JP2001296526A - 液晶表示装置及びマルチドメイン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光配向処理にてマルチドメインを形成する場合
であれ、その形成をより容易とする構造を有する液晶表
示装置及びそのマルチドメイン形成方法を提供する。 【解決手段】光配向膜からなる配向膜５は、その各画素
領域５ｐが、互いに異なる配向方向を有する第１のドメ
イン５ｐａと第２のドメイン５ｐｂとに分離されてい
る。隣接する２つのドメイン５ｐａ、５ｐｂの１つおき
の隣接辺Ｌ２に沿って、それぞれブロック状スペーサ２
０が形成されている。各ブロック状スペーサ２０をマス
クとして、前記第１のドメイン５ｐａに光を斜め照射し
て配向処理を行う。同じく各ブロック状スペーサ２０を
マスクとして、第２のドメイン５ｐｂに光を斜め照射し
て配向処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マルチドメイン方
式の液晶表示装置及びそのマルチドメイン形成方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は周知のように、外部から
電圧を印加することにより、液晶の特定の分子配列（配
向）を別の異なる分子配列に状態変化させることで、同
液晶に照射される光の特性を変化させ、この変化を輝度
の調整のために利用する表示装置である。

【０００３】そして、この液晶を特定方向へ配向させる
手段として、従来より配向膜が用いられている。この配
向膜は、その表面を布でこする（ラビング法）などによ
り、ストライプ状の細かい溝が形成されたものである。
このため、同配向膜に接する液晶は、この形成された溝
の方向（配向方向）に配列されるようになる。そして、
このように配列された液晶に外部から電圧を印加すると
ともに、この印加する電圧を調整することでその配列が
変化する。すなわち、この液晶の配列の変化を通じて、
その表面に設けられた偏光板を透過する光の光量を変化
させることができ、ひいては輝度の調整が可能となる。

【０００４】ところで、このような液晶表示装置では、
上記透過光量が視野角に依存することが知られている。
このため、視野角によっては、上記輝度の調整が的確に
行われないことがある。

【０００５】そこで従来より、このような問題を解消す
ることのできる液晶表示装置として、マルチドメイン方
式の液晶表示装置が提案されている。このマルチドメイ
ン方式の液晶表示装置は、上述した配向膜の配向方向を
１方向に限定せずに、複数の方向に配向方向を有するよ
う形成したものである。例えば、２ドメインの方式の場
合、２つの互いに逆方向に配向方向を有する溝を設ける
ことで、液晶のディレクタが互いに反対方向に傾斜する
２つの領域が形成されるため、これら液晶を透過する光
の方向依存性が緩和され、その分、視野角も拡大される
ようになる。

【０００６】一方、こうしたマルチドメイン方式を採用
することで、確かに視野角の拡大は可能となったもの
の、その配向方法として上記ラビング法を採用している
限り、発塵の問題や静電気による素子破壊などの問題も
避け難く、歩留まりを下げる一因となっている。

【０００７】そこで従来は、このようなラビング法に代
えて、光偏光記憶膜を用いた光配向処理によって上記配
向を行う方法も提案されている。そしてその方法として
は、ジアゾアミン染料をドープしたシリコンポリイミド
を用いる方法、アゾ染料をドープしたＰＶＡ（ポリビニ
ルアルコール）を用いる方法、光重合フォトポリマーを
用いる方法、ＰＶＣ（ポリビニル４−メトキシシンナメ
ート）膜に偏光を照射することで偏光方向と直交する方
向に液晶を水平配向させる方法、ＰＶＣ膜に対し基板の
法線方向から偏光を入射し、さらに基板の法線に対し一
定の角度でかつ前記偏光方向と直交する方向から偏光を
照射する方法（特願平５−２０３１８４号公報、特願平
７−２１３６１０号公報等参照）、ポリイミド光偏光記
憶膜を形成した基板に斜め方向から非偏光を照射する方
法（特願平８−１３２０３９号公報参照）などが知られ
ている。

