JP2010146008A - 配向基板、これを含む液晶表示パネル、及び配向基板の製造方法 - Google Patents
配向基板、これを含む液晶表示パネル、及び配向基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010146008A JP2010146008A JP2009290566A JP2009290566A JP2010146008A JP 2010146008 A JP2010146008 A JP 2010146008A JP 2009290566 A JP2009290566 A JP 2009290566A JP 2009290566 A JP2009290566 A JP 2009290566A JP 2010146008 A JP2010146008 A JP 2010146008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- substrate
- domain
- unit pixel
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133707—Structures for producing distorted electric fields, e.g. bumps, protrusions, recesses, slits in pixel electrodes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
- G02F1/133761—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different pretilt angles
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【課題】 配向基板、これを含む液晶表示パネル、及び配向基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板結合のとき、整列誤差による配向膜を防ぐことのできる配向基板、これを含む液晶表示パネル、及び配向基板の製造方法が開示される。配向基板は、複数の単位画素領域が定義されたベース基板及びベース基板上に形成される配向膜を含む。前記配向膜は単位画素領域を少なくとも2つのドメインに分割する、少なくとも2つのサブ配向部を有し、各サブ配向部は、互いに異なるプレチルト(pretit)方向を有するように光配向される。複数のサブ配向部が全て1つの基板に形成されるため、基板結合のときに発生されることのできる整列誤差による配向膜の配向誤差を防ぐことができる。
【選択図】図9
Description
しかし、上部基板と下部基板を結合するとき、前記上下基板の整列誤差(miss−alignment)が発生する場合、前記ベクトルの和(vector sum)方向に決定される配向方向に誤差が発生する問題点がある。従って、整列誤差(miss−alignment)による配向方向の誤差を防ぐことのできる配向膜構造が必要になる。
本発明の他の目的は、前記配向基板を含む液晶表示パネルを提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、前記配向基板の製造方法を提供することにある。
一実施形態において、前記少なくとも2つのサブ配向部のプレチルト方向は時計回り方向に回転する形態に並列されることができる。これとは異なって、前記少なくとも2つのサブ配向部のプレチルト方向は、反時計回り方向に回転する形態に配列されることができる。
一実施形態において、前記サブ配向部のプレチルト方向は第1方向を基準に45°または135°方向に向かってもよい。
上述の本発明の他の目的を実現するための実施形態による液晶表示パネルは第1基板、第2基板、及び前記第1基板と前記第2基板との間に介在される液晶層を含む。前記第1基板は、複数の単位画素領域が定義された第1ベース基板、前記第1ベース基板上に形成された画素電極及び前記画素電極上に形成され、前記単位画素領域を少なくとも2つのドメインに分割する少なくとも2つのサブ配向部を有し、前記各サブ配向部は、互いに異なるプレチルト方向を有するように光配向された第1配向膜を含む。前記第2基板は、前記第1ベース基板と対向する第2ベース基板及び前記第2ベース基板上に形成される共通電極を含む。
一実施形態において、前記第2基板は、前記共通電極上に形成される第2配向膜をさらに含んでもよい。前記第2配向膜は垂直配向されてもよい。
一実施形態において、前記サブ配向部のプレチルト方向は、第1方向を基準に45°または135°方向に向かってもよい。
一実施形態において、前記第1基板は、前記ベース基板上に形成されたゲートライン、前記ゲートラインと絶縁されて交差するデータライン及び前記ゲートライン及び前記データラインと接続されて前記画素電極と電気的に接続される薄膜トランジスタをさらに含んでもよい。前記第1基板は前記薄膜トランジスタを覆うパッシベーション層及び前記パッシベーション層と前記画素電極との間に形成されたカラーフィルタをさらに含んでもよい。また、前記第1基板は、前記パッシベーション上に形成され、光を遮断する遮光層をさらに含んでもよい。
上述の本発明のさらに他の目的を実現するための実施形態による表示基板の製造方法において、複数の単位画素領域が定義されたベース基板上に光反応性物質を形成する。また、前記ベース基板上に形成された光反応性物質に光を照射する光配向工程を通じて、前記単位画素領域を少なくとも2つのドメインに分割するように高いに異なるプレチルト(pretilt)方向を有する、少なくとも2つのサブ配向部を有する配向膜を形成する。
一実施形態において、前記配向膜を形成するとき、前記各単位画素を第1方向に少なくとも2つ以上のドメインに分割し、前記第1方向に分割された少なくとも2つ以上のドメインのうち、選択された1つのドメインを除いたその他のドメインを遮蔽した状態で、前記選択されたドメインを第1光に露出させることができる。前記露光されるドメインは前記第1方向に沿って順次に選択されることができる。また、前記各単位画素を前記第1方向に垂直の第2方向に少なくとも2以上のドメインに分割し、前記第2方向に分割された少なくとも2つ以上のドメインのうちで、選択された1つのドメインを除いたその他のドメインを遮蔽した状態で、前記選択されたドメインを第2光に露出させることができる。前記露光されるドメインは、前記第2方向に沿って順次に選択されることができる。前記第1光の露光エネルギーは前記第2光の露光エネルギーより大きくてもよい。
本発明は多様な変更を加えることができ、様々な形態を有することができるため、特定実施形態を図面に例示し、本明細書に詳しく説明する。しかし、これは本発明を特定の開示形態に対して限定しようとすることではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物、ないしは代替物を含むことと理解されるべきである。各図面を説明しながら類似する参照符号を、類似する構成要素に対して使用した。添付図面において、構造物のサイズは本発明の明確性に基づくために実際より拡大して示した。第1、第2などの用語は多様な構成要素を説明するにあたって使用することができるが、各構成要素は使用される用語によって限定されるものではない。各用語は1つの構成要素を他の構成要素と区別する目的で使用されるものであって、例えば、明細書中において、第1構成要素を第2構成要素に書き換えることも可能であり、同様に第2構成要素を第1構成要素とすることができる。単数表現は文脈上、明白に異なる意味を有しない限り、複数の表現を含む。
