JP5404820B2 - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光配向膜を備える液晶表示パネルの製造方法に関する。

液晶表示パネルに利用される配向膜としては、非特許文献１等に示される光配向膜が知られている。この種の光配向膜は、紫外線等の光が特定の方向から照射されると、その光の照射方向に応じて、配向規制力を発現する。そして、光配向膜はその配向規制力を利用して、液晶分子の傾斜方向（プレチルト方向）を制御する。

このように、光配向膜は、光を照射するだけで配向規制力を発現させることができるため、従来の配向膜のように、表面を布等で擦る（ラビング処理する）必要がない。その為、光配向膜には、静電気の発生、異物の付着等の従来の配向膜における問題は生じず、近年、好ましく用いられている。

このような光配向膜を利用した液晶表示パネルとしては、例えば、特許文献１に示されるものがある。この特許文献１には、液晶層を挟んで互いに向かい合う一対の透明基板（ＴＦＴ基板及びＣＦ基板）を備える液晶表示パネルが記載されている。この液晶表示パネルは、各透明基板の内側面上に、それぞれ光配向膜が形成されている。これらの光配向膜には、互いに配向規制力の向きが異なるような配向処理がそれぞれ施されている。各配向処理は、液晶表示パネルを組み立てる前に行われている。つまり、一対の透明基板が、液晶層を挟んで互いに向かい合うように貼り合わせられる前に、各透明基板上の光配向膜に対して、別々に光が照射されている。

また、特許文献２には、光配向膜を備えた他の液晶表示パネルが示されている。この特許文献２の図８等には、液晶層を挟んで互いに向かい合う一対の透明基板の各内側面上に、それぞれ光配向膜が形成された液晶表示パネルが記載されている。この液晶表示パネルの一方の透明基板（ＴＦＴ基板）に形成された光配向膜は、一対の透明基板を貼り合わせた後に、配向処理が行われている。具体的には、その光配向膜が形成されている一方の透明基板（ＴＦＴ基板）の外側面から、その透明基板（ＴＦＴ基板）の内側面に向けて光を照射することにより配向処理が行われている。なお、他方の透明基板（ＣＦ基板）に形成されている光配向膜は、液晶表示パネルを組み立てる前に、予め光が照射されて配向処理が行われている。

特開２００８−１４５７００号公報 特開２００９−２８２３６６号公報

市村國宏著「液晶の光配向」米田出版、２００７年３月７日

特許文献１及び２に示されるように、従来の液晶表示パネルの製造方法では、各透明基板の光配向膜に対して、それぞれ別々に光を照射して配向処理する必要があった。その為、各光の照射角度、照射量等が、光配向膜毎でばらつき、各光配向膜が発現する配向規制力の向き、大きさ等がばらつくことがあった。このような光配向膜を備えた各透明基板を、液晶層を挟んで貼り合わせると、液晶層中の液晶分子のプレチルト角（プレチルト方向）が、目的の角度からずれてしまう。このようにプレチルト角がずれると、液晶表示パネルの表示特性が悪化してしまい、問題となっていた。

また、従来の液晶表示パネルの製造方法は、上記のように、各光配向膜に対して別々に配向処理を行う必要があるため、生産効率が悪く、問題となっていた。

本発明が解決しようとする課題は、液晶分子を含む液晶層を挟んで互いに向かい合う一対の透明基板の対向面側にそれぞれ液晶分子を配向させるため光配向膜を形成するに際し、その光配向膜によって制御される液晶分子のプレチルト方向のずれが防止された液晶表示パネルを生産効率良く製造する方法等を提供することである。

本発明に係る液晶表示パネルの製造方法等は、以下の通りである。
＜１＞ 液晶分子を含む液晶層を挟んで互いに向かい合い、各内側面上に、光照射によって配向処理された前記液晶分子を配向させるための光配向膜がそれぞれ形成された一対の透明基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、前記配向処理が施されていない光配向膜がそれぞれ形成された前記一対の透明基板が、前記液晶層を挟んで互いに向かい合うように貼り合わせられる貼合工程と、貼り合わせられた前記一対の透明基板の何れか一方の外側面から他方の外側面へ向けて光が照射される配向処理工程と、を有することを特徴とする。

＜２＞ 前記＜１＞に記載の製造方法において、前記配向処理工程において、前記一方の透明基板の外側面に対して前記光が照射される角度が、３０°〜６０°であることを要旨とする。

＜３＞ 前記＜１＞又は＜２＞に記載の製造方法において、前記配向処理工程において、複数の方向から光が照射されて前記光配向膜が配向分割されるように、前記一対の透明基板の何れか一方の外側面から他方の外側面へ向けて、前記一方の外側面の上方に配置される光照射方向毎に対応した露光マスクを介して、複数の方向から光が照射されることを要旨とする。

