JP2010099589A - 塗膜形成方法及びスピンコータ - Google Patents

Abstract

【課題】周縁に至るまで均一な膜厚を有する塗膜を最終的に得ることができる塗膜形成方法およびスピンコータを提供すること。
【解決手段】本発明の塗膜形成方法は、基材表面に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、基材１１表面１３に塗液を供給する塗液供給ステップと、塗液が供給された基材を回転させて、表面に塗液を分配する塗液分配ステップと、エアノズル９の吹出口から吹き出したエアを塗膜の周縁部に吹き付けて、塗膜の周縁部を除去する周縁部除去ステップとを備えていることを特徴とする。
【選択図】図５

Description

本発明は、塗膜形成方法及びスピンコータに関し、詳細には、均一な厚さの塗膜を形成することができる塗膜形成方法およびスピンコータに関する。

基板等の表面に塗液の均一な膜を形成する塗膜形成方法として、スピンコータを使用した方法（スピンコート法）が知られている。このスピンコート法は、表面に塗液が塗布された基板等を回転可能なステージ上に載置し、このステージを回転させて、遠心力を利用して基板の表面に均一な厚さの塗膜を形成する方法である。

従来からこのスピンコート法は、ディスプレイ材料、機能性フィルム等の映像表示分野、磁気テープ類等の情報記録分野、インクジェット用紙等の紙分野、薄膜電池や電子回路基板等の電気・電信関連分野、ローパスフィルタ等の光学関連分野、撥水・防水・消臭といった機能繊維分野などの多くの分野で、基板等の表面に均一な厚さの塗液を形成する必要ある場合に利用されている。

このようなスピンコート法は、塗膜面の中心部では、膜厚を高い精度で均一にすることができるが、塗膜面の周縁部では、表面張力等の影響で、膜厚が中央部よりも厚くなってしまうという問題あった。

高い精度の膜厚が要求される光学関連分野においては、実際の膜厚を所望の厚さに対して±数μｍ程度に抑える必要があるが、従来のスピンコート法では、周縁部の膜厚が中央部に比べ数十μｍ以上厚くなることがあった。

スピンコート法において、膜厚を一定にする方法として、基板の回転中に、周縁部の塗液の表面にヘラを押し当てて塗膜の表面を攪乱し表面張力を弱める方法が知られている。（特許文献１参照）

特開昭６４−９００６３号公報

しかしながら、特許文献１に記載されているような方法では、回転中に、ヘラで塗液の厚さを均一にしても、回転停止後には、基板の端で塗液が表面張力によって盛り上がるため、再び、周縁部の膜厚が厚くなってしまい、結局は、均一な膜厚の塗膜が得られないという問題があった。

本発明は、上述した問題点を解決するためになされたものであり、周縁に至るまで均一な膜厚を有する塗膜を最終的に得ることができる塗膜形成方法およびスピンコータを提供することを目的とする。

本発明によれば、
基材表面に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
基材表面に塗液を供給する塗液供給ステップと、
塗液が供給された基材を回転させて、前記表面に塗液を分配する塗液分配ステップと、
前記基材の回転を停止させた後、エアノズルの吹出口から吹き出したエアを前記塗膜の周縁部に吹き付けて、前記塗膜の周縁部を除去する周縁部除去ステップとを備えている、
ことを特徴とする塗膜形成方法が提供される。

このように構成された本発明によれば、基材表面の周縁部から塗液が除去されるので、基材の端で塗液が表面張力によって盛り上がることがなくなり、周縁部に至るまで均一な厚さの塗膜が得られる。

本発明の好ましい態様によれば、前記エアノズルの吹出口からのエアの吹き出し方向が、前記エアが前記基材の中央から周縁に向かって流れ、且つ前記基材表面の垂線に対して４５度乃至８０度の角度をなすように設定されている。
このような構成によれば、より確実に塗膜の周縁の盛り上がりをなくすことができる。

本発明の他の好ましい態様によれば、前記周縁部除去ステップにおいて、前記エアが前記塗膜を前記基材の周縁に向かって押し出すように、前記エアノズルと前記基材とが相対移動させられる。