前記第1基板100には複数の単位画素領域PAが定義される。前記第1基板100は、第1ベース基板110上に形成された複数のゲートラインGL、複数のデータラインDL、及び薄膜トランジスタTFTを含む。前記ゲートラインGLは前記第1ベース基板110の第1方向D1に延長される。前記ゲートラインGLは、前記第1方向D1と異なる第2方向D2に沿って平行に配置される。前記第2方向D2を前記第1方向D1と実質的に垂直な方向であってもよい。前記データラインDLは、前記第2方向D2に沿って延長され、データラインDLどうしは前記第1方向D1に沿って平行に配置される。
前記薄膜トランジスタTFTは、前記ゲートラインGLと接続されたゲート電極GE、前記データラインDLと接続されたソース電極SE、前記ソース電極SEと離隔されたドレイン電極DE及び前記ゲート絶縁層120上に形成されたアクティブパターン130を含む。前記アクティブパターン130は、半導体層130a及び前記半導体層130a上に形成されたオーミックコンタクト層130bを含む。前記半導体層130aは、例えば、非晶質シリコン(Amorphous silicon;a−Si)で形成されてもよく、前記オーミックコンタクト層130bは、n型不純物が高濃度でドーピングされたn+非晶質シリコン(n+ a−Si)で形成されてもよい。
前記画素電極170は、前記薄膜トランジスタTFTと前記コンタクトホールCNTを通じて電気的に接続される。前記コンタクトオールCNTは前記ドレイン電極DE上の前記パッシベーション層140及び前記第1カラーフィルタ162に形成され、前記ドレイン電極DEの一部を露出させる。前記画素電極170は、前記薄膜トランジスタTFTと電気的に接続されているため、前記画素電極170は、前記薄膜トランジスタTFTを通じて印加される画素電圧の提供を受けることができる。例えば、前記データラインDLを通じて印加される画素電圧は、前記ゲートラインGLを通じて印加されるゲート電圧に応答して前記ドレイン電極DEに伝達され、前記コンタクトホールCNTを通じて前記ドレイン電極DEと電気的に接続された前記画素電極170にに印加される。
ここで、プレチルトとは、前記液晶層300に電場が印加される場合に前記液晶層300の液晶分子310が予定の方向に傾くようにするために、前記液晶分子の一部が予め傾いた状態をいう。プレチルト方向というのは、前記電場が液晶層300に印加される前に、前記液晶分子310の一部が予め傾いた方向をいう。前記第1〜第4サブ配向部(181、182、183、184)がそれぞれのプレチルト方向を有する場合、前記第1配向膜180上に配置された液晶分子310、特に、前記第1配向膜180に隣接した液晶分子310の方向子(director)が前記プレチルト方向と実質的に平行に配置される。
もし、上部基板と下部基板のそれぞれに互いに異なるプレチルト方向を有する配向膜を形成し、前記上部基板及び下部基板に形成されるプレチルト方向のベクトルの和(vector sum)方向にプレチルト方向を決定する場合には、上部基板と下部基板とを結合するときに発生する整列誤差によって前記ベクトルの和で決定されるプレチルト方向に誤差が発生する問題がある。遮光層150が第2基板200に形成される場合には、前記遮光層150により上下基板の結合のときに整列基準を行うことができるが、図2に示すように、前記遮光層150が第1基板100に形成される場合には、前記第2基板200には上下基板の結合のときに整列基準になることのできる指標がないため、整列誤差が発生する可能性がさらに高まる。
例えば、第3ドメインDM3及び第4ドメインDM4の下部側から参照すると、前記第1マスクMSK1の左側は前記紫外線UVを透過させ、前記第1マスクMSK1の右側は前記紫外線UVを遮蔽する。つまり、第1マスクMSK1において、第1ドメインDM1及び第3ドメインDM3側は紫外線UVを透過させ、第2ドメインDM2及び第4ドメインDM4側は紫外線UVを遮断する。これによって、前記紫外線UVは前記単位画素領域PAの左側に配置される第1ドメインDM1及び第3ドメインDM3には照射され、前記単位画素領域PAの右側に配置される第2ドメインDM2及び第4ドメインDM4には照射されない。
例えば、第3ドメインDM3及び第4ドメインDM4の下部側から参照すると、前記第3マスクMSK3の上側は前記紫外線UVを透過させ、前記第3マスクMSK3の下側は前記紫外線UVを遮蔽する。つまり、第3マスクMSK3において、第1ドメインDM1及び第2ドメインDM2側は紫外線UVを透過させ、第3ドメインDM3及び第4ドメインDM4側は紫外線UVを遮断する。これによって、前記紫外線UVは前記単位画素領域PAの上側に配置される第1ドメインDM1及び第2ドメインDM2には照射され、前記単位画素領域PAの下側に配置される第3ドメインDM3及び第4ドメインDM4には照射されない。
ここで、前記紫外線UVは、前記第3マスクMSK3が位置する平面上から見たとき、左側方向、つまり、前記第1方向D1の逆方向に向かう。また、3次元的に見るとき、前記紫外線UVは、前記第3マスクMSK3が位置する平面を基準に前記第3方向に傾いて照射される。上述したように、前記第1基板100を基準に前記紫外線UVが第3方向D3に傾いた角度は、第1配向膜(図2の180)のプレチルト角と実質的に同一であってもよい。
図8に示す矢印(AR1、AR2、AR3、AR4)の方向は前記各ドメイン(DM1、DM2、DM3、DM4)に形成された感光性高分子膜が前記紫外線UVによって光配向された方向を示す。つまり、前記紫外線UVが照射された第1ドメインDM1に形成された感光性高分子膜は前記第1露光工程で光配向された方向である上側方向(つまり、第2方向)と前記第3露光工程で光配向された方向である右側方向(つまり、第1方向)とのベクトルの和の方向に配向される。ここで、前記上側方向と前記右側方向のベクトルの和の方向は前記第1基板100の平面上で前記第1方向D1を基準に反時計回り方向に45°傾いた方向である。
同様に、前記紫外線UVが照射される前記第2ドメインDM2に形成された感光性高分子膜は、前記第2露光工程で光配向された方向である下側方向(つまり、第2方向の逆方向)と前記第3露光工程で光配向される方向である右側方向(つまり、第1方向)とのベクトルの和の方向に配向される。ここで、前記右側方向と前記下側方向のベクトルの和の方向は、前記第1基板100の平面上で前記第1方向D1を基準に時計回り方向に45°傾いた方向である。
例えば、第3ドメインDM3及び第4ドメインDM4の下部側から参照すると、前記第4マスクMSK4の上側は前記紫外線UVを遮蔽し、前記第4マスクMSK4の下側は前記紫外線UVを透過させる。つまり、第4マスクMSK4において、第1ドメインDM1及び第2ドメインDM2側は紫外線UVを遮断し、第3ドメインDM3及び第4ドメインDM4側は紫外線UVを透過させる。これによって、前記紫外線UVは前記単位画素領域PAの下側に配置される第3ドメインDM3及び第4ドメインDM4には照射され、前記単位画素領域PAの上側に配置される第1ドメインDM1及び第2ドメインDM2には照射されない。