＜４＞ 前記＜１＞〜＜３＞の何れか１つに記載の製造方法において、前記一対の透明基板のうち、一方の透明基板が、マトリックス状に配列した複数個の薄膜トランジスタを含む薄膜トランジスタ基板であり、他方の透明基板が、マトリックス状に配列した複数個のカラーフィルタを含むカラーフィルタ基板であり、前記配向処理工程において、前記薄膜トランジスタ基板の外側面から前記カラーフィルタ基板の外側面へ向けて光が照射されることを要旨とする。

＜５＞ 前記＜１＞〜＜４＞の何れか１つに記載の製造方法において、照射された前記光の方位に対して、偏光軸が略４５°傾くように前記一対の透明基板の各外側面にそれぞれ偏光板が貼り付けられる貼付工程を有することを要旨とする。

＜６＞ 液晶分子を含む液晶層を挟んで互いに向かい合い、各内側面上に、光照射によって配向処理された前記液晶分子を配向させるための光配向膜がそれぞれ形成された一対の透明基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、前記配向処理が施されていない光配向膜がそれぞれ形成された前記一対の透明基板が、前記液晶層を挟んで互いに向かい合うように貼り合わせられる貼合工程と、貼り合わせられた前記一対の透明基板の一方の外側面から他方の外側面へ向けて、かつ前記他方の外側面から前記一方の外側面へ向けて互いに逆平行の光が照射される配向処理工程と、を有することを特徴とする。

＜７＞ 前記＜６＞に記載の製造方法において、前記配向処理工程において、互いに逆平行の光が前記一対の透明基板の各外側面に対してそれぞれ照射される角度が、共に３０°〜６０°であることを要旨とする。

＜８＞ 前記＜６＞又は＜７＞に記載の製造方法において、前記配向処理工程においては、複数の方向から光が照射されて前記光配向膜が配向分割されるように、前記一対の透明基板の一方の外側面から他方の外側面へ向けて、かつ前記他方の外側面から前記一方の外側面へ向けて、前記一方の外側面の上方に及び前記他方の外側面の上方にそれぞれ配置される光照射方向毎に対応した露光マスクを介して、互いに逆平行の光が、複数の方向から照射されることを要旨とする。

＜９＞ 前記＜６＞〜＜８＞の何れか１つに記載の製造方法において、照射された前記光の方位に対して、偏光軸が略４５°傾くように前記一対の透明基板の各外側面にそれぞれ偏光板が貼り付けられる貼付工程を有することを要旨とする。

＜１０＞ 前記＜１＞〜＜９＞の何れか１つに記載の製造方法において、前記液晶表示パネルが、ＥＣＢモードであることを要旨とする。

＜１１＞ 前記＜１＞〜＜９＞の何れか１つに記載の製造方法において、前記液晶表示パネルが、ＯＣＢモードであることを要旨とする。

本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、生産効率がよく、かつ光配向膜によって制御される液晶分子のプレチルト方向のずれを防止できる。

配向処理が施される前の液晶表示パネルの概略構成を模式的に表した説明図である。 光照射によって所望の配向規制力を発現させた光配向膜を模式的に表した説明図である。 液晶表示パネルに形成された光配向膜の配向処理工程を模式的に表した説明図である。 配向処理後の液晶表示パネルの概略構成を模式的に表した説明図である。 一対の偏光板が両外側面上に貼り付けられた液晶表示パネルの概略構成を模式的に表した説明図である。 透明基板上に貼り付けられる偏光板の偏光軸の向きを模式的に表した説明図である。 他の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法を模式的に表した説明図である。 他の実施形態に係る液晶表示パネルの概略構成を模式的に表した説明図である。 光照射によって所望の配向規制力を発現させた他の光配向膜を模式的に表した説明図である。 光配向膜が配向分割された液晶表示パネルの製造方法を模式的に表した説明図である。 光配向膜が配向分割された液晶表示パネルの製造方法を模式的に表した説明図である。 光配向膜が配向分割された液晶表示パネルの他の製造方法を模式的に表した説明図である。 光配向膜が配向分割された液晶表示パネルの他の製造方法を模式的に表した説明図である。

以下、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法について、図面を参照しつつ説明する。

〔第１実施形態〕
図１は、配向処理が施される前の液晶表示パネル１の概略構成を模式的に表した説明図である。図１には、液晶表示パネル１の一部の断面が模式的に示されている。この液晶表示パネル１は、アクティブマトリックス方式で駆動する透過型の液晶表示装置に利用されるものである。図１に示されるように、液晶表示パネル１は、液晶層２と、この液晶層２を挟んで互いに向かい合う一対の透明基板３，４を備える。