本発明の他の好ましい態様によれば、前記エアノズルの吹出口の吹き出し幅が、前記基材の幅よりも長く設定されている。
本発明の他の好ましい態様によれば、前記エアノズルの吹出口は、前記基材の塗布面からの高さが５ｍｍ乃至２０ｍｍとなるように配置されている。
本発明の他の好ましい態様によれば、前記エアノズルの吹出口での風速が、５０ｍ／ｓ乃至２５０ｍ／ｓである。

本発明の他の好ましい態様によれば、
前記基材の表面が正方形であり、
前記周縁部除去ステップが、
前記エアノズルが前記基材の端から５ｍｍ乃至２０ｍｍ内側の位置にエアを吹き付ける吹き付けステップと、
前記吹き付けステップ後に、前記基材を９０度回転させる回転ステップとを備え、
前記吹き付けステップと回転ステップを繰り返して、前記基材の表面の全ての側縁部の塗液を除去するようになっている。

本発明の他の好ましい態様によれば、
前記基材の表面が円形であり、
前記周縁部除去ステップが、
前記エアノズルが、前記円形の表面の半径よりも半径が５ｍｍ乃至２０ｍｍ小さい同心円に内接する正方形の一辺に沿ってエアを吹き付ける吹き付けステップと、
前記吹き付けステップ後に、前記基材を９０度回転させる回転ステップとを備え、
前記吹き付けステップと回転ステップを繰り返して、前記基材の表面の同心円に内接する正方形より外方側の塗液を除去するようになっている。

本発明の他の態様によれば
基材の表面に塗膜を形成するスピンコータであって、
前記表面に塗液が供給された基材を回転させる回転手段と、
吹出口からエアを吹き出すようになっているエアノズルであって、前記吹出口から吹き出したエアを前記塗膜の周縁部に吹き付け、前記塗膜の周縁部を除去するエアノズルと、を備えている、
ことを特徴とするスピンコータが提供される。

このような本発明によれば、周縁に至るまで均一な膜厚を有する塗膜を最終的に得ることができる塗膜形成方法およびスピンコータが提供される。

以下、本発明のスピンコート法及びスピンコータを光学的ローパスフィルタの製造工程として実施した場合を例に、本発明の実施形態について説明する。なお、本発明は、本実施形態に限定されることなく、基板等の表面に均一な厚さの塗液を形成する必要ある上述の他の用途等にも適用可能である。

本実施形態で製造されるローパスフィルタは、デジタルカメラ等の撮影系においてモアレを抑制するのに使用される光学部品である。このローパスフィルタは、基板上に形成した液体状の光重合性組成物の均一な厚さ塗膜を紫外線等で硬化させることによって製造される。この製造工程では、紫外線等によって塗膜を硬化させる際、塗膜上に所定間隔をおいてフォトマスクが配置するため、塗膜の厚さが誤差±数μｍの範囲で均一であることが求められる。

このローパスフィルタの製造方法における塗膜形成では、液体状の光重合性組成物を基板の表面に供給し、この基板をスピンコータのステージに配置して回転させ、光重合性組成物を基板の表面に分配し、基板表面に塗膜を形成する。尚、光重合性組成物としては、（メタ）アクリロイル基を含む（メタ）アクリルモノマーや、ビニル基、アリル基等の多官能モノマーを含有する光重合組成物が用いられる。
その後、エアノズルの吹出口から吹き出したエアによって、塗膜の周縁部の光重合性組成物を除去し、均一な厚さの塗膜を得る。

次いで、光重合組成物の塗膜上に、例えば１００μｍ程度の間隙をおいて、フォトマスクを配置し、光重合組成物の塗膜に紫外線を照射し、照射部位の光重合性組成物を硬化させる。紫外線としては、平行光かつ光強度分布が略一定なものが好ましい。
次いで、フォトマスクを取り除いた状態で、再度、光重合組成物の塗膜に紫外線を照射し、光重合性組成物を更に硬化させる。
このような処理によって、モアレを抑制することができるローパスフィルタ等として使用される、内部に屈折率が異なる柱状構造体を有する成形体が形成される。

次に、上記ローパスフィルタ製造工程中に行われる塗膜形成について詳細に説明する。図１は、本発明の実施形態のスピンコータの要部を示す斜視図であり、図２は、このスピンコータのステージに光重合組成物を塗布した基材を配置した状態を示す断面図である。