ここで、前記紫外線UVは、前記第4マスクMSK4が位置する平面上から見るとき、左側方向、つまり、前記第1方向D1に向かう。また、3次元的に見るとき、前記紫外線UVは、前記第4マスクMSK4が位置する平面を基準に前記第3方向D3に傾いて照射される。上述したように、前記第1基板100を基準に前記紫外線UVが第3方向D3に傾いた角度は、第1配向膜(図2の180)のプレチルト角と実質的に同一であってもよい。
図9に示す矢印(AR1、AR2、AR3、AR4)の方向は前記各ドメイン(DM1、DM2、DM3、DM4)に形成された感光性高分子膜が前記紫外線UVによって光配向された方向を示す。つまり、前記紫外線UVが照射された第3ドメインDM3に形成された感光性高分子膜は前記第1露光工程で光配向された方向である上側方向(つまり、第2方向)と前記第4露光工程で光配向された方向である左側方向(つまり、第1方向の逆方向)とのベクトルの和の方向に配向される。ここで、前記上側方向と前記左側方向のベクトルの和の方向は前記第1基板100の平面上で前記第1方向D1を基準に反時計回り方向に135°傾いた方向である。
図9に示す矢印(AR1、AR2、AR3、AR4)の方向は、結果的に、前記第1露光工程〜第4露光工程を通じて前記各ドメイン(DM1、DM2、DM3、DM4)にそれぞれ対応して形成された第1〜第4サブ配向部(図1の181、182、183、184)のプレチルト方向をそれぞれ示す。例えば、前記第1ドメインD1に形成された矢印AR1の方向は図1に示す第1サブ配向部181の第1プレチルト方向PTD1と同一で、前記第2ドメインDM2に形成された矢印AR2の方向は図1に示す第2サブ配向部182の第2プレチルトPTD2と同一である。同様に、前記第3ドメインD3に形成された矢印AR3の方向は図1に示す第3サブ配向部183の第3プレチルトPTD3と同一で、前記第4ドメインD4に形成された矢印AR4の方向は図1に示す第4サブ配向部184の第4プレチルトPTD4と同一である。
本実施形態においては、前記第1〜第4サブ配向部(181、182、183、184)のプレチルト方向が図11に示すように反時計回り方向に回転する形態に配列される。つまり、境界で接するサブ配向部のプレチルト方向は実質的に直交することができ、対角線方向に隣接するサブ配向部のプレチルト方向は180°程の差がなし得る。
・ 第2露光工程では、第2マスクMSK2による紫外線の遮光領域及び照射領域は図7と同じであるが、図7に示す第2露光工程と異なり、紫外線UVが、第2マスクMSK2が位置する平面上から見るとき、下側方向、つまり、前記第2方向D2の逆方向に向かって照射される。よって、第2ドメインDM2及び第4ドメインDM4に形成された感光性高分子膜が上側方向、つまり、前記第2方向D2の方向に光配向される。
第3露光工程では、第3マスクMSK3による紫外線の遮光領域及び照射領域は図8と同じであるが、図8に示す第3露光工程と異なり、紫外線UVが、第3マスク3が位置する平面上から見るとき、右側方向、つまり、前記第1方向D1に向かって照射される。よって、第1ドメインDM1に形成された第1サブ配向部181のプレチルト方向は、図11に示したように、前記第1方向D1を基準に時計回り方向に135°向かう。また、第2ドメインDM2に形成された第2サブ配向部182のプレチルト方向は、前記第1方向D1を基準に反時計回り方向に135°向かう。
第4露光工程では、第4マスクMSK4による紫外線の遮光領域及び照射領域は図9と同じであるが、図9に示す第4露光工程と異なり、紫外線UVが第4マスクMSK4が位置する平面上から見るとき、左側方向、つまり、前記第1方向D1の逆方向に向かって照射される。よって、第3ドメインDM3に形成された第3サブ配向部183のプレチルト方向は、図11に示したように、前記第1方向D1を基準に時計回り方向に45°向かう。また、第4ドメインDM4に形成された第4サブ配向部184のプレチルト方向は前記第1方向D1を基準に反時計回り方向に45°向かう。
以上、上述の詳しい説明によれば、マルチドメインを形成するためのサブ配向部を有する配向膜を1つの基板に形成する。従って、基板の結合のときに発生する可能性のある整列誤差による配向膜の配向誤差を防ぐことができる。
110第1ベース基板
150遮光層
162、164 カラーフィルタ
170画素電極
180第1配向膜
181第1サブ配向部
182 第2サブ配向部
183第3サブ配向部
184第4サブ配向部
200第2基板
210第2ベース基板
220共通電極
230第2配向膜
300液晶層
310液晶分子
500液晶表示パネル
PA 単位画素領域
DM1第1ドメイン
DM2第2ドメイン
DM3第3ドメイン
DM4第4ドメイン
PTD1 第1プレチルト方向
PTD2 第2プレチルト方向
PTD3 第3プレチルト方向
PTD4 第4プレチルト方向
Claims (19)
- 複数の単位画素領域が定義されたベース基板と、
前記ベース基板上に形成され、前記単位画素領域を少なくとも2つのドメインに分割する少なくとも2つのサブ配向部を有し、互いに異なるドメインに形成された各サブ配向部は互いに異なるプレチルト(pretilt)方向を有するように配向された配向膜と、を含むことを特徴とする配向基板。 - 各サブ配向部のプレチルト方向は、時計回り方向又は反時計回り方向に回転するように配置されることを特徴とする請求項1に記載の配向基板。
- 前記サブ配向部のプレチルト方向は、前記配向膜が配置される平面の第1方向を基準に45°または135°方向に向かうことを特徴とする請求項1に記載の配向基板。
- 複数の単位画素領域が定義された第1ベース基板、前記第1ベース基板上に形成された画素電極、及び前記画素電極上に形成され前記単位画素領域を少なくとも2つのドメインに分割する少なくとも2つのサブ配向膜を有し、互いに異なるドメインに形成された各サブ配向部は、互いに異なるプレチルト方向を有するように第1配向膜を含む第1基板と、
前記第1ベース基板と対向する第2ベース基板及び前記第2ベース基板上に形成される共通電極を含む第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に介在される液晶層と、を含むことを特徴とする液晶表示パネル。 - 前記第2基板は、前記共通電極上に形成される第2配向膜をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示パネル。
- 前記第2配向膜は、垂直配向されることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示パネル。
- 前記サブ配向部のプレチルト方向は、前記配向膜が配置される平面の第1方向を基準に45°または135°方向に向かうことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示パネル。
- 前記第1基板は、
