TW201945181A - 遮光膜及遮光膜之製造方法 - Google Patents

遮光膜及遮光膜之製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201945181A
TW201945181A TW108114265A TW108114265A TW201945181A TW 201945181 A TW201945181 A TW 201945181A TW 108114265 A TW108114265 A TW 108114265A TW 108114265 A TW108114265 A TW 108114265A TW 201945181 A TW201945181 A TW 201945181A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light
shielding
resin
shielding film
shielding layer
Prior art date
Application number
TW108114265A
Other languages
English (en)
Inventor
西村一晃
Original Assignee
日商大賽璐股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商大賽璐股份有限公司 filed Critical 日商大賽璐股份有限公司
Publication of TW201945181A publication Critical patent/TW201945181A/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/30—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本發明之遮光膜具備一對遮光層；及接著劑層，其以與一對遮光層之各者接觸之方式配置於一對遮光層之間而將一對遮光層接著。遮光層之與接著劑層為相反側之表面藉由形成有凹凸而具有防眩性。

Description

遮光膜及遮光膜之製造方法
本發明係關於一種遮光膜及遮光膜之製造方法。
作為智慧型手機或數位攝錄影機等光學機器之快門、光圈構件、或配置於多個透鏡間之間隙調整構件，例如，如專利文獻1所揭示般使用遮光膜。
遮光膜例如具備基材膜及配置於基材膜之兩面之一對遮光層。遮光層含有黑色顏料、填料粒子、及黏合劑樹脂且於表面形成有微細凹凸。遮光層具有使入射光散射而防止映入之防眩性及遮擋進入至光學機器內之外光之遮光性。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特表2010-534342號公報
[發明所欲解決之問題]
於製造於兩面具備遮光層之遮光膜之情形時，例如需要製造基材膜之步驟、於基材膜之一面形成遮光層之步驟、及於基材膜之另一面形成遮光層之步驟。如此，當步驟數較多時，有遮光膜之製造效率下降之情形。又，例如於將遮光膜配置於多個透鏡間之情形時，若遮光膜之厚度尺寸較大，則有不易實現光學機器之小型化之情形。
因此，本發明之目的在於可效率良好地製造於兩面具備遮光層並且厚度尺寸較小之遮光膜。
[解決問題之技術手段]
為了解決上述問題，本發明之一態樣之遮光膜具備一對遮光層、及接著劑層；該接著劑層以與上述一對遮光層之各者接觸之方式配置於上述一對遮光層之間而將上述一對遮光層接著，上述遮光層之與上述接著劑層為相反側之表面藉由形成有凹凸而具有防眩性。
根據上述構成，例如可藉由在形成利用表面之凹凸而具有防眩性之遮光層後利用接著劑層將一對遮光層接著來效率良好地製造遮光膜。因此，可一面減少步驟數一面迅速地製造遮光膜。又，可藉由利用相對厚度尺寸較小之接著劑層將一對遮光層接著來構成遮光膜，因此，可縮小遮光膜之總厚度尺寸。