液晶層２は、垂直配向型の液晶層に利用されるものと同種のものからなり、誘電異方性が負のネマチック液晶材料（液晶分子）２１を含む。なお、液晶層２は、ＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶層のように、重合性化合物を含むものではない。つまり、液晶層２中の液晶分子２１は、配向処理において照射される光によって重合しない、非重合性の化合物からなる。図１等において、液晶分子２１は、細長い形状のものとして示されている。

透明基板３は、表裏面が共に平坦なガラス基板３１上に、アクティブ素子としての薄膜トランジスタ（不図示）が、マトリックス状に複数個形成された薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）基板からなる。更に、ＴＦＴ基板３のガラス基板３１上には、互いに平行に配設された複数本のゲートバスライン３２と、各ゲートバスライン３２と交差するように互いに平行に配設された複数本のソースバスライン（不図示）とが形成されている。

ＴＦＴは、ゲートバスライン３２と同じ導電層から形成されたゲート電極（不図示）と、ゲート電極を覆うゲート絶縁膜３３と、ゲート絶縁膜３３上にゲート電極と対向するように形成された半導体層（不図示）と、ソースバスラインと同じ導電層から形成されたソース電極（不図示）及びドレイン電極（不図示）とを有する。これらは、樹脂製の層間絶縁膜３４で覆われている。

画素電極３５は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜からなり、層間絶縁膜３４上に複数個形成されている。各画素電極３５は、コンタクトホール（不図示）において、各ＴＦＴのドレイン電極と接続されている。

画素電極３５の表面を覆うように、光配向膜３６が形成されている。この光配向膜３６は、未だ所望の配向規制力を発現させるための配向処理が施されていない。光配向膜３６の詳細は後述する。

透明基板４は、表裏面が共に平坦なガラス基板４１上に、複数個のカラーフィルタ層４２が形成されたカラーフィルタ（以下、ＣＦ）基板４からなる。ＣＦ基板４のカラーフィルタ層４２は、ＴＦＴ基板３の各画素電極３５に対応するように、ガラス基板４１上にマトリックス状に形成されている。また、ＣＦ基板４のガラス基板４１上には、遮光性のブラックマトリックス４３が形成されている。このブラックマトリックス４３は、ガラス基板４１上で各カラーフィルタ層４３を区切り、囲むような格子状を有する。

カラーフィルタ層４２及びブラックマトリックス４３の表面を覆うように対向電極（共通電極）４５が形成されている。対向電極４５は、ＩＴＯ膜からなり、この対向電極４５と、ＴＦＴ基板３上の各画素電極３５との間に、所定の電圧が印加される。

対向電極４５の表面を覆うように、光配向膜４６が形成されている。この光配向膜４６も、ＴＦＴ基板３の光配向膜３６と同様、未だ所望の配向規制力を発現させるための配向処理が施されていない。

配向処理されていない光配向膜３６，４６によって挟まれた、液晶層２中の各液晶分子２１は、図１に示されるように、各光配向膜３６，４６の表面に対して、垂直に配向するように並んでいる。

ここで、図２を参照しつつ、光配向膜３６，４６について説明する。図２は、光照射によって所望の配向規制力を発現させた光配向膜を模式的に表した説明図である。図２には、光配向膜３６，４６の裏面側から、紫外線の直線偏光５１が照射された様子が示されている。この光配向膜３６，４６は、例えば、シンナメート基、クマリン基等の光二量化反応を生じる官能基で側鎖置換されたポリイミド（非特許文献１、特許文献２参照）等からなり、光５１の照射方向に対して、平行な方向に液晶分子２１を傾斜させる配向規制力を発現する。なお、光配向膜３６，４６の表面側から、前記光５１と逆向きに、光５２が照射されても、光配向膜３６，４６は、同様に、光５２の照射方向に対して平行な方向に液晶分子２１を傾斜させる配向規制力を発現する。

次いで、図１及び図３を参照しつつ、液晶表示パネル１の製造方法を説明する。
＜貼合工程＞
図１に示されるように、配向処理が未だ施されていない光配向膜３６，４６がそれぞれ形成された一対の透明基板３，４が、液晶層２を挟んで互いに向かい合うように貼り合わせられる。透明基板３，４は、図示されないシール剤を利用して互いに向き合うように貼り合わせられる。各透明基板３，４は、各光配向膜３６，４６を配向処理せずに貼り合わせること以外は、基本的に、従来の透明基板の製造方法と同様の内容で製造できる。

貼合工程後、図１に示されるように、透明基板（ＴＦＴ基板）３の内側面上に配向処理が未だ施されていない光配向膜３６が配置され、透明基板（ＣＦ基板）４の内側面上に配向処理が未だ施されていない光配向膜４６が配置される。これらの光配向膜３６，４６は、液晶層２を挟んで互いに向かい合っている。