【０００８】図１２に、こうした光配向処理により４ド
メインの配向膜を形成する際の基本形成原理を示す。す
なわち、この光配向処理による配向膜の形成に際して
は、まず、図１２（ａ）に示すように、光配向膜４０５
上方に、マスクＭ１を用いて、所定の方向から照射光を
照射することで、同光配向膜４０５の第１のドメインａ
を、配向方向ｄ１を有する膜として形成する。次に、同
図１２（ｂ）に示すように、マスクＭ２を用いて、第２
のドメインｂを、配向方向ｄ２を有する膜として、同様
に、同図１２（ｃ）に示すように、マスクＭ３を用い
て、第３のドメインｃを、配向方向ｄ３を有する膜とし
てそれぞれ形成する。そして最後に、図１２（ｄ）に示
すように、マスクＭ４を用いて、第４のドメインｅを、
配向方向ｄ４を有する膜として形成し、４ドメインの配
向膜を形成する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このように、光配向処
理を用いることで、上記ラビング法による各種問題を解
消することができ、ひいては高い歩留まりにて液晶表示
装置の製造を行うことはできる。しかし、図１２に例示
した配向膜形成方法からもわかるように、この光配向処
理にてマルチドメインの配向膜を形成するためには、分
割するドメインの数だけマスキング工程が必要となる。
このため、製造工程が煩雑になり、ひいては製造コスト
も増大するという問題があった。

【００１０】本発明は上記実情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、光配向処理にてマルチドメインを形
成する場合であれ、その形成をより容易とする構造を有
する液晶表示装置及びそのマルチドメイン形成方法を提
供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】以下、上記目的を達成す
るための手段及びその作用効果について記載する。請求
項１に記載の発明は、配向方向の異なる複数のドメイン
が形成された光配向膜を備えるマルチドメイン方式の液
晶表示装置において、前記光配向膜の前記各ドメインに
対応した周囲の一部にブロックが形成されてなることを
その要旨とする。

【００１２】上記構成によれば、上記ブロックをマスク
として用いる光配向処理によって複数のドメインを形成
することができ、その形成をより容易なものとすること
ができるようになる。

【００１３】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、前記ブロックが２つの液晶基板のスペーサ
としてそれら基板の非表示領域上に形成されてなること
をその要旨とする。

【００１４】上記構成によれば、上記ブロックをマスク
として用い、なお且つ上記ブロックをスペーサとして有
効活用することができるようになる。請求項３記載の発
明は、光配向膜に配向方向の異なるドメインを形成する
マルチドメイン形成方法において、前記光配向膜の前記
各ドメインとする周囲の一部にブロックを形成し、該形
成したブロックがマスクとなるように光を斜めに照射し
て、マスクされないドメインに対する光配向処理を行う
ことをその要旨とする。

【００１５】請求項４記載の発明は、請求項３記載の発
明において、前記ブロックとフォトマスクとを併用して
所望のドメインに対する光配向処理を行うことをその要
旨とする。

【００１６】上記各方法によれば、ブロックがマスクと
なるように光を斜めに照射して、マスクされないドメイ
ンに対する光配向処理を行うことで、同処理を容易に行
うことができるようになる。また、こうした光配向処理
を行うために施されるマスキングの回数を軽減させるこ
とができるようにもなる。

【００１７】なお、上記各方法は、請求項１又は２記載
の発明にかかる液晶表示装置の製造に適した方法ではあ
るが、上記ブロックはマスクとして用いた後、これを取
外すなどしてもよい。

【００１８】

【発明の実施の形態】（第１の実施形態）以下、本発明
にかかる液晶表示装置を２ドメインＴＮ液晶表示装置と
して具体化した第１の実施形態について図１〜図４従っ
て説明する。

【００１９】図１は、本実施形態の２ドメインＴＮ液晶
表示装置の断面図である。同図１に示されるように、基
板１上には、液晶駆動用のスイッチング素子としての薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ）２が、更にその上には、絶縁
膜３が形成されている。同絶縁膜３上には各画素毎に電
極４が形成され、この電極４は、ＴＦＴ２と接続されて
いる。更に、この電極４の上方は、各画素毎に２つのド
メインを有し、これら２つのドメインがそれぞれ異なる
配向（ここではプレチルト方向）を有して形成される配
向膜５で覆われている。

【００２０】一方、基板１と対向する基板１０側には、
Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各色版からなるカラー
フィルタ１１、及びトップコート１２が順次堆積形成さ
れている。このトップコート１２の表面には、上記電極
４の対向電極１３が形成されている。そして、この対向
電極１３の表面には、上記配向膜５に対応して各素子毎
に２ドメインを有する配向膜１４が形成されている。な
お、この配向膜１４の配向方向は、配向膜５の有する配
向方向を９０°回転させた配向方向を有する。

【００２１】更に、図１に示されるように、基板１と基
板１０とは、スペーサ２０を介して互いに対向するよう
に配設されている。そして、この基板１と基板１０との
間には、液晶２１が充填されている。

【００２２】上記態様にて配設された基板１と基板１０
との外側には、基板１に対しては第１の偏光板３１が、
基板１０に対しては第２の偏光板３２がそれぞれ配設さ
れている。そして、この第２の偏光板３２の偏光方向
は、第１の偏光板３１の偏光方向を９０°回転させた方
向に設定されている。