上述遮光層之上述表面之入射角85度之光澤度亦可設定為20%以下之值。藉此，可賦予遮光層之表面以優異之低光澤性（抗映入性），而可使入射至遮光層之表面之入射光更好地散射。
上述遮光層亦可含有作為熱塑性樹脂、熱固性樹脂、或光硬化性樹脂中之任一種樹脂之黏合劑樹脂、及黑色微粒子，且將上述黑色微粒子以外之無機微粒子之含量或有機微粒子之含量設定為0重量%以上且10重量%以下之範圍之值。
藉此，可防止由於黑色微粒子以外之無機微粒子或有機微粒子而使遮光層著色為白色等顏色。由此，可防止遮光層之遮光性由於該等微粒子而下降。又，可防止遮光層之耐擦傷性由於含有該等微粒子而下降，因此，例如可防止遮光層之一部分脫落而混入至光學機器內部。又，由於可使用多種樹脂作為黏合劑樹脂，故而可提昇遮光膜之強度設定之設計自由度。
上述黑色微粒子亦可為球狀且一次粒徑設定為10 nm以上且500 nm以下之範圍之值。藉此，可使黑色微粒子均勻分散於遮光層之內部，而可於整個遮光層中獲得均勻之遮光性。
上述黑色微粒子亦可為奈米碳管。藉此，可擴大作為黑色微粒子之材料之選擇範圍。
上述遮光層之上述表面之算術平均粗糙度（Ra）亦可設定為0.03 μm以上且3.0 μm以下之範圍之值。藉此，可賦予遮光層之表面以微細凹凸，而可使該表面處之入射光進而更好地散射。
亦可將上述遮光層之波長380 nm以上且780 nm以下之範圍之值下之光學密度設定為5.0以上之值且將上述遮光層之表面電阻值設定為1×1012 Ω/□以下之值。
如此，藉由將遮光層之光學密度及表面電阻值設定為上述各特定值，可賦予遮光層以較高之遮光性，並且可更適當地調整遮光層之電阻值從而可更好地防止灰塵等雜質由於遮光層帶電而附著於遮光層。
本發明之一態樣中之遮光膜之製造方法包括：形成步驟，其形成一對遮光層；及接著步驟，其以與上述一對遮光層之各者接觸之方式將接著劑層配置於上述一對遮光層之間而將上述一對遮光層接著；且上述形成步驟包括：覆著步驟，其使含有黏合劑樹脂之前驅物及黑色微粒子之未硬化材料覆著於原型之表面；該表面藉由在表面形成有凹凸而具有防眩性；及硬化步驟，其藉由使上述未硬化材料於覆著於上述原型之上述表面的狀態下硬化，而形成表面轉印有上述原型之上述表面之形狀之遮光層。
根據上述方法，於形成步驟中形成利用表面之凹凸而具有防眩性之一對遮光層後，於接著步驟中利用接著劑層將一對遮光層接著，藉此可效率良好地製造遮光膜。
又，於形成步驟中，進行上述覆著步驟及上述硬化步驟，藉此可形成表面轉印有原型之表面之形狀之遮光層。因此，可一面減少步驟數一面迅速地製造準確地轉印有原型之表面之形狀之遮光膜。又，可藉由利用相對厚度尺寸較小之接著劑層將一對遮光層接著來構成遮光膜，因此，可縮小遮光膜之總厚度尺寸。
亦可於上述接著步驟後進而具有將上述遮光層自上述原型剝離之剝離步驟。藉此，可一面利用原型進行保護以免於接著步驟中無用接著劑附著於遮光層之表面，一面以穩定之品質製造遮光膜。
於上述覆著步驟中，亦可將上述未硬化材料塗佈於支持構件之表面，於利用上述支持構件支持上述未硬化材料的狀態下，使上述原型之上述表面覆著於上述未硬化材料，於上述硬化步驟後且上述接著步驟前，將上述遮光層自上述支持構件剝離。
藉此，可一面利用支持構件支持未硬化材料，一面效率良好地進行硬化步驟，而將原型之表面之形狀良好地轉印至遮光層之表面。又，藉由在接著步驟前將遮光層自支持構件剝離，可使將於接著步驟中利用接著劑層進行接著之遮光層之表面預先露出。
[發明之效果]
根據本發明之各態樣，可效率良好地製造於兩面具備遮光層並且厚度尺寸較小之遮光膜。
以下，參照圖式對實施形態等進行說明。
(實施形態）
[遮光膜]
圖1係第1實施形態之遮光膜1之剖視圖。作為一例，遮光膜1於光學機器所具備之多個光學構件（透鏡等）間以包圍光軸之方式配置。如圖1所示，遮光膜1具備一對遮光層3及接著劑層2。