＜配向処理工程＞
図３は、液晶表示パネル１に形成された光配向膜３６，４６の配向処理工程を模式的に表した説明図である。図３に示されるように、配向処理工程では、ＣＦ基板４と向かい合うように貼り合わせられたＴＦＴ基板３の外側面３７から、ＣＦ基板４の外側面へ向けて、各光配向膜３６，４６を斜めに横切るように、所定の光源（不図示）を利用して、紫外線の直線偏光５１が照射される。なお、この配向処理工程の際、ＴＦＴ基板３の各画素電極３５と、ＣＦ基板４の対向電極４５との間には、電圧は印加されない。

前記光５１は、ＴＦＴ基板３の外側面（ガラス基板３１の外側面）３７に対して、角度θで入射するように照射される。角度θとしては、３０°〜６０°の範囲が好ましい。なお、本実施形態においては、角度θ＝４５°に設定される。前記光５１は、ＴＦＴ基板３の外側面に対して、一様に、全面的に照射される。照射された前記光５１は、ＴＦＴ基板３の内側面上に形成された光配向膜３６と、ＣＦ基板４の内側面上に形成された光配向膜４６とを、斜めに横切る（透過する）。このように前記光５１が液晶表示パネル１に対して照射されると、各光配向膜３６，４６が一度の光照射で同時に配向処理される。そして、それぞれの光配向膜３６，４６に、前記光５１の照射角度θに応じた所望の配向規制力を発現させることができる。このような配向処理を行えば、少なくとも、液晶表示パネル１の各画素の開口部における各光配向膜３６，４６の配向規制力を発現させることができる。なお、ＴＦＴ基板３上にゲートバスライン３２、ＣＦ基板４上にブラックマトリックス４３等がそれぞれ形成されていても、これらによって、液晶表示パネル１の前記開口部における各光配向膜３６，４６の配向処理は、妨げられない。

なお、配向処理に利用される光５１の強度としては、例えば、１０ｍＪ〜１Ｊが好ましく、５０ｍＪ〜１Ｊがより好ましい。

他の実施形態においては、上記実施形態とは反対に、ＣＦ基板４の外側面４７から、ＴＦＴ基板３基板の外側面３７に向けて光を照射し、各光配向膜４６，３６の配向処理を行ってもよい。なお、ＣＦ基板４のカラーフィルタ層４２及びブラックマトリックス４３は、紫外線等の光を吸収し易いため、配向処理は、図３に示されるように、ＴＦＴ基板３の外側面３７から、ＣＦ基板４の外側面４７に向けて光５１を照射することが好ましい。

以上のように、一対の透明基板３，４を貼り合わせた後に、各光配向膜３６，４６の配向処理を行えば、液晶層２中の液晶分子２１のプレチルト方向（プレチルト角）のずれを防止できる。また、配向処理後に光配向膜３６，４６同士の位置合わせを行う必要がなく、各光配向膜３６，４６の配向処理された部分同士の位置が、互いにずれることがない。そして、このように配向処理を行えば、液晶表示パネル１の生産効率も良い。

図４は、配向処理後の液晶表示パネル１の概略構成を模式的に表した説明図である。図４に示されるように、配向処理された光配向膜３６，４６によって挟まれた液晶層２中の各液晶分子２１は、各光配向膜３６，４６の配向規制力によって一様に傾けられ、所定のプレチルト方向を向くように揃えられる。この液晶表示パネル１の液晶層２は、所謂、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードである。本実施形態の製造方法を用いれば、このようなＥＣＢモードの液晶表示パネル１を得ることができる。

図５は、一対の偏光板６１，６２が両外側面３７，４７上に貼り付けられた液晶表示パネル１の概略構成を模式的に表した説明図である。図５に示されるように、ＴＦＴ基板３のガラス基板３１の表面３７上に、一方の偏光板６１が貼り付けられ、ＣＦ基板４のガラス基板４１の表面４７上に、他方の偏光板６２が貼り付けられる（貼付工程）。

図６は、透明基板３上に貼り付けられる偏光板の偏光軸６１１の向きを模式的に表した説明図である。偏光板６１（図５参照）の偏光軸６１１は、透明基板３（ガラス基板３１）の外側面３７に対して角度θで照射された光５１の方位ｘに対して、角度Φとなるように設定される。なお、前記光５１の方位は、透明基板３（液晶表示パネル１）の平面内の方向のみを指し、仰角成分は含まないものとする。本実施形態においては、角度Φ＝４５°に設定される。

図５に示される他方の偏光板６２は、その偏光軸が、前記偏光板６１の偏光軸６１１と互いに直交するように（クロスニコルに）、ＣＦ基板４上に貼り付けられる。なお、偏光板６２の偏光軸も、前記偏光軸６１１と同様、前記光５１の方位ｘに対して、角度Φとなる。つまり、方位ｘに対して、各偏光板６１，６２の偏光軸は、角度Φ（＝４５°）傾くように、設定される。