【００２３】ここで、この液晶表示装置の表示動作につ
いて説明する。上述した態様にて配向膜５及び配向膜１
４を形成することで、配向膜５近傍の液晶２１は同配向
膜５の配向方向に配列し、配向膜１４へ近づくに連れて
同配向膜１４の配向方向へ徐々に配列するようになる。
このように液晶２１が、配向膜５から配向膜１４へいく
に従い、９０°回転して配列することで、第１の偏光板
３１に入射され、同第１の偏光板３１によって直線偏光
された光は、液晶２１を透過する過程で９０°曲げられ
て、第２の偏光板３２に達し、同第２の偏光板３２を介
して出射されるようになる。

【００２４】ここで、電極４と電極１３との間に電圧を
印加していくと、上記態様にて配列していた液晶２１
が、徐々に基板１から基板１０へ向かう方向へその配列
を変えていく。この液晶２１の配列の変化に伴い、第２
の偏光板３２を透過する光の量は減少していく。

【００２５】このように、本実施形態においては、上記
電圧を印加していないときに第２の偏光板３２を透過す
る光の量が最大となるいわゆるノーマリーホワイトを採
用している。そして、このノーマリーホワイトタイプの
液晶表示装置にあっては、第２の偏光板３２を透過する
光の量が、電圧を印加しない状態で最大となり、電圧を
印加していくに連れて徐々に減少していくために、この
電圧の印加態様を制御することで輝度を調整することが
できるようになる。しかもこの間、液晶２１の配列は各
画素毎にそれぞれ２つの配向方向を有するために、第２
の偏光板３２を透過する光の角度依存性が緩和され、広
視野角の液晶表示装置が実現されるようになる。

【００２６】次に、この広視野角を実現する２ドメイン
の配向膜５及び配向膜１４の形成方法について、図２に
基づいて説明する。なお図２は、本実施形態にかかる光
配向処理によるマルチドメイン形成方法についてその製
造手順を示す図である。

【００２７】まず、図２（ａ）に示されるように、光配
向膜からなる配向膜５は、その各画素領域５ｐが、それ
ぞれ異なるプレチルト方向を有する第１のドメイン５ｐ
ａと第２のドメイン５ｐｂとに分離されている。これら
ドメイン５ｐａ及び５ｐｂは第１の辺Ｌ１にて互いに隣
接する。そして、上記第１の辺Ｌ１に対向する辺である
辺Ｌ２に沿って、これら各画素領域５ｐの周囲の非表示
領域５’に、ブロック状スペーサ２０が形成されてい
る。このブロック状スペーサ２０は、例えば黒色の染料
や顔料を感光性樹脂に分散させた感光性塗料を用いて、
フォトリソグラフィ技術にて形成される。

【００２８】なお、本実施形態において、各画素の第１
のドメイン５ｐａに沿って形成されるブロック状スペー
サ２０は、隣接する画素の第２のドメイン５ｐｂに沿っ
たブロック状スペーサ２０として兼用される構成となっ
ており、それらブロック状スペーサ２０が隣接する２つ
のドメイン５ｐａ、５ｐｂの１つおきの隣接辺Ｌ２に沿
って形成される構成となっている。

【００２９】こうして、ブロック状スペーサ２０を形成
した後は、図２（ｂ）にその側面構造を示すように、ブ
ロック状スペーサ２０をマスクとして、第１のドメイン
５ｐａに光を斜めから照射することにより、同第１のド
メイン５ｐａが所定の配向方向及びプレチルト方向を有
するように光配向処理を施す。

【００３０】また、上記第１のドメイン５ｐａへの光配
向処理の後は、図２（ｂ）とは逆の方向から、すなわち
図２（ｃ）に示す方向から、他方のブロック状スペーサ
２０をマスクとして光を斜め照射することにより、今度
は第２のドメイン５ｐｂが所定の配向方向及び第１のド
メイン５ｐａと異なるプレチルト方向を有するように光
配向処理を施す。

【００３１】そして、上記第２のドメイン５ｐｂへの光
配向処理が終わると、先の図１に示した態様にて、基板
１と基板１０とをブロック状スペーサ２０を介して張り
合わせる。なお、配向膜１４についても、図２に示した
態様にて配向処理を施すことができる。ただしこの場
合、マスクとして用いたブロックについてはこれを、光
配向処理の後に取り除く。