接著劑層2以與一對遮光層3之各者接觸之方式配置於一對遮光層3之間而將一對遮光層3接著。接著劑層2含有黑色微粒子及樹脂。作為一例，接著劑層2所含之黑色微粒子係與下述遮光層3所含之黑色微粒子5相同者。
遮光層3之厚度尺寸可適當設定，此處可設定為1 μm以上且20 μm以下之範圍之值。作為一例，遮光層3之厚度尺寸設定為3 μm以上且10 μm以下之範圍之值。
接著劑層2之厚度尺寸亦可大於遮光層3之總厚度尺寸，但較佳為小於遮光層3之總厚度尺寸。作為一例，接著劑層2之厚度尺寸較理想為10 μm以下之值，進而較理想為5 μm以下之值，進而較理想為3 μm以下之值。作為接著劑層2所含之樹脂，例如可列舉聚酯聚胺酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、聚酯系樹脂、聚胺酯系樹脂。亦可於接著劑層2中添加黑色顏料。
遮光層3含有作為熱塑性樹脂、熱固性樹脂、或光硬化性樹脂中之任一種樹脂之黏合劑樹脂6、及黑色微粒子5。黏合劑樹脂6亦可含有多種樹脂成分。
於遮光層3之內部分散地配置有黑色微粒子5。作為黑色微粒子5，例如可列舉碳黑、燈黑、葡萄黑(vine black)、桃黑 (peach black)、骨炭、奈米碳管、氧化銀、氧化鋅、磁鐵礦型四氧化三鐵、銅與鉻之複合氧化物、銅、鉻、鋅之複合氧化物、黑色玻璃等。遮光層3由於含有黑色微粒子5，故而波長380 nm以上且780 nm以下之範圍之值之光學密度設定為5.0以上之值。藉由將波長380 nm以上且780 nm以下之範圍之值下之遮光層3之光學密度設定為5.0以上之值，而良好地防止遮光層3之遮光性下降。
黑色微粒子5之一次粒徑設定為10 nm以上且500 nm以下之範圍之值。又，遮光層3之表面電阻值設定為1×1012 Ω/□以下之值。藉由將黑色微粒子5之阻力值及遮光層3之表面電阻值分別設定為上述範圍之值，而良好地防止遮光層3帶電。又，藉由將遮光層3之表面電阻值設為1×1013 Ω/□以上，可將遮光膜1較佳地用作絕緣構件。
作為黏合劑樹脂6所含之熱塑性樹脂，例如可列舉聚烯烴、苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚縮醛、聚酯、聚碳酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚碸系樹脂、聚苯醚系樹脂、聚苯硫系樹脂、氟樹脂、纖維素衍生物等。該等熱塑性樹脂可單獨使用或將兩種以上組合使用。其中，就確保強度之觀點而言，較佳為環狀聚烯烴、聚伸烷基芳酸酯（Polyalkylene arylate，聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚萘二甲酸乙二酯（PEN）等）、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、雙酚A型聚碳酸酯、纖維素酯。
作為黏合劑樹脂6所含之熱固性樹脂，例如可列舉酚樹脂、三聚氰胺樹脂、脲樹脂、苯胍樹脂、聚矽氧樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯、乙烯酯樹脂、聚胺酯等。該等熱固性樹脂可單獨使用或將兩種以上組合使用。其中，就確保強度之觀點而言，較佳為環氧樹脂、不飽和聚酯、聚矽氧樹脂、聚胺酯。
作為黏合劑樹脂6所含之光硬化性樹脂，例如可列舉光硬化性聚酯、光硬化性丙烯酸系樹脂、光硬化性環氧(甲基)丙烯酸酯、光硬化性(甲基)丙烯酸胺酯等。該等光硬化性樹脂可單獨使用或將兩種以上組合使用。其中，就確保強度之觀點而言，較佳為光硬化性丙烯酸系樹脂、光硬化性(甲基)丙烯酸胺酯。再者，所謂「光硬化性樹脂」，包含利用活性能量線（紫外線或電子束等）而硬化之樹脂。