なお、液晶表示パネル１には、偏光板６１，６２の他に、更に位相差板（不図示）等が形成される。

〔第２実施形態〕
図７は、他の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法を模式的に表した説明図である。図７に示される液晶表示パネル１の構成は、図１及び図３に示される液晶表示パネル１の構成と同様である。本実施形態の液晶表示パネル１の製造方法は、図３等に示される製造方法とは異なり、液晶表示パネル１の両外側面３７，４７から、同時に光５１，５２を照射する。光５１と光５２とは、共に紫外線の直線偏光であり、所定の光源（不図示）を利用して、液晶表示パネル１に向けてそれぞれ照射される。

光５１は、ＴＦＴ基板３のガラス基板３１の外側面３７に対して、角度θで照射され、光５２は、ＣＦ基板４のガラス基板４１の外側面４７に対して、角度θで照射される。光５１と光５２とは、互いに進行方向が逆であり、かつ平行（以下、逆平行）である。角度θは、上記実施形態と同様、３０°〜６０°の範囲が好ましい。本実施形態においては、角度θ＝４５°に設定される。各光５１及び５２は、各外側面３７及び４７に対して、それぞれ一様に、全面的に照射される。

このように、互いに逆平行の光５１及び光５２を利用して、各光配向膜３６，４６を配向処理しても、図４に示されるような、ＥＣＢモードの液晶表示パネル１を得ることができる。

他の実施形態においては、配向処理を行う際、先ず光５１をＴＦＴ基板３の外側面３７に対して照射し、その後、光５２をＣＦ基板４の外側面４７に対して照射しても良いし、反対に、先ず光５２をＣＦ基板４の外側面４７に対して照射し、その後、光５１をＴＦＴ基板３の外側面３７に対して照射しても良い。

〔第３実施形態〕
図８は、他の実施形態に係る液晶表示パネル１Ａの概略構成を模式的に表した説明図である。図８に示される液晶表示パネル１Ａの基本的な構成は、図４に示される液晶表示パネル１と同様である。但し、この液晶表示パネル１ＡのＣＦ基板４の内側面上に形成されている光配向膜４６Ａは、液晶表示パネル１の光配向膜４６とは異なっている。この液晶表示パネル１Ａは、異なった光配向膜４６ＡをＣＦ基板４に形成すること以外は、液晶表示パネル１の製造方法と同様の内容で、製造できる。

ここで、図９を参照しつつ、図８のＣＦ基板４に用いられている光配向膜４６Ａについて説明する。図９は、光照射によって所望の配向規制力を発現させた他の光配向膜４６Ａを模式的に表した説明図である。図９には、光配向膜４６Ａの表面側から、紫外線の直線偏光５１が照射された様子が示されている。この光配向膜４６Ａは、光５１の照射方向に対して、直交する方向に液晶分子２１（２１ｂ）を傾斜させる配向規制力を発現する。このような光配向膜４６Ａは、光反応性の官能基で側鎖置換された公知のポリイミド等からなる（非特許文献１、特許文献２参照）。なお、光配向膜４６Ａの裏面側から、前記光５１と逆向きの（逆平行の）紫外線の直線偏光５３が照射されても、光配向膜４６Ａは、同様に、光５３の照射方向に対して直交する方向に液晶分子２１（２１ｂ）を傾斜させる配向規制力を発現する。

図９に示されるような光配向膜４６Ａが、ＣＦ基板４の内側面上に形成された液晶表示パネル１Ａに対して、図８に示されるように、ＴＦＴ基板３の外側面３７から、ＣＦ基板４の外側面４７へ向けて、光５１が照射されて、各光配向膜３６，４６Ａが配向処理される。光５１は、ＴＦＴ基板３のガラス基板３１の外側面３７に対して角度θ（＝４５°）で照射される。その他の光５１の照射条件は、図３に示される液晶表示パネル１の配向処理におけるものと同様である。

図９に示されるように、各光配向膜３６，４６Ａをそれぞれ配向処理すると、光配向膜３６は、図２に示されるような、光５１の照射方向に対して、平行な方向に液晶分子２１（２１ａ）を傾斜させる配向規制力を発現し、光配向膜４６Ａは、図９に示されるような、光５１の照射方向に対して、直交する方向に液晶分子２１（２１ｂ）を傾斜させる配向規制力を発現する。すると、液晶層２中の各液晶分子２１の傾斜方向（プレチルト方向）は、ＴＦＴ基板３に形成された光配向膜３６の近くと、ＣＦ基板４に形成された光配向膜４６Ａの近くとでは、互いに逆向きになる。液晶層２中の各液晶分子２１は、光配向膜４６Ａと光配向膜３６との間で、全体として、弓状に曲がった配向となる。つまり、本実施形態の配向処理後の液晶表示パネル１Ａの液晶層２は、所謂、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードとなる。