図１に示すように、スピンコータ１は、下部がシャフト３に固定されているステージ５と、吹き出し口７がステージ５の上面に向くように配置されているエアナイフ９を備えている。

ステージ５は、下部のシャフト３が軸周りに回転することによって、その軸を中心に回転するように構成されている。また、周知のスピンコータと同様に、ステージ５は、上面に、光重合組成物が塗布される基材１１等を、真空チャック（図示せず）によって固定に構成されている。この結果、ステージ５に固定された基材は、ステージ５と共に回転可能とされている。
尚、本実施形態にかかる形成方法を、ＤＶＤ等の中心部に孔が開いている基材について使用する場合には、ステージの中心部にセンターピンを設け、このセンターピンを利用して基材をステージに固定する構成としてもよい。

エアナイフ９は、先端部分に形成されたエアの吹出口７から高速エアを吹き出すように構成されている。エアナイフ９の吹出口７は、エアナイフ９の幅方向に延びる直線状の開口によって形成され、吹出口７からは、エアナイフ９の幅方向に延びる直線状のエアが吹き出す。

図２に示すようにエアナイフ９は、エアが基材１１の中央から周縁に向かって流れるように、且つ吹出口７からのエアの吹き出し方向が基材１１の塗布面１３の垂線Ｌ₁に対して４５度乃至８０度の角度αをなすように配置されている。これにより、塗膜を形成する光重合組成物１５にエアが当たったとき、光重合組成物１５が基材１１の中央側に向かって流されるのを防止することができる。このときエアの吹き出し方向と基材１１の塗布面１３の垂線Ｌ₁がなす角度αは、４５度乃至８０度の範囲が好ましく、４５度乃至７０度がより好ましく、６０度乃至７０度がさらに好ましい。

また、エアナイフ９は、その吹出口７が基材１１の塗布面１３からの垂直方向の距離Ｌ₂が、５ｍｍ乃至２０ｍｍとなるように配置されている。これにより、エアナイフ９を傾斜させてもエアナイフ９が光重合組成物１５に接触するのを防止することができ、且つ、上記エアの吹き出し角度において、基材の中央部側へのエアの流れの発生を抑制できる。

エアナイフ９の吹出口７の幅（長さ）は、ステージ５に固定された基材１１の長辺方向の長さよりも長くなるように設定されている。また、エアナイフ９は、吹出口７におけるエアの流速が、５０ｍ／ｓ乃至２５０ｍ／ｓとなるように構成されている。吹出口７と塗布面１３との距離Ｌ₂、吹出口の傾斜角度α、及び吹出口での風速は、光重合組成物１５の粘土や膜厚に応じて適宜、変更可能とされている。

また、エアナイフ９は、吹出口７からのエアが光重合性組成物１５の塗膜の表面に当たる位置と、光重合組成物１５の塗膜の縁（すなわち基材１１の縁）との距離Ｌ₃が、５ｍｍ乃至２０ｍｍとなるように配置されている。
この距離Ｌ₃は、基材１１を回転させて塗布面１３上に形成した光重合組成物１５の塗膜において、塗膜の周縁部に形成される塗膜の盛り上がりの位置Ｐと、に基づいて決定された値であり、光重合組成物１５の塗膜の縁（すなわち基材１１の縁）と盛り上がりの位置Ｐとの距離より大きく設定されている。尚、この距離Ｌ₃は、使用する光重合組成物１５の粘度等の種々の条件に応じて適宜変更可能とされている。

また、エアナイフ９を基材１１の中央から周縁に向けて移動可能に構成してもよい。この場合、エアナイフ９の吹出口７から吹き出したエアを最初に光重合組成物１５に吹き付ける開始位置は、上述のような塗膜の縁から５ｍｍ乃至２０ｍｍ内側の位置に設定される。そしてエアナイフ９を、エアの吹き出し行いながら塗布面１３の周縁に向けて移動させ、基材１１の周縁部の光重合組成物１５を周縁部に向けて押し出し、塗膜の周縁部を除去する。