遮光層3之與接著劑層2為相反側之表面3a藉由形成有凹凸而具有防眩性。如下所述，形成於遮光層3之表面3a之凹凸係藉由在製造遮光膜1時轉印原型4之表面4a之凹凸而形成。藉此，遮光層3之表面3a抑制外光之反射。
具體而言，遮光層3藉由進行以下之各設定而具有防眩性。遮光層3係表面3a之入射角85度之光澤度設定為20%以下之值。又，遮光層3係表面3a之算術平均粗糙度（Ra）設定為0.03 μm以上且3.0 μm以下之範圍之值。又，遮光層3係表面3a之算術平均粗糙度（Sa）設定為0.5 μm以上且5.0 μm以下之範圍之值。
藉由將遮光層3之表面3a之算術平均粗糙度（Ra）設定為0.1 μm以上之值，可容易賦予遮光層3之表面3a以防眩性。又，藉由將遮光層3之表面3a之算術平均粗糙度（Ra）設定為3.0 μm以下之值，可相對容易地製造遮光層3。
再者，關於一次粒徑，可如下測定：拍攝利用場發射掃描電子顯微鏡（日本電子股份有限公司製造之「JSM-6700F」）放大為10萬倍之粒子表面之照片，將該放大照片視需要進而放大，使用規尺或游標卡尺等測定50個以上之粒子之平均粒徑作為一次粒徑。
又，波長380 nm以上且780 nm以下之範圍之值下之光學密度可如下設定：使用光學密度計（Videojet X-Rite股份有限公司製造之「X-Rite341C」），對試樣照射垂直穿透光束，以log（對數）表示與無試樣之狀態之比作為上述光學密度。
又，可測定光束寬度為直徑2 mm之圓形。又，光澤度係藉由依據JIS K7105之測定方法測得之值。又，算術平均粗糙度（Ra）係中心線平均表面粗糙度，係根據JIS B 0601(1994年版）之定義算出之值。
如上所述，根據遮光膜1，例如於形成利用表面之凹凸而具有防眩性之遮光層3後，利用接著劑層2將一對遮光層3接著，藉此可效率良好地製造遮光膜1。因此，可一面減少步驟數一面迅速地製造遮光膜1。
又，可藉由利用相對厚度尺寸較小之接著劑層2將一對遮光層3接著來構成遮光膜1，因此，可縮小遮光膜1之總厚度尺寸。
又，遮光層3係表面3a之入射角85度之光澤度設定為20%以下之值，因此，可賦予遮光層3之表面3a以優異之低光澤性（抗映入性），而可使入射至遮光層3之表面3a之入射光更好地散射。
又，遮光層3含有作為熱塑性樹脂、熱固性樹脂、或光硬化性樹脂中之任一種樹脂之黏合劑樹脂6、及黑色微粒子5，且黑色微粒子5以外之無機微粒子之含量或有機微粒子之含量設定為0重量%以上且10重量%以下之範圍之值。
藉此，可防止由於黑色微粒子5以外之無機微粒子或有機微粒子而使遮光層3著色為白色等顏色。由此，可防止遮光層3之遮光性由於該等微粒子而下降。又，可防止遮光層3之耐擦傷性由於含有該等微粒子而下降，因此，例如可防止遮光層3之一部分脫落而混入至光學機器內部。又，可使用多種樹脂作為黏合劑樹脂6，因此，可提昇遮光膜1之強度設定之設計自由度。
又，由於遮光層3即便不使用黑色微粒子5以外之無機微粒子或有機微粒子亦可發揮防眩性，故而可實現白色色調更少之黑色之遮光膜1。藉此，例如可抑制來自遮光膜1之無用光入射至光學機器之透鏡之內部。
又，本實施形態之黑色微粒子5為球狀且一次粒徑設定為10 nm以上且500 nm以下之範圍之值，黑色微粒子5之阻力值設定為1 Ω以上且1×106 Ω以下之範圍之值，因此，可使黑色微粒子5均勻分散於遮光層3之內部，而可於整個遮光層3獲得均勻之遮光性。又，於另一例中，黑色微粒子5為奈米碳管，因此，可擴大作為黑色微粒子5之材料之選擇範圍。
又，遮光層3係表面3a處之算術平均粗糙度（Ra）設定為0.03 μm以上且3.0 μm以下之範圍之值，因此，可賦予遮光層3之表面3a以微細凹凸，可使該表面3a處之入射光進而更好地散射。