【００３２】液晶表示装置としてのその後の製造手順は
周知の手順を用いることができるため、それら手順につ
いてのここでの詳細な説明は割愛する。ただし、その製
造後において、ＴＦＴ２の動作不良、電極４の形成不良
等に起因して、電圧を印加しているにもかかわらず電極
４と対向電極１３との間に正常に電圧が印加されない常
時光透過画素欠陥、すなわち輝点欠陥が生じることがあ
る。そこで本実施形態では、このような輝点欠陥に対処
するために、その製造工程において以下の処理を施すこ
ととしている。

【００３３】図３は、この輝点欠陥の修正方法を示す工
程図である。ここでは、まず図３（ａ）に示すように、
正常な電極４に感光性の電着皮膜４０を形成する。具体
的には、基板１上に、ＴＦＴ２、絶縁膜３、電極４を形
成した後、ＴＦＴ２の図示しないゲート配線とドレイン
配線とをそれぞれ連結させて各１ラインに引き出す。そ
して、ＴＦＴ２がオン状態となるように、ゲート電圧を
印加するとともに、ドレイン側を一方の極、網状のステ
ンレス電極などを対向極として電着法により電着する
と、正常な画素に対応する電極４には常時電圧が印加さ
れるために、同電極４のみに電着皮膜４０が形成され
る。すなわちこの時、電圧が印加されない欠陥画素に対
応する電極４’にこの電着皮膜４０は形成されない。

【００３４】そこで次に、図３（ｂ）に示すように、ク
ロムからなる遮光膜４１を全面に、スパッタ法にて堆積
し、続いて図３（ｃ）に示すように、電着皮膜４０とそ
の上に形成されている遮光膜４１とをリフトオフ法によ
り現像除去する。これにより、輝点欠陥画素に対応した
電極４’のみに、遮光膜４１を形成することができるよ
うになる。図４は、この輝点欠陥の修正を行った基板１
を上方から見た平面図である。

【００３５】以上説明した本実施形態によれば、以下の
ような効果が得られるようになる。 （１）ブロック状スペーサ２０をマスクとして、光配向
処理を行うことで、マスキング工程を削減して、２ドメ
インの配向膜５を容易に形成することができる。

【００３６】（２）２ドメインの配向膜１４について
も、ブロック状スペーサ２０と同様のブロックをマスク
として用いて、光配向処理を行うことで、やはりそのマ
ルチドメイン形成を容易に行うことができる。更に、こ
のブロックは取り除かれるために、その高さを光配向処
理がし易くなるように調整することもできる。

【００３７】（３）製造工程において生じる電極４の輝
点欠陥を、電着法を用いることにより一括して簡単に修
正することができる。なお、上記実施形態は、以下のよ
うに変更して実施してもよい。

【００３８】・上記実施形態においては、遮光膜４１と
してクロムを用いたが、ニッケルやタンタル等を用いて
もよい。この堆積法もスパッタ法に限らず、蒸着等任意
の手法を用いることができる。更に、この遮光膜４１の
形成に関しては、遮光材料を分散させた樹脂を印刷法や
塗布法等で堆積するなどしてもよい。更に、電着皮膜４
０及びその上に形成された遮光膜４１のリフトオフ法に
よる除去に関しては、電着皮膜４０として感光性材料を
用いた現像又は剥離除去に限られず、例えば、電着皮膜
４０と遮光膜４１との選択比の差異に着目したエッチン
グ等、任意の手法を用いることができる。

【００３９】・上記実施形態においては、輝点欠陥の修
正により画素領域間にも遮光膜４１が形成されたが、図
５に示すように、輝点欠陥にかかる電極４’にのみ遮光
膜４１を形成するようにしてもよい。これに関しては、
フォトリソグラフィ技術などによって画素領域間に保護
パターンを形成した後、上述した工程を実施するなどす
ればよい。

【００４０】・上記実施形態においては、ある画素領域
５ｐ上の第１のドメイン５ｐａと、同画素領域５ｐと隣
接する画素領域５ｐの第２のドメイン５ｐｂとは、ブロ
ック状スペーサ２０を共有することとしたが、別々に設
けてもよい。

【００４１】・上記実施形態においては、光配向処理工
程においてマスクとして用いる部材が、図１に示される
ように、ブロック状スペーサ２０として液晶表示装置に
利用されたが、このマスク部材としてはブロック状の部
材を用いればよく、この際、スペーサは別に設けてもよ
い。また、ブロック状スペーサは、配向膜１４の光配向
処理のためにマスクとして用いてもよい。