前記ベース基板上に形成されたゲートラインと、
前記ゲートラインと絶縁されて交差するデータラインと、
前記ゲートライン及び前記データラインと接続され、前記画素電極と電気的に接続される薄膜トランジスタと、をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示パネル。 - 前記第1基板は、前記薄膜トランジスタを覆うパッシベーション層及び前記パッシベーション層と前記画素電極との間に形成されたカラーフィルタをさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示パネル。
- 前記第1基板は、前記パッシベーション上に形成され、光を遮断する遮光層をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示パネル。
- 複数の単位画素領域が定義されたベース基板上に光反応性物質を形成する段階と、
前記ベース基板上に形成された光反応性物質に光を照射する光配向工程を通じて、前記単位画素領域を少なくとも2つのドメインに分割するように互いに異なるプレチルト(pretilt)方向を有する、少なくとも2つのサブ配向部を有する配向膜を形成する段階と、を含むことを特徴とする配向基板の製造方法。 - 前記配向膜を形成する段階は、前記単位画素の第1方向に沿って分割された少なくとも2つ以上のドメインのうち、選択された1つのドメインを除いたその他のドメインを遮蔽した状態で、前記選択されたドメインを第1光に露出させる段階を含み、
前記露光されるドメインは前記第1方向に沿って順次に選択されることを特徴とする請求項11に記載の配向基板の製造方法。 - 前記配向膜を形成する段階は、前記単位画素の前記第1方向に垂直の第2方向に沿って分割された少なくとも2つ以上のドメインのうち、選択された1つの1つのドメインを除いたその他のドメインを遮蔽した状態で、前記選択されたドメインを第2光に露出させる段階をさらに含み、
前記露光されるドメインは、前記第2方向に沿って順次に選択されることを特徴とする請求項12に記載の配向基板の製造方法。 - 前記第1光の光エネルギーは、前記第2光の光エネルギーより大きいことを特徴とする請求項13に記載の配向基板の製造方法。
- 前記各単位画素は、前記単位画素のいずれかの一辺を底辺として上下左右に少なくとも4つのドメインに分割され、前記4つのドメインは上段左側に位置する第1ドメイン、上段右側に位置する第2ドメイン、下段左側に位置する第3ドメイン、及び下段右側に位置する第4ドメインを含み、
前記配向膜を形成する段階は、
前記右側に位置する第2ドメイン及び第4ドメインに光を遮蔽した状態で、前記左側に位置する第1ドメイン及び第3ドメインを第1露光する段階と、
前記左側に位置する第1ドメイン及び第3ドメインに光を遮蔽した状態で、前記右側に位置する第2ドメイン及び第4ドメインを第2露光する段階と、
前記下段に位置する第3ドメイン及び第4ドメインに光を遮蔽した状態で、前記上段に位置する第1ドメイン及び第2ドメインを第3露光する段階と、
前記上段に位置する第1ドメイン及び第2ドメインには光を遮蔽した状態で、前記下段に位置する第3ドメイン及び第4ドメインを第4露光する段階と、を含むことを特徴とする請求項11に記載の配向基板の製造方法。 - 前記第1露光段階は、第2方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第2露光段階は、前記第2方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第3露光段階は、第1方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第4露光段階は、前記第1方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第1方向は、前記単位画素の左側から右側に向かう方向で、前記第2方向は、前記単位画素の下段から上段に向かう方向と定義されることを特徴とする請求項15に記載の配向基板の製造方法。 - 前記第1露光段階は、第2方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第2露光段階は、前記第2方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第3露光段階は、第1方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第4露光段階は、前記第1方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第1方向は、前記単位画素の左側から右側に向かう方向で、前記第2方向は、前記単位画素の下段から上段に向かう方向と定義されることを特徴とする請求項15に記載の配向基板の製造方法。 - 前記第1露光段階は、第2方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第2露光段階は、前記第2方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第3露光段階は、第1方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第4露光段階は、前記第1方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第1方向は、前記単位画素の左側から右側に向かう方向でであり、前記第2方向は、前記単位画素の下段から上段に向かう方向と定義されることを特徴とする請求項15に記載の配向基板の製造方法。 - 前記第1露光段階は、第2方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第2露光段階は、前記第2方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第3露光段階は、第1方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、前記第4露光段階は、前記第1方向の逆方向に向かう偏光紫外線を照射する段階を含み、
前記第1方向は、前記単位画素の左側から右側に向かう方向で、前記第2方向は、前記単位画素の下段から上段に向かう方向と定義されることを特徴とする請求項15に記載の配向基板の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080131162A KR101612480B1 (ko) | 2008-12-22 | 2008-12-22 | 배향기판, 이를 포함하는 액정표시패널 및 배향기판의 제조방법 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015025014A Division JP5926828B2 (ja) | 2008-12-22 | 2015-02-12 | 配向基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010146008A true JP2010146008A (ja) | 2010-07-01 |