又，遮光層3之波長380 nm以上且780 nm以下之範圍之值下之光學密度設定為5.0以上之值，遮光層3之表面電阻值設定為1×1012 Ω/□以下之值，因此，藉由將遮光層3之光學密度及表面電阻值設定為上述各特定值，可賦予遮光層3以較高之遮光性，並且可更適當地調整遮光層3之電阻值從而可更好地防止灰塵等雜質由於遮光層3帶電而附著於遮光層3。
[遮光膜之製造方法]
圖2係圖1之遮光膜1之製造流程圖。圖3之（a）係表示製造圖1之遮光膜1時之覆著步驟S2之圖。圖3之（b）係表示製造圖1之遮光膜1時之剝離步驟S5之圖。
遮光膜1之製造方法包括：形成步驟，其形成一對遮光層3；及接著步驟，其以與一對遮光層3之各者接觸之方式將接著劑層2配置於一對遮光層3之間而將一對遮光層3接著。形成步驟包括以下所示之覆著步驟及硬化步驟。
如圖2所示，具體而言，本實施形態中之遮光膜1之製造方法包括製備步驟S1、覆著步驟S2、硬化步驟S3、接著步驟S4、及剝離步驟S5。遮光膜1係藉由依序進行步驟S1～S5而製造。以下，具體地對步驟S1～S5進行說明。
操作員製備成為遮光層3之材料之未硬化材料30。未硬化材料30含有黑色微粒子5、黏合劑樹脂6之前驅物（作為一例為熱固性樹脂之前驅物）、及黏合劑樹脂6之前驅物之聚合起始劑。操作員將該等混合，並且添加溶劑，藉此以具有適於塗敷之流動性之方式製備未硬化材料30。藉此，進行製備步驟S1。
然後，操作員準備藉由形成有凹凸而表面4a具有防眩性之原型4。本實施形態之原型4係具有表面4a之原型膜。於該原型4之表面4a塗佈未硬化材料30（圖3（a））。藉此，進行使未硬化材料30覆著於原型4之表面4a之覆著步驟S2。操作員藉由對所塗佈之未硬化材料30之表面吹送熱風，將未硬化材料30之揮發成分去除一部分。
此處，原型4之表面4a具有微細之凹凸形狀。如下詳述，本實施形態之原型4含有多種樹脂成分且具有微細之凹凸形狀，該微細之凹凸形狀包括因多種樹脂成分之相分離而形成之海島結構。賦予遮光層3之表面3a之防眩性係藉由該原型4之表面4a之形狀而設定。
然後，操作員使未硬化材料30硬化。此處，藉由將未硬化材料30加熱來進行熱硬化。之後，操作員使未硬化材料30於覆著於原型4之表面4a的狀態下硬化，藉此形成於表面3a轉印有原型4之表面4a之形狀之遮光層3。藉此，進行硬化步驟S3。藉由進行硬化步驟S3，可獲得原型4與遮光層3之積層體。
然後，操作員以與一對遮光層3之各者接觸之方式將接著劑層2配置於一對遮光層3之間而將一對遮光層3接著。藉此，進行接著步驟S4。
此處，作為一例，於將遮光層3覆著於原型4的狀態下，以與一對遮光層3之各者接觸之方式，於一對遮光層3之各對向面塗敷作為接著劑層2之材料之接著劑。之後，一面隔著一對原型4於厚度方向按壓一對遮光層3一面將一對遮光層3接著（乾式層壓）。
然後，操作員於接著步驟S4中將遮光層3自原型4剝離（圖3(b））。藉此，進行剝離步驟S5。藉由以上獲得遮光膜1。
如上所述，於形成步驟中形成利用表面3a之凹凸而具有防眩性之一對遮光層3後，於接著步驟S4中利用接著劑層2將一對遮光層3接著，藉此可效率良好地製造遮光膜1。
又，藉由在形成步驟中進行覆著步驟S2及硬化步驟S3，可形成於表面3a轉印有原型4之表面4a之形狀之遮光層3。因此，可一面減少步驟數，一面迅速地製造準確地轉印有原型4之表面4a之形狀之遮光膜1。又，可藉由利用相對厚度尺寸較小之接著劑層2將一對遮光層3接著來構成遮光膜1，因此，可縮小遮光膜1之總厚度尺寸。
又，藉由在接著步驟S4後將遮光層3自原型4剝離之剝離步驟S5，可一面利用原型4進行保護以免於接著步驟S4中無用接著劑附著於遮光層3之表面，一面以穩定之品質製造遮光膜1。
此處，圖4係表示第1實施形態之變化例之遮光膜之製造方法之圖。於該變化例之覆著步驟S2中，將未硬化材料30塗佈於支持構件7之表面，於利用支持構件7支持未硬化材料30的狀態下，使原型4之表面4a覆著於未硬化材料30。而且，於硬化步驟S3後且接著步驟S4前，將遮光層3自支持構件7剝離。