【００４２】・本実施形態においては、配向膜１４の配
向処理に関し、ブロック状スペーサ２０の代わりに、同
形状のブロックを形成してマスクとして用いることと
し、配向処理を施した後、このブロックを取り除くこと
としたが、例えば、上記配向膜５とこの配向膜１４とに
配向処理を施す際にマスクとして用いるブロックを併せ
てスペーサとしてもよい。また、配向膜５及び配向膜１
４の一方に対する配向処理は、ラビング法等の他の方法
を用いて行ってもよい。

【００４３】・また、ブロック状スペーサ２０の素材及
びその形成方法も上述のものに限られない。 ・上記実施形態においては、２ドメイン形成方法とし
て、図２に示す態様にて２つの配向方向（正確には２つ
のプレチルト方向）を有する配向膜５を形成したが、例
えば、２つの互いに異なる配向方向を有する配向膜１０
５を図６に示す態様で形成することもできる。すなわち
この場合には、図６（ａ）及び（ｂ）に示されるよう
に、互いに隣接する２つのドメイン１０５ｐａ及び１０
５ｐｂ毎に、それぞれ直交する方向から斜めに光を照射
する際、ブロック状スペーサ１２０、１２０’によっ
て、それぞれ他方のドメインへの光の照射をマスクす
る。

【００４４】（第２の実施形態）以下、本発明にかかる
液晶表示装置を４ドメインＴＮ液晶表示装置として具体
化した第２の実施形態について、主として第１の実施形
態との相違点について図７〜図９に基づいて説明する。

【００４５】ここではまず、図７に示すように、４ドメ
イン配向膜とする配向膜２０５上の各画素領域２０５ｐ
毎に、第１のドメイン２０５ｐａ、第２のドメイン２０
５ｐｂ、第３のドメイン２０５ｐｃ、第４のドメイン２
０５ｐｄをそれぞれ設定し、各ブロック状スペーサを次
のように形成する。

【００４６】（ａ）第１のドメイン２０５ｐａの辺のう
ち、同第１のドメイン２０５ｐａと第４のドメイン２０
５ｐｄとが互いに隣接する辺と対向する辺に沿って第１
のブロック状スペーサ２２０ａを形成する。

【００４７】（ｂ）第２のドメイン２０５ｐｂの辺のう
ち同第２のドメイン２０５ｐｂと第３のドメイン２０５
ｐｃとが互いに隣接する辺と対向する辺に沿って第２の
ブロック状スペーサ２２０ｂを形成する。

【００４８】（ｃ）第３のドメイン２０５ｐｃの辺のう
ち同第３のドメイン２０５ｐｃと第２のドメイン２０５
ｐｂとが互いに隣接する辺と対向する辺に沿って第３の
ブロック状スペーサ２２０ｃを形成する。

【００４９】（ｄ）第４のドメイン２０５ｐｄの辺のう
ち同第４のドメイン２０５ｐｄと第１のドメイン２０５
ｐａとが互いに隣接する辺と対向する辺に沿って第４の
ブロック状スペーサ２２０ｄを形成する。

【００５０】これらブロック状スペーサ２２０ａ〜２２
０ｄは、同時に形成することが望ましい。なお、本実施
形態においては、例えば、各画素の第１のドメイン２０
５ｐａの辺に沿った第１のブロック状スペーサ２２０ａ
が、隣接する画素の第４のドメイン２０５ｐｄに沿った
第４のブロック状スペーサ２２０ｄとして兼用される構
成となっている。したがって、本実施形態にあっては、
所定の方向に隣接する画素の一つとびの辺に沿って、ブ
ロック状スペーサ２２０ａ，２２０ｂ（２２０ｃ、２２
０ｄ）が形成される構成となる。

【００５１】上記各ブロック状スペーサ２２０ａ、２２
０ｂ、２２０ｃ、２２０ｄの形成が完了すると、これら
の上方に図７に示す態様で遮蔽部材２５０を設け、第１
のドメイン２０５ｐａと第３のドメイン２０５ｐｃとの
上方がマスクされた状態とする。そして、第１のドメイ
ン２０５ｐａの配向処理に際しては、図８（ａ）に示さ
れる態様で光を斜めから照射する。このとき、第１のド
メイン２０５ｐａ以外への光照射は、遮蔽部材２５０と
ブロック状スペーサ２２０とによってマスクされる。次
に、第３のドメイン２０５ｐｃの配向処理に際しては、
図８（ｂ）に示される態様で光を斜めから照射する。こ
のとき、第３のドメイン２０５ｐｃ以外の光照射は、遮
蔽部材２５０とブロック状スペーサ２２０とによってマ
スクされる。