Family
ID=42265536
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009290566A Pending JP2010146008A (ja) | 2008-12-22 | 2009-12-22 | 配向基板、これを含む液晶表示パネル、及び配向基板の製造方法 |
JP2015025014A Active JP5926828B2 (ja) | 2008-12-22 | 2015-02-12 | 配向基板の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015025014A Active JP5926828B2 (ja) | 2008-12-22 | 2015-02-12 | 配向基板の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8395736B2 (ja) |
JP (2) | JP2010146008A (ja) |
KR (1) | KR101612480B1 (ja) |
CN (1) | CN101762909B (ja) |
TW (1) | TWI578071B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101131784B1 (ko) | 2010-10-25 | 2012-03-30 | 한울정보기술(주) | 터치패드 및 그 제조방법 |
EP2485085A2 (en) | 2011-02-08 | 2012-08-08 | NLT Technologies, Ltd. | Liquid crystal display device |
JP2013068720A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Sony Corp | 液晶表示装置およびその駆動方法、ならびに電子機器 |
JP2013137488A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-07-11 | Nlt Technologies Ltd | 横電界方式の液晶表示装置及びその製造方法 |
WO2023027035A1 (ja) * | 2021-08-27 | 2023-03-02 | Jsr株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI409341B (zh) * | 2009-03-31 | 2013-09-21 | Kuo Ming Tsai | Raw material smelting material formulation processing system |
KR20110089915A (ko) * | 2010-02-02 | 2011-08-10 | 삼성전자주식회사 | 표시 기판, 이의 제조 방법 및 표시 패널 |
KR101710694B1 (ko) * | 2010-08-10 | 2017-02-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광배향 방법 및 액정 표시 장치 |
US20120127148A1 (en) | 2010-11-24 | 2012-05-24 | Seong-Jun Lee | Display substrate, display panel and display device |
KR101757476B1 (ko) * | 2010-11-29 | 2017-07-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 화소전극의 슬릿들과 광배향막들을 가지는 단위화소들이 형성된 액정표시패널 |
KR101744920B1 (ko) * | 2010-12-15 | 2017-06-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 패널 |
KR101771623B1 (ko) | 2010-12-15 | 2017-09-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 배향막을 배향하는 방법 및 장치, 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 |
US9638960B2 (en) * | 2010-12-28 | 2017-05-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
JP5905272B2 (ja) * | 2011-01-27 | 2016-04-20 | 住友化学株式会社 | 光学異方性層の製造方法 |
CN102169255A (zh) | 2011-05-10 | 2011-08-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Ocb液晶面板及其制造方法、ocb液晶显示器 |
KR101825215B1 (ko) * | 2011-06-07 | 2018-02-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR101812511B1 (ko) * | 2011-06-07 | 2018-01-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 렌즈 패널, 이의제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치 |
TWI459098B (zh) * | 2011-09-07 | 2014-11-01 | Innolux Corp | 光配向膜及其製作方法 |
KR101941547B1 (ko) * | 2012-01-06 | 2019-04-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광 배향 방법, 이를 수행하기 위한 노광 장치 및 액정 표시 패널 |
KR20130106219A (ko) * | 2012-03-19 | 2013-09-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널 및 이의 제조 방법 |
CN103336389B (zh) * | 2013-06-03 | 2016-01-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光配向装置和方法 |
US9366908B2 (en) | 2013-06-03 | 2016-06-14 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Optical alignment device and the method thereof |
CN103728783A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-16 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示面板的配向方法及相应的液晶显示装置 |