根據此種製造方法，可一面利用支持構件7支持未硬化材料30一面效率良好地進行硬化步驟S3，而將原型4之表面4a之形狀良好地轉印至遮光層3之表面3a。又，藉由在接著步驟S4前將遮光層3自支持構件7剝離，可使將於接著步驟S4中利用接著劑層2進行接著之遮光層3之表面預先露出。
(關於原型）
以下，對原型4進行詳細說明。原型4之表面4a具有防眩性。作為一例，於原型4之表面4a，因多種樹脂成分之相分離而形成有多個海島結構部。海島結構部分支且以密集狀態形成海島結構。原型4由於多個海島結構部及位於相鄰之海島結構部間之凹部而展現出防眩性。原型4之表面4a由於海島結構部形成為大致網狀而為網狀構造，換言之，具有連續或一部分失落之不規則之多個環形構造。
具體而言，於原型4之表面4a，每1 mm2 存在1個以上之具有特定長度尺寸之海島結構部。該海島結構部之長度尺寸於本實施形態中設定為100 μm以上之值。作為該海島結構部之長度尺寸之值，作為一例，更佳為200 μm以上之值，進而較佳為500 μm以上之值。再者，海島結構部亦可存在多個，但於整個表面4a具有海島結構之情形時，亦有該表面4a上之海島結構部之數量為1之情形。
於由海島結構部形成之海島結構中，具有相同程度之徑之網孔以不規則形狀排列。海島結構所具有之網孔之平均徑（於海島結構之網孔為橢圓形狀或長方形狀等各向異性形狀之情形時指長徑與短徑之平均值）例如設定為1 μm以上且70 μm以下之範圍之值。
作為該平均徑之值，作為一例，更佳為2 μm以上且50 μm以下之範圍之值，進而較佳為5 μm以上且30 μm以下之範圍之值。又，於其他例中，作為該平均徑之值，更佳為1 μm以上且40 μm以下之範圍之值，進而較佳為3 μm以上且35 μm以下之範圍之值，進而較佳為10 μm以上且30 μm以下之範圍之值。
俯視表面4a之情形時之海島結構部之形狀為一部分以上具有曲線部分之繩狀。海島結構部之平均寬度於本實施形態中設定為0.1 μm以上且30 μm以下之範圍之值。
作為海島結構部之平均寬度之值，作為一例，更佳為0.1 μm以上且20 μm以下之範圍之值，進而較佳為0.1 μm以上且15 μm以下之範圍之值，進而較佳為0.1 μm以上且10 μm以下（尤其是0.1 μm以上且5 μm以下）之範圍之值。
又，於其他例中，作為海島結構部之平均寬度之值，更佳為1.0 μm以上且20 μm以下之範圍之值，進而較佳為1.0 μm以上且15 μm以下之範圍之值，進而較佳為1.0 μm以上且10 μm以下之範圍之值。再者，若平均寬度過小則有防眩性下降之虞。
海島結構部之平均高度例如設定為0.05 μm以上且10 μm以下之範圍之值。作為海島結構部之平均高度之值，作為一例，更佳為0.07 μm以上且5 μm以下之範圍之值，進而較佳為0.09 μm以上且3 μm以下（尤其是0.1 μm以上且2 μm以下）之範圍之值。
表面4a中之海島結構部之佔有面積例如設定為表面4a之總表面積之10%以上且未達100%之範圍之值。作為表面4a中之海島結構部之佔有面積之值，作為一例，更佳為表面4a之總表面積之30%以上且未達100%之範圍之值，進而較佳為表面4a之總表面積之50%以上且未達100%（尤其是70%以上且未達100%）之範圍之值。再者，若海島結構部間之面積過小則有防眩性容易下降之虞。
此處，表面4a之海島結構部之尺寸、形狀（有無分支等）、及面積可基於利用顯微鏡照片觀察到之二維形狀進行測定及評價。又，上述平均值、平均寬度、及平均高度之各者係將於表面4a中任意10個部位以上之位置測得之測定值進行平均所得之值。
原型4之表面4a藉由形成海島結構而得以防止形成透鏡狀（海島狀）之凸部。於遮光層3之表面3a轉印有此種原型4之表面4a之形狀。
