されていてもよいし、基体11にAgろう等のろう材により固着されていても構わない。又、シーム溶接法等の溶接法により接合されていても構わない。
中継基板載置部14は、基体11の面11aの枠体12の内側に設けられている。中継基板載置部14の材料としては、例えばCu等の金属を用いることができる。中継基板載置部14の高さ(Z方向)は、例えば3mmとすることができる。中継基板載置部14は、中継基板15を載置する載置面14aを有し、更に載置面14aに載置される中継基板15に隣接する部分に掘り込み部14bを有する。中継基板載置部14は、基体11と一体成形されていてもよいし、基体11にAgろう等のろう材により固着されていても構わない。又、シーム溶接法等の溶接法により接合されていても構わない。なお、掘り込み部14bの技術的意義については、後述する本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージ10の製造方法において説明する。
中継基板15は、配線パターン15aを有する。中継基板15としては、例えばセラミック基板等を用いることができる。中継基板15の厚さ(Z方向)は、例えば1mmとすることができる。配線パターン15aの材料としては、例えばCu等の金属を用いることができる。配線パターン15aの幅(Y方向)は、例えば0.5mmとすることができる。配線パターン15aの幅(Y方向)は、同軸コネクタ19の中心導体19aの径と同程度の値に設定することが好ましい。なお、中継基板15として、複数層の配線パターンを有する多層基板を用いても構わない。
中継基板15は、固着層21を介して中継基板載置部14の載置面14aに固着されている。固着層21の材料としては、例えばAuとPbの合金、Pbを含む合金、AuとSnの合金、SnとCuの合金、SnとAgの合金、SnとAgとCuの合金等を用いることができる。又、固着層21の材料として、例えばAgを含む導電性接着剤等を用いても構わない。後述するように、固着層21の厚さT1は極めて薄くすることができる。固着層21の厚さT1の一例を挙げれば、例えば50μmである。
半導体素子搭載用基板16は、半導体素子を搭載するための基板であり、基体11の面11aの枠体12の内側に設けられている。半導体素子搭載用基板16としては、例えばセラミック基板等を用いることができる。半導体素子搭載用基板16の厚さ(Z方向)は、例えば2mmとすることができる。半導体素子搭載用基板16は、例えば基体11にAgろう等のろう材により固着されている。なお、半導体素子搭載用基板16は、半導体素子収納用パッケージ10の必須の構成要件ではない。半導体素子搭載用基板16を設けない場合には、半導体素子を例えば基体11の面11aに直接搭載する。
同軸コネクタ19は、中心導体19aと、誘電体19bと、外周導体19cとを有する。同軸コネクタ19は、Fe−Ni−Co合金等の金属から成る円筒形等の筒状の外周導体19cの内側にガラス等の誘電体19bが充填され、更に、中心軸にFe−Ni−Co合金等の金属から成る中心導体19aが固定された構造である。同軸コネクタ19は、例えばGHz帯等の高周波に対する特性が優れたコネクタであり、半導体素子収納用パッケージ10の外部と半導体素子収納用パッケージ10の内部との間で電気信号等を入出力させる入出力端子として機能する。
同軸コネクタ19は、枠体12のコネクタ固定部12bに嵌め込まれ、例えばAgろう等のろう材(図示せず)により固着されている。同軸コネクタ19の中心導体19aは、枠体12に設けられた貫通孔12cに枠体12と接しないように挿入されており、中心導体19aの一端は枠体12の内部(中継基板15側)に突出している。
中心導体19aの枠体12の内部(中継基板15側)に突出している部分は、固着層22を介して中継基板15の配線パターン15aに固着されている。すなわち、中心導体19aは、固着層22を介して配線パターン15aと電気的に接続されている。
固着層22の厚さT2は、中継基板15の配線パターン15aと同軸コネクタ19の中心導体19aの高さ方向のギャップを決める重要な要素であり、固着層22の厚さT2は薄い方が好ましい。固着層22の厚さT2の一例を挙げれば、例えば50μmである。固着層22の材料としては、例えばAuとPbの合金、Pbを含む合金、AuとSnの合金、SnとCuの合金、SnとAgの合金、SnとAgとCuの合金等の導電性の材料を用いることができる。
なお、中継基板15の配線パターン15aと同軸コネクタ19の中心導体19aの高さ方向のギャップを小さくするためには、中継基板載置部14の高さ(Z方向)や中継基板15の厚さ(Z方向)を適正化することも重要な要素となる。以上が、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージ10の構造である。
[本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造方法]
続いて、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造方法について説明する。本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージ10の製造方法の特徴は、中継基板15を固着層21を介して中継基板載置部14の載置面14aに固着する工程にある。その他に関しては、周知の方法で製造することができる。そこで、以下に、中継基板15を固着層21を介して中継基板載置部14の載置面14aに固着する工程についてのみ説明する。
図4〜図10は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図である。図4〜図10において、図1〜3に示す半導体素子収納用パッケージ10と同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略する場合がある。
始めに、図4及び図5に示す工程では、基体11、枠体12、及び中継基板載置部14を有する構造体を準備する。なお、図4は平面図であり、図5は図4のC−C線に沿う断面図である。図4及び図5に示す構造体において、中継基板載置部14は、基体11の面11aの枠体12の内側に設けられている。中継基板載置部14の材料としては、例えばCu等の金属を用いることができる。中継基板載置部14の高さ(Z方向)は、例えば3mmとすることができる。中継基板載置部14は、中継基板15を載置する載置面14aを有し、更に載置面14aに載置される中継基板15に隣接する部分に掘り込み部14bを有する。中継基板載置部14は、基体11と一体成形されていてもよいし、基体11にAgろう等のろう材により固着されていても構わない。
次いで、図6及び図7に示す工程では、配線パターン15aを有する中継基板15を準備する。そして、配線パターン15aが中継基板載置部14の載置面14aの反対側にくるように、中継基板15を図4及び図5に示す構造体の載置面14aに載置する。なお、図6は平面図であり、図7は図6のC−C線に沿う断面図である。この段階では、中継基板15は、中継基板載置部14の載置面14aに固着されてはいない。
次いで、図8及び図9に示す工程では、掘り込み部14bに固着剤21aを供給する。なお、図8は平面図であり、図9は図8のC−C線に沿う断面図である。固着剤21aの材料としては、例えばAuとPbの合金、Pbを含む合金、AuとSnの合金、SnとCuの合金、SnとAgの合金、SnとAgとCuの合金等を用いることができる。又、固着剤21aの材料として、例えばAgを含む導電性接着剤等を用いても構わない。なお、固着剤21aは、加熱により溶融した後、硬化して図3等に示す固着層21となるものである。
次いで、図10に示す工程では、掘り込み部14bに供給された固着剤21aを、例えば200℃に加熱して溶融させる。溶融した固着剤21aは、毛細管現象によって、中継基板15と載置面14aとの極わずかな隙間に入り込む。その後、固着剤21aは硬化して固着層21となる。
このように、掘り込み部14bに供給された固着剤21aを加熱して溶融させ、毛細管現象を利用して固着層21を形成することにより、固着層21の厚さT1を極めて薄くすることができる。固着層21の厚さT1の一例を挙げれば、例えば20μmである。
従来は、載置面に固着剤を塗布し、塗布した固着剤の上に中継基板を載置してから、固着剤を加熱して溶融させ、中継基板を載置面に固着していた。従来の方法では、固着層の厚さ(Z方向)は、例えば50μmであり、これ以上薄くすることは困難であった。又、従来の方法では、固着層の厚さ(Z方向)がばらつくため、固着層の厚さ(Z方向)を管理することは困難であった。