次に、スピンコータ１による塗膜形成の動作について説明する。
図３は基材１１上に光重合組成物１５を供給した時点での塗膜の状態を示す基材の側断面図であり、図４は基材１１の回転を終了した時点で塗膜の周縁部を示す側断面図であり、図５はエアナイフ９によって周縁部の光重合組成物１５を除去した後の塗膜の周縁部を示す側断面図であり、図６は図５の状態の平面図である。

本実施形態の塗膜形成方法は、基材１１の表面（塗布面１３）に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、基材１１の表面に塗液（光重合性組成物１５）を供給する塗液供給ステップと、塗液が供給された基材１１を回転させて、表面に塗液を分配する塗液分配ステップと、エアノズルの吹出口から吹き出したエアを前記塗膜の周縁部に吹き付けて、塗膜の周縁部を除去する周縁部除去ステップとを備えている。

先ず、図３に示すように、ステージ５上に固定されている基材１１の塗布面１３に光重合組成物１５を供給する。次いで、スピンコータ１のステージ５を回転させ、光重合性組成物１５を遠心力によって塗布面１３上に均一に分配し、均一な厚さの塗膜とする。

ステージ５の回転を終了すると、図４に示すように、光重合性組成物１５の塗膜の周縁部に、表面張力等の作用によって、光重合性組成物１５の盛り上がりＢ₁が形成される。

そしてステージ５の回転を停止させた後、エアナイフ９からのエアを塗布面１３上の塗膜の周縁部に吹き付け、塗膜を形成する光重合性組成物１５の周縁部を除去する。この場合、エアナイフ９を動かさずにエアを吹き付けてもよく、また上述のようにエアナイフ９を移動させながらエアを吹き付けてもよい。

エアナイフ９から吹き出されたエアが光重合性組成物１５の塗膜の表面に当たる位置は、塗膜の周縁部に形成される盛り上がりＢ₁より中心側であるので、上記エアの吹き付けで、塗膜の周縁部に形成された塗膜の盛り上がりＢ₁は、周縁部の塗膜とともに除去される。この結果、基材１１上に均一な厚さを有する光重合性組成物１５の塗膜が得られる。

図６に示すように、基材１１の平面形状が正方形である場合には、エア吹き付けステップを行った後、ステージを９０度回転させて、再度、エア吹き付けステップを行うという処理を繰り返し、正方形の基板１１の４つの辺Ｅ₁，Ｅ₂，Ｅ₃，Ｅ₄付近に沿って、塗膜の外周部を除去する。尚、図６の斜線部は、塗膜が（実質的に）除去された部分を示す。

また、図７に示すように、平面形状が円形の基材２１を用いる場合には、基材の半径よりも半径が５ｍｍ乃至２０ｍｍ小さい円Ｃに内接する正方形Ｓを仮定して、この正方形Ｓよりも外周側の塗膜をエアによって除去する。尚、図７に示す斜線部も膜の厚さが薄くなっている部分を示す。

本発明の前記実施形態に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範囲内で種々の変更、変形が可能である。

上記の実施形態では一つのエアナイフを用いたが、２つのエアナイフを用いて塗膜の２箇所を同時に処理する構成でもよい。この場合、２つのエアナイフの吹出口が平行になるように基材上に配置して、それぞれのエアナイフが、塗膜の対向する辺を処理するようにする。このように２つの辺を同時に処理することで、例えば正方形のローパスフィルタを製造する場合には、２つの辺についてエア吹き付けステップを行った後、ステージを９０度回転させて、再び２つの辺について同時にエア吹き付けステップを行うことで一連の処理が終了するので処理時間を短縮することができる。

次に、本発明の実施例について説明する。

（実施例１）
本実施例では、一辺の長さが１００ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのガラス板を基材とし、以下の通りスピンコータを使用して膜を形成した後、エアノズルを使用して膜の周縁部の除去を行った。以下の記載において「部」は質量部を示す。

塗液としては、ウレタンアクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫ オリゴ Ｕ-２ＰＰＡ）２５部、ポリエチレングリコール＃６００ジメタクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫ エステル １４Ｇ）５０部、フェノールエチルアクリレート（第一工業製薬（株）製、商品名：ニューフロンティア ＰＨＥ）１５部、トリメチロールプロパントリメタクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫ エステル ＴＭＰＴ）５部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４）０．６部を混合したものを用いた。そしてこの塗液の２０℃における粘度は２００ｍPa・ｓであった。