再者，多個海島結構部可相互獨立，亦可相連。原型4之相分離及海島結構係藉由使用特定之原料溶液自液相進行旋節分解（濕式旋節分解）而形成。原型4之表面形狀及製造方法之詳情例如可參照日本第6190581號公報之記載。
此處，原型4所含之多種樹脂成分只要為可相分離者即可，但就獲得形成海島結構部且具有較高之耐擦傷性之原型4之觀點而言，較佳為含有聚合物及硬化性樹脂。
作為原型4所含之聚合物，可例示熱塑性樹脂。作為熱塑性樹脂，可例示苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、有機酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素樹脂、烯烴系樹脂（包含脂環式烯烴系樹脂）、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、熱塑性聚胺酯樹脂、聚碸系樹脂（聚醚碸、聚碸等）、聚苯醚系樹脂（2,6-二甲苯酚之聚合物等）、纖維素衍生物（纖維素酯類、纖維素胺甲酸酯（cellulose carbamate）類、纖維素醚類等）、聚矽氧樹脂（聚二甲基矽氧烷、聚甲基苯基矽氧烷等）、橡膠或彈性體（聚丁二烯、聚異戊二烯等二烯系橡膠、苯乙烯-丁二烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、丙烯酸橡膠、聚胺酯橡膠、聚矽氧橡膠等）等。該等熱塑性樹脂可單獨使用或將兩種以上組合使用。
又，作為聚合物，亦可例示具有與硬化反應相關之官能基、或與硬化性化合物進行反應之官能基者。該聚合物亦可於主鏈或側鏈具有官能基。
作為上述官能基，可例示縮合性基或反應性基（例如，羥基、酸酐基、羧基、胺基或亞胺基、環氧基、縮水甘油基、異氰酸基等）、聚合性基（例如，乙烯基、丙烯基、異丙烯基、丁烯基、烯丙基等C2-6烯基、乙炔基、丙炔基、庚炔基等C2-6炔基、亞乙烯基等C2-6亞烯基、或具有該等聚合性基之基（(甲基)丙烯醯基等）等）等。該等官能基之中，較佳為聚合性基。
又，原型4中亦可含有多種聚合物。該等各聚合物可藉由自液相旋節分解而相分離，亦可互不相溶。多種聚合物所含之第1聚合物與第2聚合物之組合並無特別限制，可使用於加工溫度附近互不相溶者。
例如，於第1聚合物為苯乙烯系樹脂（聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物等）之情形時，作為第2聚合物，可例示纖維素衍生物（例如，醋酸丙酸纖維素酯等纖維素酯類）、(甲基)丙烯酸系樹脂（聚甲基丙烯酸甲酯等）、脂環式烯烴系樹脂（以降莰烯為單體之聚合物等）、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂（聚C2-4伸烷基芳酸酯系共聚酯等）等。
又，例如於第1聚合物為纖維素衍生物（例如，醋酸丙酸纖維素酯等纖維素酯類）之情形時，作為第2聚合物，可例示苯乙烯系樹脂（聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物等）、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂（以降莰烯為單體之聚合物等）、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂（聚C2-4伸烷基芳酸酯系共聚酯等）等。
多種聚合物中亦可含有至少纖維素酯類（例如，二醋酸纖維素酯、三醋酸纖維素酯、醋酸丙酸纖維素酯、醋酸丁酸纖維素酯等纖維素C2-4烷基羧酸酯類）。
此處，原型4之由於相分離產生之海島結構藉由在製造原型4時利用活性能量線（紫外線或電子束等）或熱等使多種樹脂成分所含之硬化性樹脂之前驅物硬化而固定。又，利用此種硬化性樹脂賦予原型4以耐擦傷性。