このように、光配向膜３６，４６Ａを適宜、選択すれば、ＯＣＢモードの液晶表示パネル１Ａを得ることができる。

〔第４実施形態〕
図１０及び図１１は、光配向膜３６，４６が配向分割された液晶表示パネル１Ｂの製造方法を模式的に表した説明図である。この液晶表示パネル１Ｂは、配向処理工程において、各光配向膜３６，４６にそれぞれ異なる方向から光５４，５５が照射される。各光配向膜３６，４６には、それぞれ光照射方向に応じた２種類のドメイン（不図示）が形成される。これらのドメインでそれぞれ発現している配向規制力の方向は、互いに異なっており、対称的である。なお、配向処理を施す前の液晶表示パネル１Ｂの構成及び製造工程（貼合工程）は、図１及び図３にされる液晶表示パネル１のものと同様である。

各光配向膜３６，４６に対して配向処理を行う際、先ず、図１０に示されるように、透明基板（ＴＦＴ基板）３の外側面３７を覆うように、その外側面３７の上方（図１０におけるＴＦＴ基板３の下側）に、第１露光マスク７を配置する。この第１露光マスク７は、光配向膜３６，４６に照射される光５４を遮る枠状の遮光部７１と、この枠状の遮光部７１によって囲まれた光５４を透過させる中空状の複数個の透過部７２とを備える。各透過部７２の形状は、各光配向膜３６，４６に形成される一方のドメインの形状に対応している。

次いで、第１露光マスク７を介して、光５４が透明基板（ＴＦＴ基板）３の外側面３７に向けて照射される。なお、光５４は、第１実施形態等で使用した光源（不図示）を利用して照射される。光５４の入射角度θは、５５°に設定されている。照射された光５４のうち、第１露光マスク７の透過部７２を、通過した光５４は、そのまま、透明基板（ＴＦＴ基板）３の外側面３７から、他方の透明基板（ＣＦ基板）４の外側面４７へ向けて、各光配向膜３６，４６を横切るように進む。各光配向膜３６，４６には、光５４の照射方向に応じた配向規制力を発現した一方のドメインがそれぞれ形成される。なお、照射された光５４のうち、第１露光マスクの遮光部７１に当たったものは、この遮光部７１によって遮られる。光５４を所定の強度で所定時間、照射した後、第１露光マスク７は、透明基板（ＴＦＴ基板）３の上方（図１０におけるＴＦＴ基板３の下側）から退去される。

次いで、図１１に示されるように、第２露光マスク８を、透明基板（ＴＦＴ基板）３の外側面３７の上方（図１０におけるＴＦＴ基板３の下側）に配置する。この第２露光マスク８は、他の方向から照射される光５５を遮る枠状の遮光部８１と、この枠状の遮光部８１によって囲まれた光５５を透過させる中空状の複数個の透過部８２とを備える。各透過部８２の形状は、各光配向膜３６，４６に形成される他方のドメインの形状に対応している。

次いで、第２露光マスク８を介して、光５５が透明基板（ＴＦＴ基板）３の外側面３７に向けて照射される。この光５５の照射方向は、光５４の照射方向とは、異なっている。光５５の入射面（外側面３７）における方位と、光５４の方位とは、互いに逆向きになっており、互いに１８０°異なっている。なお、図１１に示される光５５の入射角度θは、５５°に設定されている。光５５は、光５４とは異なる光源（不図示）より照射される。光５５における、入射方向（方位）以外の条件は、光５４のものと同様に設定される。

照射された光５５のうち、第２露光マスク８の透過部８２を、通過した光５５は、そのまま透明基板（ＴＦＴ基板）３の外側面３７から、他方の透明基板（ＣＦ基板）４の外側面４７へ向けて、各光配向膜３６，４６を横切るように進む。各光配向膜３６，４６には、光５５の照射方向に応じた配向規制力を発現した他のドメインがそれぞれ形成される。なお、光５５が、光５４で既に配向処理された各光配向膜３６，４６の領域（ドメイン）を極力、通過しないように、第２露光マスク８の遮光部８１及び透過部８２の形状、大きさ等が設定されている。なお、照射された光５５のうち、第２露光マスク８の遮光部８１に当たったものは、この遮光部８１によって遮られる。光５５を所定強度で所定時間、照射した後、第２露光マスク８は、透明基板（ＴＦＴ基板）３の上方（図１１におけるＴＦＴ基板３の下側）から退去される。

このように、第１露光マスク７及び第２露光マスク８をそれぞれ介して、互いに照射方向が異なる光５４，５５を利用して、各光配向膜３６，４６を配向処理すると、配向分割された光配向膜３６，４６を備える液晶表示パネル１Ｂが得られる。このような製造方法によれば、互いに向かい合う光配向膜３６，４６同士の位置がずれることがなく、各光配向膜３６，４６によって制御される液晶分子のプレチルト方向のずれが抑制され、かつ生産効率もよい。