次に、スピンコータ（（株）協和理研製、型式：Ｋ−３５９ＳＤ−１）のステージ上に基材を真空吸着によって固定した後、スポイトを用いて塗布面の中央付近に塗液５０ｍｌを垂らした。そしてテーブルを１００ｒｐｍで５秒間、回転させた後、３００ｒｐｍで２０秒間、回転させ、膜厚が１００μｍ±２μｍとなるように制御した。そしてスピンコータを用いて膜を形成した後、エアノズルの吹出口の幅方向と基材の一辺が平行になるように基材の位置を調整した。

エアノズルとしては、幅が２００ｍｍであり、スリットクリアランスが０．１ｍｍのスリット型エアノズルを備えたものを用いた。また、エアノズル取り付け位置は、吹出口が塗布面から１０ｍｍ離れた位置で、塗布面の垂線と、エアノズルのエア吹出方向とのなす角度が５０度となるようにし、さらに、エアノズルの吹出口が膜の一辺から中央側に２０ｍｍ離れた位置の上に位置するようにした。

上記の状態で、エア吹き出し風速が約１５０ｍ／ｓ、エア風量が０．１９ｍ³／ｍｉｎとなるように設定し、エアノズルを膜の中央部側から周縁側に向かって５ｃｍ／ｓで移動させた。一辺の処理が終了した後、エアノズルの移動を停止させると共にエアを止め、エアノズルを最初の位置に戻した。さらに、基材を９０°回転させ、上記と同様の操作を３度繰り返し、膜の外周４辺の処理して膜を整形した。

上記整形の結果、膜の中央部には、膜厚が１００μｍで一辺が約８０ｍｍの正方形が形成された。そして、エアによって形成される中央部と周縁部の間の盛り上がりは、所望の膜厚より３μｍ程度厚い状態であった。

（実施例２）
本実施例では、φ１００ｍｍの円形基材を用いた以外は、実施例１と同様の条件にてスピンコートを行った。

エアノズルとしては、実施例１と同様のものを使用し、その取り付け位置は、吹出口が塗布面から１０ｍｍ離れた位置で、塗布面の垂線と、エアノズルのエア吹出方向とのなす角度が５０度となるようにし、さらに、吹き付け開始位置が、基材の半径よりも２０ｍｍ小さい半径が８０ｍｍの同心円に内接する四角形の一辺からエアを吹き付け始めるように、エアノズルの吹出口を、基材の中心から約１２ｍｍの位置に配した。

一辺の処理が終了した後、エアノズルの移動を停止させると共にエアを止め、エアノズルを最初の位置に戻した。さらに、基材を９０°回転させ、上記と同様の操作を３度繰り返し、膜の外周４辺の処理して膜を整形した。

上記整形の結果、膜の中央部には、膜厚が１００μｍで一辺が約５５ｍｍの正方形が形成された。そして、エアによって形成される中央部と周縁部の間の盛り上がりは、所望の膜厚より３μｍ程度厚い状態であった。

（実施例３）
本実施例では、エアノズル取り付け位置を、吹出口が塗布面から７ｍｍ離れた位置で、塗布面の垂線とエアノズルのエア吹出方向とのなす角度が７０度とする以外は、実施例１と同様の条件でスピンコートを行った。

上記整形の結果、膜の中央部には、膜厚が１００μｍで一辺が約８０ｍｍの正方形が形成された。そして、エアによって形成される中央部と周縁部の間は、所望の膜厚に対して±３μｍ程度の厚さを有していた。

（実施例４）
本実施例では、一辺２５０ｍｍの四角形の基材を使用し、スポイトを用いて基材の中央付近に塗液１５０ｍｌを垂らした。そして、ステージを１００ｒｐｍで５秒回転させた後、３００ｒｐｍで５０秒回転させ、基材中央部の膜厚が１００μｍ±２μｍとなるようにした。さらに、幅３００ｍｍのエアノズル２本を基材の中心に対して対象に配置した。そしてそれぞれのエアノズルからのエアの吹き出し風速が約１００ｍ／ｓ、エア風量を０．２ｍ³／ｍｉｎとした。これ以外の条件は、実施例１と同様である。