本発明の第1の実施の形態によれば、中継基板載置部14の載置面14aに載置される中継基板15に隣接する部分に掘り込み部14bを設ける。そして、掘り込み部14bに固着剤21aを供給後加熱して溶融させ、毛細管現象を利用して固着層21を形成することにより、固着層21の厚さT1を極めて薄くすることができる。その結果、固着層21の厚さT1の管理が不要となり、中継基板15の配線パターン15aと同軸コネクタ19の中心導体19aの高さ方向のギャップを小さくすることが容易となる。これにより、安定した高周波特性を得ることができる。
なお、中継基板15の配線パターン15aと同軸コネクタ19の中心導体19aの高さ方向のギャップを小さくするためには、従来と同様に、中継基板載置部14の高さ(Z方向)や中継基板15の厚さ(Z方向)を適正化することや、固着層22の厚さT2を管理することは必要である。しかしながら、固着層21の厚さT1の管理が不要となったことにより、管理項目が削減され、中継基板15の配線パターン15aと同軸コネクタ19の中心導体19aの高さ方向のギャップを小さくすることは従来より容易となった。
〈第2の実施の形態〉
本発明の第2の実施の形態は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージに半導体素子を搭載した半導体装置に関する。
[本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の構造]
始めに、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の構造について説明する。図11は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を例示する平面図である。図12は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を例示する図11のD−D線に沿う断面図である。図13は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を例示する図11のE−E線に沿う断面図である。図11〜図13において、図1〜3に示す半導体素子収納用パッケージ10と同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略する場合がある。
図11〜図13を参照するに、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置30は、半導体素子収納用パッケージ10と、半導体素子33と、固着層34と、ボンディングワイヤ37と、蓋体38とを有する。
半導体装置30において、半導体素子33は、固着層34を介して半導体素子搭載用基板16の面16aに固着されている。半導体素子33は、半導体基板(図示せず)、半導体集積回路(図示せず)、保護膜(図示せず)、電極パッド33a等を有する。半導体基板(図示せず)は、例えば薄板化されたSiウエハが個片化されたものである。半導体集積回路(図示せず)は、半導体基板(図示せず)の一方の面側に形成されており、拡散層(図示せず)、絶縁層(図示せず)、ビアホール(図示せず)、配線等(図示せず)から構成されている。
半導体素子33の電極パッド33aは、ボンディングワイヤ37を介して中継基板15の配線パターン15aと電気的に接続されている。すなわち、半導体素子33の電極パッド33aは、ボンディングワイヤ37を介して中継基板15の配線パターン15aと電気的に接続され、更に、固着層22を介して同軸コネクタ19の中心導体19aと電気的に接続されている。
ボンディングワイヤ37の材料としては、例えばAu等を用いることができるが、これに限られるものではなく、例えばAuを含む合金、Al、Alを含む合金、Cu、Cuを含む合金等他の材料を用いても構わない。
固着層34の材料としては、例えばAuとPbの合金、Pbを含む合金、AuとSnの合金、SnとCuの合金、SnとAgの合金、SnとAgとCuの合金等を用いることができる。又、固着層34の材料として、例えばAgを含む導電性接着剤等を用いても構わない。なお、半導体素子搭載用基板16を基体11の面11aに設けずに、半導体素子33を固着層34を介して基体11の面11aに直接固着しても構わない。
蓋体38は、枠体12の面12aに設けられている。蓋体38の材料としては、例えばCu等の金属を用いることができる。蓋体38の厚さ(Z方向)は、例えば2mmとすることができる。蓋体38は、枠体12と一体成形されていてもよいし、枠体12にAgろう等のろう材により固着されていても構わない。又、シーム溶接法等の溶接法により接合されていても構わない。なお、図11において、蓋体38は省略されている。以上が、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置30の構造である。
[本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の製造方法]
本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、本発明の第1の実施の形態に係る製造方法で製造された半導体素子収納用パッケージ10に周知の方法で半導体素子33を搭載し、周知の方法で半導体素子33の電極パッド33aと中継基板15の配線パターン15aとをボンディングワイヤ37により接続し、周知の方法で枠体12の面12aに蓋体38を接合することにより製造することができるため、詳細な製造方法の説明は省略する。
本発明の第2の実施の形態によれば、本発明の第1の実施の形態と同様の効果を奏する。
又、本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージ10に半導体素子33を搭載することにより、安定した高周波特性を得ることが可能な半導体装置30を実現することができる。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳説したが、本発明は、上述した実施の形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの平面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの図1のA−A線に沿う断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの図1のB−B線に沿う断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図(その1)である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図(その2)である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図(その3)である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図(その4)である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図(その5)である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図(その6)である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体素子収納用パッケージの製造工程を例示する図(その7)である。 本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を例示する平面図である。 本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を例示する図11のD−D線に沿う断面図である。 本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を例示する図11のE−E線に沿う断面図である。
符号の説明
10 半導体素子収納用パッケージ
11 基体
11a,12a,16a 面
12 枠体
12b コネクタ固定部
12c 貫通孔
14 中継基板載置部
14a 載置面
14b 掘り込み部
15 中継基板
15a 配線パターン
16 半導体素子搭載用基板
19 同軸コネクタ
19a 中心導体
19b 誘電体
19c 外周導体
21,22,23 固着層
21a 固着剤
30 半導体装置
33 半導体素子
33a 電極パッド
37 ボンディングワイヤ
38 蓋体
L1,L2,L3 長さ
T1,T2 厚さ