【００５２】ここで、この上記配向膜２０５を上面から
みた図９を用いて、更に上記配向処理工程について説明
する。まず、上記遮蔽部材２５０等を用いて，その斜め
への照射成分が図示した方向を有する光を照射すること
で、図９（ａ）に示す同遮蔽部材２５０の領域Ａの下方
に位置する第１のドメイン２０５ｐａに配向処理を施
す。同様にして、その斜めへの照射成分が図示した方向
を有する光を照射することで、図９（ｂ）に示す遮蔽部
材２５０の領域Ｃの下方に位置する第３のドメイン２０
５ｐｃに配向処理を施す。

【００５３】その後、遮蔽部材２５０を取り除くととも
に、新たに図９（ｃ）及び図９（ｄ）に示す態様にて所
定のパターンを有する遮蔽部材２５１を設ける。すなわ
ちこの遮蔽部材２５１によれば、第２のドメイン２０５
ｐｂ及び第４のドメイン２０５ｐｄの上方と、すべての
ドメイン２０５ｐａ、２０５ｐｂ、２０５ｐｃ、２０５
ｐｄの上方とが、それぞれ交互にマスクされた状態とな
る。そして、遮蔽部材２５１を用いて第２のドメイン２
０５ｐｂに、その斜めへの照射成分が図示した方向を有
する光を照射して配向処理を行う。次に、同遮蔽部材２
５１を用いて第４のドメイン２０５ｐｄに、その斜めへ
の照射成分が図示した方向を有する光を照射して配向処
理を行うことで、配向処理を終了する。

【００５４】以上説明した態様、手順をもってマルチド
メイン形成が行われる本実施形態によれば、以下のよう
な効果が得られるようになる。 （１）ブロック状スペーサ２２０ａ、２２０ｂ、２２０
ｃ、２２０ｄと遮蔽部材２５０及び２５１とをマスクと
して、光配向処理を行うことで、マスキング工程を削減
して、４ドメインの配向膜２０５を容易に形成すること
ができる。

【００５５】なお、上記実施形態は、以下のように変更
して実施してもよい。 ・上記実施形態においても、４ドメイン配向膜とする配
向膜２０５のマルチドメイン形成に際し、ブロック状ス
ペーサ２２０ａ〜２２０ｄをマスクとして用いるととも
に、２つの液晶基板のスペーサとして有効活用する例に
ついて示したが、単にマスク部材として同様の形状の部
材を形成し、スペーサは別途設ける構成としてもよい。

【００５６】その他、上記各実施形態に共通して変更可
能な要素としては、以下のようなものがある。 ・上記各実施形態においては、ノーマリーホワイト型の
液晶表示装置に本発明を適用した場合について示した
が、ノーマリーブラック型の液晶表示装置についても本
発明は同様に適用することができる。ただしこの場合、
輝点欠陥の修正に関しては、以下に示すように行うのが
望ましい。

【００５７】図１０は、ノーマリーブラック型の液晶表
示装置の製造工程において、輝点欠陥の修正処理を施し
たときの断面図である。すなわち、基板３０１上に、Ｔ
ＦＴ３０２、絶縁膜３０３、電極３０４を形成した後、
例えばＴＦＴ３０２の図示しないドレイン配線を連結さ
せて１ラインに引き出し、これを一方の極とする。更
に、網状のステンレス電極などを対向極として、これら
基板３０１及びステンレス電極を溶液中に浸す。この溶
液は、例えば、酸性又は塩基性の物質を使用して水に溶
解又は分散させた電着用イオン性樹脂をベースマトリク
スとし、更に染料、顔料、カーボンブラック、黒鉛、金
属微粉末等のうち少なくとも一種以上を、有機溶剤、レ
ベリング材、粘土調整材剤、消泡剤等の各種助剤と混合
し、分散させたものなどを用いればよい。こうした状態
で上記電極間に電圧を印加すると、ＴＦＴ３０２が短絡
している等の欠陥画素に対応する電極３０４’にのみ、
選択的に電圧が印加されるため、電着皮膜３４１が形成
される。図１１は、この輝点欠陥の修正を施した後の、
基板３０１の平面図である。

【００５８】・上記各実施形態においては、異なる２つ
の配向方向若しくはプレチルト方向を有する配向膜、又
は異なる４つの配向方向を有する配向膜を有する液晶表
示装置及びそのマルチドメイン形成方法に、本発明にか
かる液晶表示装置及びそのマルチドメイン形成方法を適
用したが、これに限られない。これら異なる配向方向又
はプレチルト方向を有するドメイン数は、複数であれば
よく、本願のブロック若しくはブロック状スペーサをマ
スクとして用いることで、マスキング工程数を大幅に削
減することができる。