上記整形の結果、膜の中央部には、膜厚が１００μｍで一辺が約２８０ｍｍの正方形が形成された。そして本実施例では２つのエアノズルを使用したため、エアの吹き付け後に、テーブルを一度回転させるだけで正方形を形成することができた。そして、エアによって形成される中央部と周縁部の間の盛り上がりは、所望の膜厚より２μｍ程度厚い状態であった。

（実施例５）
本実施例では、使用する塗液を以下の液に変更し、スピンコートを行った。

塗液としては、ポリオキシテトラメチレングリコールジメテクリレート（三菱レイヨン（株）製、商品名：アクリエステルＰＢＯＭ）２５部、２，２ビスプロパン（第一工業製薬（株）製、商品名：ニューフロンティア ＢＰＥＭ−１０）３０部、フェノールエチルアクリレート（第一工業製薬（株）製、商品名：ニューフロンティア ＰＨＥ）１０部、ウレタンアクリレート組成物（第一工業製薬（株）製、商品名：ＧＸ−８６６２Ｖ）３５部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４）１．６部を混合したものを用いた。なお、塗液の２０℃における粘度は１１００ｍPa・ｓであった。

基材は実施例１と同様のものを使用し、スポイトを用いて基材の中央付近に塗液１００ｍｌを垂らした。そしてステージを１００ｒｐｍで５秒回転させた後、３００ｒｐｍで６０秒回転させ、基材内側が所望の膜厚１００μｍ±２μｍになるようにした。

膜を形成した後、実施例１と同様のエアナイフを同様に配し、エア吹き出し風速が約２００ｍ／ｓ、エア風量が０．２５ｍ³／ｍｉｎがなるようにし、エアノズルの移動速度を５ｃｍ／ｓとした。

一辺の処理が終了した後、エアノズルの移動を停止させると共にエアを止め、エアノズルを最初の位置に戻した。さらに、基材を９０°回転させ、上記と同様の操作を３度繰り返し、膜の外周４辺の処理して膜を整形した。

上記整形の結果、膜の中央部には、膜厚が１００μｍで一辺が約８０ｍｍの正方形が形成された。そして、エアによって形成される中央部と周縁部の間の盛り上がりは、所望の膜厚より４μｍ程度厚い状態であった。

このように実施例１乃至実施例５では、基材上に得られる膜の中央部の最も厚い部分が所望の厚み１００μｍよりも３μｍ又は４μｍ厚いだけであり、高い精度で膜厚を調整できた。

（実施例６）
エアノズルの角度を３０度とする以外は、実施例１と同様の条件でスピンコートを行った。

上記整形の結果、膜の中央部には、膜厚が１００μｍの正方形が形成された。そして、エアによって形成されるこの正方形の縁から１０ｍｍ内側の盛り上がりは、２０μｍ乃至３０μｍであった。

（実施例７）
本実施例では、エアノズル取り付け位置を、吹出口が塗布面から３ｍｍ離れた位置とする以外は、実施例１と同様の条件でスピンコートを行った。

上記整形の結果、膜の中央部には、膜厚が１００μｍの正方形が形成された。そして、エアによって形成されるこの正方形の縁から１０ｍｍ内側の盛り上がりは、１０μｍ乃至２０μｍであった。

（実施例８）
エアノズルからのエア吹き出し風速が約３０ｍ／ｓ、エア風量が０．０４ｍ³／ｍｉｎとなるように設定する以外は、実施例１と同様の条件でスピンコートを行った。

上記の塗膜及び外周部除去の結果、基材の内側の塗膜厚みは１００μｍであったが、その塗布面の外周部における５ｍｍの範囲は、上記の所望の厚みより１０μｍ以上２０μｍ以下厚い状態であった。

このように実施例６乃至実施例８では、基材上に得られる塗膜の中央部の最も厚い部分が所望の厚み１００μｍよりも１０μｍ乃至３０μｍ厚くなっている。上記実施例１乃至実施例５と比較すると、厚みが増しているものの、フォトマスクに接触することが無く露光が出来る。