Claims (6)

  1. 基体の一方の面に設けられた中継基板載置部に、配線パターンを有する中継基板を載置する第1工程と、
    前記中継基板載置部の、前記中継基板に隣接する部分に形成されている掘り込み部に、固着剤を供給する第2工程と、
    前記固着剤を溶融させ、毛細管現象を利用して前記中継基板載置部と前記中継基板との間に展延させる第3工程と、
    前記基体の前記一方の面の外縁部に設けられた枠体に、同軸コネクタを固定する第4工程と、
    前記同軸コネクタと前記配線パターンとを電気的に接続する第5工程と、を有する半導体素子収納用パッケージの製造方法。
  2. 前記同軸コネクタは、外周導体と、前記外周導体に充填された誘電体と、前記誘電体の中心に設けられた中心導体と、を有し、
    前記第4工程において、前記同軸コネクタは、前記中心導体の一端が前記枠体の内側に突出するように、前記枠体に固定され、
    前記第5工程において、前記枠体の内側に突出した前記中心導体の一端は、前記配線パターンと電気的に接続される請求項1記載の半導体素子収納用パッケージの製造方法。
  3. 請求項1又は2記載の半導体素子収納用パッケージの内部に、電極パッドを有する半導体素子を搭載する第6工程と、
    前記電極パッドと前記配線パターンとを電気的に接続する第7工程と、を有する半導体装置の製造方法。
  4. 基体と、
    前記基体の一方の面の外縁部に設けられた枠体と、
    前記枠体に固定された同軸コネクタと、
    前記基体の前記一方の面に設けられた中継基板載置部に載置され、前記同軸コネクタと電気的に接続される配線パターンを有する中継基板と、を有し、
    前記中継基板載置部の、前記中継基板に隣接する部分に掘り込み部が形成されている半導体素子収納用パッケージ。
  5. 前記同軸コネクタは、外周導体と、前記外周導体に充填された誘電体と、前記誘電体の中心に設けられた中心導体と、を有し、
    前記中心導体の一端は前記枠体の内側に突出し、
    前記枠体の内側に突出した前記中心導体の一端は、前記配線パターンと電気的に接続されている請求項4記載の半導体素子収納用パッケージ。
  6. 請求項4又は5記載の半導体素子収納用パッケージの内部に、電極パッドを有する半導体素子が搭載され、
    前記電極パッドは、前記配線パターンと電気的に接続されている半導体装置。
JP2008321463A 2008-12-17 2008-12-17 半導体素子収納用パッケージの製造方法及び半導体装置の製造方法 Active JP5225825B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008321463A JP5225825B2 (ja) 2008-12-17 2008-12-17 半導体素子収納用パッケージの製造方法及び半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008321463A JP5225825B2 (ja) 2008-12-17 2008-12-17 半導体素子収納用パッケージの製造方法及び半導体装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010147187A true JP2010147187A (ja) 2010-07-01
JP2010147187A5 JP2010147187A5 (ja) 2011-12-01
JP5225825B2 JP5225825B2 (ja) 2013-07-03