KR20150081626A (ko) | 2014-01-06 | 2015-07-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그것의 제조 방법 |
KR102204058B1 (ko) | 2014-02-14 | 2021-01-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 곡면 표시 장치 |
JP6318677B2 (ja) * | 2014-02-17 | 2018-05-09 | 凸版印刷株式会社 | 配向膜の製造方法、および、表示体の製造方法 |
KR102160130B1 (ko) | 2014-03-11 | 2020-09-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정표시패널 |
US10126602B2 (en) | 2014-03-20 | 2018-11-13 | Samsung Display Co., Ltd. | Curved display device and fabricating method thereof |
KR102240418B1 (ko) | 2015-01-05 | 2021-04-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
KR102269081B1 (ko) | 2015-01-22 | 2021-06-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
KR20160122305A (ko) | 2015-04-13 | 2016-10-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN105093688B (zh) * | 2015-07-16 | 2018-07-27 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示面板及其制作方法 |
CN108027539B (zh) * | 2015-10-02 | 2021-05-04 | 夏普株式会社 | 液晶显示面板及其制造方法 |
CN105487301B (zh) * | 2016-02-15 | 2018-11-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 垂直光配向方法及液晶显示面板的制作方法 |
US10274785B2 (en) * | 2016-03-30 | 2019-04-30 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal display panel comprising pixel electrode slits at boundaries between photic areas of a sub-pixel unit having different alignment directions and display device |
US10007150B2 (en) * | 2016-04-13 | 2018-06-26 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal alignment method and liquid crystal display panel |
CN109844626A (zh) * | 2016-10-06 | 2019-06-04 | 夏普株式会社 | 液晶单元的制造方法和液晶单元 |
CN106873246B (zh) * | 2017-02-27 | 2024-06-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光配向设备的机台、光配向设备及基板的光配向加工方法 |
CN107357089B (zh) * | 2017-09-07 | 2020-08-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板及光配向方法 |
KR102421946B1 (ko) * | 2017-11-23 | 2022-07-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN109491148A (zh) * | 2019-01-08 | 2019-03-19 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | 光配向方法及光配向装置 |
CN112327542A (zh) * | 2019-10-25 | 2021-02-05 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 显示装置及其制备方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09105941A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-22 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPH11133429A (ja) * | 1997-02-27 | 1999-05-21 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置 |
JP2000187221A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Sony Corp | 液晶素子の製造方法及びその製造装置 |
JP2001056467A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-02-27 | Nec Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2001056497A (ja) * | 1999-08-17 | 2001-02-27 | Olympus Optical Co Ltd | カメラ |
JP2001296528A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
JP2004341049A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JP2005148442A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子及びその製造方法 |
JP2007225962A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Optrex Corp | 液晶表示素子およびその製造方法 |