〔第５実施形態〕
図１２及び図１３は、光配向膜３６，４６が配向分割された液晶表示パネル１Ｂの他の製造方法を模式的に表した説明図である。この製造方法で得られる液晶表示パネル１Ｂの構成は、図１０及び図１１に示される第４実施形態に係る液晶表示パネル１Ｂのものと同様でり、各光配向膜３６，４６に、光照射方向に応じた２種類のドメイン（不図示）が形成されたものからなる。但し、本実施形態の製造方法は、配向処理の際、第４実施形態とは異なり、一対の透明基板３，４の各外側面３７，４７から、互いに逆平行の光が、複数の方向から照射される。

図１２に示されるように、ＴＦＴ基板３の外側面３７を覆うように、その外側面３７の上方（図１２に示されるＴＦＴ基板３の下側）に、ＴＦＴ基板側第１露光マスク７が配置される。この第１露光マスクは、図１０に示されるものと同様である。また、ＣＦ基板４の外側面４７を覆うように、その外側面４７の上方（図１２に示されるＣＦ基板４の上側）に、ＣＦ基板側第１露光マスク１７が配置される。このＣＦ基板側第１露光マスク１７は、ＴＦＴ基板側第１露光マスク７と同様、枠状の遮光部１７１と、中空状の複数個の透過部１７２とを備える。各透過部１７２は、ＴＦＴ基板側第１露光マスク７の透過部７２と同様、各光配向膜３６，４６に形成される一方のドメインの形状に対応している。

次いで、図１２に示されるように、ＴＦＴ基板側第１露光マスク７を介して、光５４がＴＦＴ基板３の外側面３７に向けて照射され、かつＣＦ基板側第１露光マスク１７を介して、光５６がＣＦ基板４の外側面４７に向けて照射される。これらの光５４，５６の照射方向は、互いに逆平行である。各光５４，５６の各外側面３７，４７に対する入射角θは、それぞれ５５°に設定されている。各５４，５６は、それぞれ図示されない光源より照射される。

照射された光５４のうち、ＴＦＴ基板側第１露光マスク７の透過部７２を通過した光５４は、そのまま、ＴＦＴ基板３の外側面３７から、ＣＦ基板４の外側面４７へ向けて、各光配向膜３６，４６を横切るように進む。また、照射された光５６のうち、ＣＦ基板側第１露光マスク１７の透過部１７２を通過した光５６は、そのまま、ＣＦ基板４の外側面４７から、ＴＦＴ基板３の外側面３７へ向けて、各光配向膜４６，３６を横切るように進む。このように各光配向膜３６，４６に、光５４，５６が照射されると、各光配向膜３６，４６には、光５４及び光５６の照射方向に応じた配向規制力を発現したドメインがそれぞれ形成される。

更に、図１３に示されるように、上記第１露光マスク７，１７に替えて、別の露光マスク８，１８を介して、図１２に示される光５４，５６とは別の方向から、各光配向膜３６，４６に互いに逆平行の光５５，５７が照射される。この露光マスク８は、ＴＦＴ基板３の外側面３７を覆うように、その外側面３７の上方（図１３に示されるＴＦＴ基板３の下側）に配置されるＴＦＴ基板側第２露光マスク８からなり、図１１に示される露光マスク８と同様のものからなる。また、露光マスク１８は、ＣＦ基板４の外側面４７を覆うように、その外側面４７の上方（図１３に示されるＣＦ基板４の上方）に配置されるＣＦ基板側第２露光マスク１８からなる。このＣＦ基板側第２露光マスク１８は、ＴＦＴ基板側第２露光マスク８と同様、枠状の遮光部１８１と、中空状の複数個の透過部１８２とを備える。各透過部１８２は、ＴＦＴ基板側第２露光マスク８の透過部８２と同様、各光配向膜３６，４６に形成される他方のドメインの形状に対応している。

図１３に示されるように、ＴＦＴ基板側第２露光マスク８を介して、光５５がＴＦＴ基板３の外側面３７に向けて照射され、かつＣＦ基板側第２露光マスク１８を介して、光５７がＣＦ基板４の外側面４７に向けて照射される。これらの光５５，５７の照射方向は、互いに逆平行である。図１３に示される光５５の入射面（外側面３７）における方位と、図１２に示される光５４の入射面（外側面３７）における方位とは、互いに逆向きになっており、互いに１８０°異なっている。同様に、図１３に示される光５７の入射面（外側面４７）における方位と、図１２に示される光５６の入射面（外側面４７）における方位とは、互いに逆向きになっており、互いに１８０°異なっている。