Family

ID=42567310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008321463A Active JP5225825B2 (ja) 2008-12-17 2008-12-17 半導体素子収納用パッケージの製造方法及び半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5225825B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2402476A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Shearing die and method for manufacturing the same
JP2014232796A (ja) * 2013-05-29 2014-12-11 京セラ株式会社 光半導体素子収納用パッケージおよびこれを備えた実装構造体

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004022956A (ja) * 2002-06-19 2004-01-22 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージおよび半導体装置
JP2006128323A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージおよび半導体装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004022956A (ja) * 2002-06-19 2004-01-22 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージおよび半導体装置
JP2006128323A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージおよび半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2402476A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Shearing die and method for manufacturing the same
JP2014232796A (ja) * 2013-05-29 2014-12-11 京セラ株式会社 光半導体素子収納用パッケージおよびこれを備えた実装構造体

Also Published As

Publication number Publication date
JP5225825B2 (ja) 2013-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5397962B2 (ja) 半導体素子パッケージを形成する方法
JP3947750B2 (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2005317998A5 (ja)
JP5009576B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH1022589A (ja) 電子部品搭載用基板及びその製造方法
CN103515348A (zh) 布线基板
JP5225825B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージの製造方法及び半導体装置の製造方法
JP2008288490A (ja) チップ内蔵基板の製造方法
JP2002222824A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2007220873A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP5193522B2 (ja) 半導体素子収納用セラミックパッケージとその製造方法
JP4137981B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP4243178B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2014086963A (ja) パッケージおよびパッケージの製造方法
JP2008010922A (ja) 圧電発振器
JP2010147187A5 (ja)
JPH09293961A (ja) 電子部品の実装方法
JP2017079258A (ja) 電子部品搭載用基板および電子装置
JP2004015064A (ja) 両面の端子が連結された基板及びこれを製造する方法
JP2010141112A (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
KR20040010923A (ko) Mems 소자의 칩규모 패키지 및 이의 제조방법
JP4523022B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3726718B2 (ja) 半導体装置
JPH0823162A (ja) 半導体装置の回路基板への接合方法
JPH02278753A (ja) 薄型パッケージ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111013

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111013

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121120

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130117

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130305

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130313

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5225825

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160322

Year of fee payment: 3