JP2007298842A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP2008538819A (ja) * | 2005-05-13 | 2008-11-06 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2693368B2 (ja) * | 1993-06-29 | 1997-12-24 | スタンレー電気株式会社 | 液晶表示素子とその製造方法 |
JP2773795B2 (ja) * | 1995-05-10 | 1998-07-09 | スタンレー電気株式会社 | 液晶配向構造の製造方法及び液晶表示装置 |
KR100208970B1 (ko) * | 1995-12-29 | 1999-07-15 | 구자홍 | 액정셀 및 그의 제조방법 |
KR0182876B1 (ko) * | 1996-01-09 | 1999-05-01 | 구자홍 | 액정셀의 프리틸트방향 제어방법 |
JP3926072B2 (ja) * | 1998-12-18 | 2007-06-06 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
KR20040093052A (ko) * | 2002-02-15 | 2004-11-04 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 배향막, 배향막의 제조 방법, 배향막이 부착된 기판 및액정 표시 장치 |
KR20040083181A (ko) | 2003-03-21 | 2004-10-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 멀티 도메인 배향막 형성 방법 |
JP3662573B2 (ja) * | 2003-09-29 | 2005-06-22 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 液晶表示素子 |
JP4628801B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2011-02-09 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
US7995177B2 (en) * | 2005-06-09 | 2011-08-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
US20070262312A1 (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-15 | Au Optronics Corp. | Thin film transistor array substrate structures and fabrication method thereof |
-
2008
- 2008-12-22 KR KR1020080131162A patent/KR101612480B1/ko active IP Right Grant
-
2009
- 2009-11-16 TW TW098138799A patent/TWI578071B/zh active
- 2009-11-17 US US12/620,269 patent/US8395736B2/en active Active
- 2009-12-22 JP JP2009290566A patent/JP2010146008A/ja active Pending
- 2009-12-22 CN CN200910262204.1A patent/CN101762909B/zh active Active
-
2013
- 2013-03-07 US US13/788,615 patent/US9229274B2/en active Active
-
2015
- 2015-02-12 JP JP2015025014A patent/JP5926828B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09105941A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-22 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPH11133429A (ja) * | 1997-02-27 | 1999-05-21 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置 |
JP2000187221A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Sony Corp | 液晶素子の製造方法及びその製造装置 |
JP2001056497A (ja) * | 1999-08-17 | 2001-02-27 | Olympus Optical Co Ltd | カメラ |
JP2001056467A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-02-27 | Nec Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2001296528A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
JP2004341049A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JP2005148442A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子及びその製造方法 |
JP2008538819A (ja) * | 2005-05-13 | 2008-11-06 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP2007225962A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Optrex Corp | 液晶表示素子およびその製造方法 |
JP2007298842A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101131784B1 (ko) | 2010-10-25 | 2012-03-30 | 한울정보기술(주) | 터치패드 및 그 제조방법 |
EP2485085A2 (en) | 2011-02-08 | 2012-08-08 | NLT Technologies, Ltd. | Liquid crystal display device |
EP2706403A2 (en) | 2011-02-08 | 2014-03-12 | NLT Technologies, Ltd. | Liquid crystal display device |
US9678388B2 (en) | 2011-02-08 | 2017-06-13 | Nlt Technologies, Ltd. | Liquid crystal display device |