照射された光５５のうち、ＴＦＴ基板側第２露光マスク８の透過部８２を通過した光５５は、そのまま、ＴＦＴ基板３の外側面３７から、ＣＦ基板４の外側面４７へ向けて、各光配向膜３６，４６を横切るように進む。また、照射された光５７のうち、ＣＦ基板側第２露光マスク１８の透過部１８２を通過した光５７は、そのまま、ＣＦ基板４の外側面４７から、ＴＦＴ基板３の外側面３７へ向けて、各光配向膜４６，３６を横切るように進む。このように各光配向膜３６，４６に、光５５，５７が照射されると、各光配向膜３６，４６には、光５５及び光５７の照射方向に応じた配向規制力を発現したドメインがそれぞれ形成される。

このように一対の透明基板３，４の両側から互いに逆平行の光を、複数の方向から照射して、光配向膜３６，４６を配向分割してもよい。

以上のように、第１〜５実施形態等を例示して、液晶表示パネルの製造方法及びその製造方法によって得られる液晶表示パネルについて説明したが、本発明の内容は、これらの実施形態の内容に限定されるものではない。

例えば、上記実施形態においては、配向処理において紫外線の直線偏光を用いていたが、例えば、選択される光配向膜によっては、非偏光の光（紫外線）を利用して配向処理を行ってもよい。

Claims (11)

1. 液晶分子を含む液晶層を挟んで互いに向かい合い、各内側面上に、光照射によって配向処理された前記液晶分子を配向させるための光配向膜がそれぞれ形成された一対の透明基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、
   前記配向処理が施されていない光配向膜がそれぞれ形成された前記一対の透明基板が、前記液晶層を挟んで互いに向かい合うように貼り合わせられる貼合工程と、
   貼り合わせられた前記一対の透明基板の何れか一方の外側面から他方の外側面へ向けて光が照射される配向処理工程と、を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
2. 前記配向処理工程において、前記一方の透明基板の外側面に対して前記光が照射される角度が、３０°〜６０°である請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
3. 前記配向処理工程において、複数の方向から光が照射されて前記光配向膜が配向分割されるように、前記一対の透明基板の何れか一方の外側面から他方の外側面へ向けて、前記一方の外側面の上方に配置される光照射方向毎に対応した露光マスクを介して、複数の方向から光が照射される請求項１又は２に記載の液晶表示パネルの製造方法。
4. 前記一対の透明基板のうち、一方の透明基板が、マトリックス状に配列した複数個の薄膜トランジスタを含む薄膜トランジスタ基板であり、他方の透明基板が、マトリックス状に配列した複数個のカラーフィルタを含むカラーフィルタ基板であり、
   前記配向処理工程において、前記薄膜トランジスタ基板の外側面から前記カラーフィルタ基板の外側面へ向けて光が照射される請求項１〜３の何れか１項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
5. 照射された前記光の方位に対して、偏光軸が略４５°傾くように前記一対の透明基板の各外側面にそれぞれ偏光板が貼り付けられる貼付工程を有する請求項１〜４の何れか１項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
6. 液晶分子を含む液晶層を挟んで互いに向かい合い、各内側面上に、光照射によって配向処理された前記液晶分子を配向させるための光配向膜がそれぞれ形成された一対の透明基板を備える液晶表示パネルの製造方法であって、
   前記配向処理が施されていない光配向膜がそれぞれ形成された前記一対の透明基板が、前記液晶層を挟んで互いに向かい合うように貼り合わせられる貼合工程と、
   貼り合わせられた前記一対の透明基板の一方の外側面から他方の外側面へ向けて、かつ前記他方の外側面から前記一方の外側面へ向けて互いに逆平行の光が照射される配向処理工程と、を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
7. 前記配向処理工程において、互いに逆平行の光が前記一対の透明基板の各外側面に対してそれぞれ照射される角度が、共に３０°〜６０°である請求項６に記載の液晶表示パネルの製造方法。
8. 前記配向処理工程において、複数の方向から光が照射されて前記光配向膜が配向分割されるように、前記一対の透明基板の一方の外側面から他方の外側面へ向けて、かつ前記他方の外側面から前記一方の外側面へ向けて、前記一方の外側面の上方に及び前記他方の外側面の上方にそれぞれ配置される光照射方向毎に対応した露光マスクを介して、互いに逆平行の光が、複数の方向から照射される請求項６又は７に記載の液晶表示パネルの製造方法。
9. 照射された前記光の方位に対して、偏光軸が略４５°傾くように前記一対の透明基板の各外側面にそれぞれ偏光板が貼り付けられる貼付工程を有する請求項６〜８の何れか１項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
10. 前記液晶表示パネルが、ＥＣＢモードである請求項１〜９の何れか１項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
11. 前記液晶表示パネルが、ＯＣＢモードである請求項１〜９の何れか１項に記載の液晶表示パネルの製造方法。

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