（比較例１）
実施例１と同様の条件で、エアの吹き付けを行わずにスピンコートを行った。

この結果、基材の中央部の膜厚は１００μｍであったが、正方形の縁から５ｍｍ内側の範囲は、所望の厚みより７０μｍ乃至１００μｍ厚かった。

本発明の実施形態にかかるスピンコータの要部を示す斜視図である。 本発明の実施形態にかかるスピンコータのステージに光重合組成物を塗布した状態を示す側断面図である。 本発明の実施形態にかかるスピンコータの基材上に光重合組成物を塗布した状態を示す基材の側断面図である。 本発明の実施形態にかかるスピンコータの基材を回転させた後の基材の周縁部を示す側断面図である。 本発明の実施形態にかかるスピンコータのエアナイフによって光重合組成物を整形した後の基材の周縁部を示す側断面図である。 本発明の実施形態にかかるスピンコータのエアナイフによって光重合組成物を整形した後の基材の上面図である。 本発明の実施形態にかかるスピンコータの円形の基材を用いて正方形のローパスフィルタを製造する場合の基材の上面図である。

符号の説明

１ スピンコータ
７ 吹出口
９ エアナイフ
１１，２１ 基材

Claims (9)

1. 基材表面に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
   基材表面に塗液を供給する塗液供給ステップと、
   塗液が供給された基材を回転させて、前記表面に塗液を分配する塗液分配ステップと、
   前記基材の回転を停止させた後、エアノズルの吹出口から吹き出したエアを前記塗膜の周縁部に吹き付けて、前記塗膜の周縁部を除去する周縁部除去ステップとを備えている、
   ことを特徴とする塗膜形成方法。
2. 前記エアノズルの吹出口からのエアの吹き出し方向が、前記エアが前記基材の中央から周縁に向かって流れ、且つ前記基材表面の垂線に対して４５度乃至８０度の角度をなすように設定されている、
   請求項１に記載の塗膜形成方法。
3. 前記周縁部除去ステップにおいて、前記エアが前記塗膜を前記基材の周縁に向かって押し出すように、前記エアノズルと前記基材とが相対移動させられる、
   請求項１又は請求項２に記載の塗膜形成方法。
4. 前記エアノズルの吹出口の吹き出し幅が、前記基材の幅よりも長く設定されている、
   請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の塗膜形成方法。
5. 前記エアノズルの吹出口は、前記基材の塗布面からの高さが５ｍｍ乃至２０ｍｍとなるように配置されている、
   請求項１乃至４の何れか１項に記載の塗膜形成方法。
6. 前記エアノズルの吹出口での風速が、５０ｍ／ｓ乃至２５０ｍ／ｓである、
   請求項１乃至５の何れか１項に記載の塗膜形成方法。
7. 前記基材の表面が正方形であり、
   前記周縁部除去ステップが、
   前記エアノズルが前記基材の端から５ｍｍ乃至２０ｍｍ内側の位置にエアを吹き付ける吹き付けステップと、
   前記吹き付けステップ後に、前記基材を９０度回転させる回転ステップとを備え、
   前記吹き付けステップと回転ステップを繰り返して、前記基材の表面の全ての側縁部の塗液を除去するようになっている、
   請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載の塗膜形成方法。
8. 前記基材の表面が円形であり、
   前記周縁部除去ステップが、
   前記エアノズルが、前記円形の表面の半径よりも半径が５ｍｍ乃至２０ｍｍ小さい同心円に内接する正方形の一辺に沿ってエアを吹き付ける吹き付けステップと、
   前記吹き付けステップ後に、前記基材を９０度回転させる回転ステップとを備え、
   前記吹き付けステップと回転ステップを繰り返して、前記基材の表面の同心円に内接する正方形より外方側の塗液を除去するようになっている、
   請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載の塗膜形成方法。
9. 基材の表面に塗膜を形成するスピンコータであって、
   前記表面に塗液が供給された基材を回転させる回転手段と、
   吹出口からエアを吹き出すようになっているエアノズルであって、前記吹出口から吹き出したエアを前記塗膜の周縁部に吹き付け、前記塗膜の周縁部を除去するエアノズルと、を備えている、
   ことを特徴とするスピンコータ。

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