US11106090B2 (en) | 2011-02-08 | 2021-08-31 | Tianma Microelectronics Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
US11442315B2 (en) | 2011-02-08 | 2022-09-13 | Tianma Microelectronics Co., Ltd. | Liquid crystal display device comprising a first pixel for displaying a first-viewpoint image and a second pixel for displaying a second-viewpoint image |
JP2013068720A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Sony Corp | 液晶表示装置およびその駆動方法、ならびに電子機器 |
JP2013137488A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-07-11 | Nlt Technologies Ltd | 横電界方式の液晶表示装置及びその製造方法 |
WO2023027035A1 (ja) * | 2021-08-27 | 2023-03-02 | Jsr株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101612480B1 (ko) | 2016-04-27 |
US8395736B2 (en) | 2013-03-12 |
TWI578071B (zh) | 2017-04-11 |
US20130182204A1 (en) | 2013-07-18 |
TW201030428A (en) | 2010-08-16 |
CN101762909A (zh) | 2010-06-30 |
CN101762909B (zh) | 2015-03-18 |
US9229274B2 (en) | 2016-01-05 |
JP5926828B2 (ja) | 2016-05-25 |
JP2015092291A (ja) | 2015-05-14 |
US20100157223A1 (en) | 2010-06-24 |
KR20100072682A (ko) | 2010-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5926828B2 (ja) | 配向基板の製造方法 | |
US8125598B2 (en) | Method of forming an alignment layer, and apparatus for forming the alignment layer | |
JP3926874B2 (ja) | 液晶セルの製造方法及び液晶セル | |
JP3673045B2 (ja) | 光を用いたツイストネマチック液晶セルの製造方法 | |
KR100923052B1 (ko) | 배향 기판 | |
WO2010079703A1 (ja) | 液晶表示装置及び液晶層形成用組成物 | |
JP6241058B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2010128496A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
KR20110135697A (ko) | 액정표시장치 | |
WO2012014803A1 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
KR20110014912A (ko) | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
KR102409741B1 (ko) | 액정표시장치 및 이의 제조방법 | |
KR101023730B1 (ko) | 배향막 형성방법 및 그를 이용한 액정표시소자 제조방법 | |
JP7050408B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
US20150015817A1 (en) | Liquid crystal display device | |
JP5404820B2 (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 | |
KR101041090B1 (ko) | 배향 기판의 제조방법 및 이를 갖는 액정표시장치 | |
KR101636400B1 (ko) | 액정표시패널 | |
KR100480812B1 (ko) | 액정표시소자의 배향막 제조방법 | |
KR102621459B1 (ko) | 배향막 조성물, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 액정 표시 장치 제조방법 | |
JP6029364B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
KR20090055914A (ko) | 노광장치의 편광자 및 이를 이용한 배향방법 | |
KR102651720B1 (ko) | 배향막 조성물, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 액정 표시 장치 제조방법 | |
WO2012011403A1 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2001296526A (ja) | 液晶表示装置及びマルチドメイン形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120321 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120321 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20121213 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130219 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130322 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130802 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130813 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140311 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140424 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141014 |