【００５９】・上記各実施形態は、ＴＮ型液晶表示装
置、及びその製造工程における配向処理に、本発明にか
かる液晶表示装置及びそのマルチドメイン形成方法を適
用したが、これに限られない。特に、本発明のマルチド
メイン形成方法は、任意の配向制御を行うために分割さ
れ且つ異なる配向方向又はプレチルト方向を有する光配
向膜の形成に適用することができる。

【００６０】・また、スイッチング素子としては、ＴＦ
Ｔに限られず、ダイオード等任意のアクティブ素子を用
いることができる。更に、液晶表示装置としても、アク
ティブマトリクス駆動方式に限らず、単純マトリクス駆
動方式のものなどであってもよい。

【００６１】最後に、上記各実施形態及びその変形例か
ら把握できる技術思想についてその効果とともに以下に
列記する。 （１）請求項１又は２記載の液晶表示装置において、前
記光配向膜は、一方向に隣接するドメイン同士が互いに
異なる配向を有する２ドメインの配向膜であり、前記ブ
ロックは、前記各隣接する２つのドメインの１つおきの
隣接辺に沿って形成されてなることを特徴とする液晶表
示装置。

【００６２】（２）請求項１又は２記載の液晶表示装置
において、前記光配向膜は、一方向に隣接するドメイン
同士が互いに異なる配向を有する２ドメインの配向膜で
あり、前記ブロックは、前記各隣接する２つのドメイン
毎に、直交する方向からそれぞれ斜めに照射される光の
それぞれ他方のドメインへの照射がマスクされる態様で
それら他方のドメインの一辺に形成されることを特徴と
する液晶表示装置。

【００６３】上記各構成によれば、上記ブロックを用い
ることでマスキング工程を削減することができるため、
その形成をより容易とする構成を有する２ドメインの液
晶表示装置を実現することができるようになる。

【００６４】（３）請求項１又は２記載の液晶表示装置
において、前記光配向膜は、互いに異なる配向を有する
４ドメインの配向膜であり、前記ブロックは、所定の方
向に隣接する画素の一つとびの辺に沿って、前記ブロッ
クが配置されていることを特徴とする液晶表示装置。

【００６５】上記構成によれば、上記ブロックを用いて
マスキング工程数を削減することによって、その形成を
より容易とする構成を有する４ドメインの液晶表示装置
を実現することができるようになる。

【００６６】（４）光配向膜に配向方向の異なる複数の
ドメインを形成するマルチドメイン形成方法において、
前記光配向膜の前記各ドメインとする周囲の一部に２つ
の液晶基板のスペーサとなるブロック状スペーサを形成
し、該形成したブロック状スペーサがマスクとなるよう
に光を斜めに照射して、マスクされないドメインに対す
る光配向処理を行うことを特徴とするマルチドメイン形
成方法。

【００６７】（５）前記ブロック状スペーサとフォトマ
スクとを併用して所望のドメインに対する光配向処理を
行う（４）記載のマルチドメイン形成方法。上記各方法
によれば、ブロック状スペーサがマスクとなるように光
を斜めに照射して、マスクされないドメインに対する光
配向処理を行うことで、同処理を容易に行うことができ
るようになる。また、こうした光配向処理を行うために
施されるマスキングの回数を低減させることができるよ
うにもなる。したがって、請求項２記載の発明にかかる
液晶表示装置を好適に製造することができる。

【００６８】（６）ノーマリーホワイト型アクティブマ
トリクス方式の液晶表示装置の各画素に対応したアクテ
ィブ素子の被制御電極（ドレイン又はソース）を連結さ
れた一方の極と外部に設けた対向極とを基板ごと電着物
質を含む溶液に浸した状態で、それら極間に電圧を印加
することで、画素電極のうち正常に作動するものの表面
に電着皮膜を形成する工程と、前記全ての画素電極上に
処置膜を形成する工程と、前記電着皮膜とその上の処置
膜とを選択的に除去する工程とを有することを特徴とす
る液晶表示装置の輝点欠陥の修正方法。

【００６９】液晶表示装置の製造工程において、画素電
極に何らかの不良が生じたときには、同画素電極上に何
らかの処置を施す必要が生じることがある。この不良画
素の生成に関しては、その不良により常時光が透過する
場合（輝点欠陥）が、常時光が不透過である場合よりも
人間の目に表示欠陥として認識され易い、このため、輝
点欠陥にかかる画素を、遮蔽部材で覆うことが望まし
い。ただし、この処置を各不良画素毎に行ったのでは能
率の低下が避けられないものとなる。

【００７０】この点、上記修正方法によれば、まず、電
着法を用いて、正常な電極上にのみ選択的に電着皮膜を
形成することができるようになる。そしてその後、処置
膜を形成し電着皮膜をリフトオフ除去することで、ノー
マリーホワイト型のアクティブマトリクス方式の液晶表
示装置において、輝点欠陥として現れるアクティブ素子
の作動不良に起因する欠陥画素の画素電極にのみ選択的
に処置膜を残すことができるようになる。なお、この処
置膜として遮蔽材を用いることで、輝点欠陥を好適に回
避することができる。また、この処置膜として導電性の
物質を用いることで、電極の形成不良を解消することも
できる。また、この方法によれば、大型サイズの基板、
多面取りの大型基板、高密度画素数を有する基板などを
一括で処理可能である。

【００７１】（７）ノーマリーブラック型アクティブマ
トリクス方式の液晶表示装置の各画素に対応したアクテ
ィブ素子の被制御電極（ドレインまたはソース）を連結
させた一方の極と外部に設けた対向極とを基板ごと電着
物質を含む溶液に浸した状態で、それら極間に電圧を印
加する液晶表示装置の輝点欠陥の修正方法。

【００７２】（６）記載の事情から、上記修正方法によ
れば、ノーマリーブラック型アクティブマトリクス方式
の液晶表示装置において、輝点欠陥として現れる、アク
ティブ素子の短絡に起因する欠陥画素の画素電極上に選
択的に電着皮膜が形成され、同欠陥画素を遮蔽すること
ができるようになる。また、この方法によれば、大型サ
イズの基板、多面取りの大型基板、高密度画素数を有す
る基板などでもこれを一括で処理することが可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる液晶表示装置を２ドメインのＴ
Ｎ液晶表示装置として具体化した第１の実施形態の断面
構造を示す断面図。

【図２】同実施形態の配向膜に対するマルチドメインの
形成手順を示す斜視図及び側面図。

【図３】ノーマリーホワイト型の液晶表示装置について
その輝点欠陥の修正手順を示す断面図。

【図４】同輝度欠陥修正後の基板を上面から見た平面
図。

【図５】他の修正方法による同輝点欠陥の修正後の基板
を上面から見た平面図。

【図６】同実施形態の変形例についてその配向膜に対す
るマルチドメインの形成手順を示す斜視図。

【図７】本発明にかかる液晶表示装置の第２の実施形態
についてその配向膜に対するマルチドメインの形成手順
を示す斜視図。

【図８】同実施形態のマルチドメイン形成手順を示す断
面図。

【図９】同実施形態のマルチドメイン形成手順を示す平
面図。

【図１０】ノーマリーブラック型の液晶表示装置につい
てその輝点欠陥の修正態様を示す断面図。

【図１１】輝点欠陥の修正後の基板を上面から見た平面
図。

【図１２】従来の４ドメイン光配向膜のマルチドメイン
形成手順を示す斜視略図。

【符号の説明】

１、３０１…基板、２、３０２…薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ）、３、３０３…絶縁膜、４、３０４…電極、５、
１０５、２０５…配向膜、１０…基板、１１…カラーフ
ィルタ、１２…トップコート、１３…対向電極、１４…
配向膜、２０、１２０、１２０’、２２０ａ〜２２０ｄ
…ブロック状スペーサ、２１…液晶、３１…第１の偏光
板、３２…第２の偏光板、４０…電着皮膜、４１…遮蔽
膜、３４１…電着皮膜、２５０、２５１…遮蔽部材。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】配向方向の異なる複数のドメインが形成さ
   れた光配向膜を備えるマルチドメイン方式の液晶表示装
   置において、 前記光配向膜の前記各ドメインに対応した周囲の一部に
   ブロックが形成されてなることを特徴とする液晶表示装
   置。
2. 【請求項２】前記ブロックが２つの液晶基板のスペーサ
   としてそれら基板の非表示領域上に形成されてなる請求
   項１記載の液晶表示装置。
3. 【請求項３】光配向膜に配向方向の異なる複数のドメイ
   ンを形成するマルチドメイン形成方法において、 前記光配向膜の前記各ドメインとする周囲の一部にブロ
   ックを形成し、該形成したブロックがマスクとなるよう
   に光を斜めに照射して、マスクされないドメインに対す
   る光配向処理を行うことを特徴とするマルチドメイン形
   成方法。
4. 【請求項４】前記ブロックとフォトマスクとを併用して
   所望のドメインに対する光配向処理を行う請求項３記載
   のマルチドメイン形成方法。