就獲得原型4之耐擦傷性之觀點而言，多種聚合物所含之至少一種聚合物較佳為於側鏈具有可與硬化性樹脂前驅物反應之官能基之聚合物。作為形成因相分離產生之海島結構之聚合物，除上述互不相溶之兩種聚合物以外，亦可含有熱塑性樹脂或其他聚合物。第1聚合物之重量M1與第2聚合物之重量M2之重量比M1/M2、及聚合物之玻璃轉移溫度可適當設定。
作為硬化性樹脂前驅物，可例示具有利用活性能量線（紫外線或電子束等）或熱等進行反應之官能基且利用該官能基硬化或交聯而形成樹脂(尤其是硬化性樹脂或交聯樹脂）之硬化性化合物。
作為此種化合物，可例示熱固性化合物或熱固性樹脂（具有環氧基、聚合性基、異氰酸基、烷氧基矽烷基 (Alkoxysilyl group)、矽烷醇基等之低分子量化合物（例如，環氧系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、聚胺酯系樹脂、聚矽氧系樹脂等））、利用紫外線或電子束等硬化之光硬化性（游離輻射硬化性）化合物（光硬化性單體、低聚物等紫外線硬化性化合物等）等。
作為較佳之硬化性樹脂前驅物，可例示利用紫外線或電子束等於短時間內硬化之光硬化性化合物。其中，紫外線硬化性化合物尤為實用。為了提昇耐擦傷性等耐性，光硬化性化合物較佳為於分子中具有2個以上（較佳為2～15、進而較佳為4～10左右）之聚合性不飽和鍵。具體而言，光硬化性化合物較佳為環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯、至少具有兩個聚合性不飽和鍵之多官能性單體。
硬化性樹脂前驅物中亦可含有與其種類相應之硬化劑。例如熱固性樹脂前驅物中亦可含有胺類、多元羧酸類等硬化劑，光硬化性樹脂前驅物亦可含有光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可例示慣用之成分、例如苯乙酮類或苯丙酮類、二苯乙二酮類、苯偶姻類、二苯甲酮類、9-氧硫類、醯基氧化膦類 (acylphosphine oxido)等。
又，硬化性樹脂前驅物中亦可含有硬化促進劑。例如光硬化性樹脂前驅物中亦可含有光硬化促進劑、例如三級胺類（二烷基胺基苯甲酸酯等）、膦系光聚合促進劑等。
(變化例1之原型）
圖5係表示變化例1之原型14之放大剖視圖。原型14包括基質樹脂15及分散於基質樹脂15中之多個微粒子16。
微粒子16呈真球狀形成，但並不限定於此，亦可實質上形成為球狀或橢圓體狀。又，微粒子16形成為實心，但亦可形成為中空。於微粒子16形成為中空之情形時，亦可於微粒子之中空部填充空氣或其他氣體。於基質樹脂15中，多個微粒子16可以一次粒子之形式分散，亦可以多個微粒子16凝聚而形成之多個二次粒子之形式分散。
微粒子16之平均粒徑設定為0.1 μm以上且10.0 μm以下之範圍之值。微粒子16之平均粒徑進而較理想為1.0 μm以上且5.0 μm以下之範圍之值，更佳為1.0 μm以上且4.0 μm以下之範圍之值。
又，微粒子16之粒徑之差異越小則越理想，例如較理想為於原型14所含之微粒子之粒徑分布中原型14所含之微粒子之50重量%以上之平均粒徑之差異均落於2.0 μm以內。如此，利用粒徑相對一致且平均粒徑設定為上述範圍之微粒子16，於原型4之表面14a形成均勻且適度之凹凸。
分散於基質樹脂15中之微粒子16可為無機系及有機系中之任一者，較佳為具有良好之透明性者。作為有機系微粒子，可例示塑膠珠粒。作為塑膠珠粒，可例示苯乙烯珠粒（折射率1.59）、三聚氰胺珠粒（折射率1.57）、丙烯酸珠粒（折射率1.49）、丙烯酸-苯乙烯珠粒（折射率1.54）、聚碳酸酯珠粒、聚乙烯珠粒等。
苯乙烯珠粒亦可為交聯苯乙烯珠粒，丙烯酸珠粒亦可為交聯丙烯酸珠粒。塑膠珠粒較理想為於表面具有疏水基者。作為此種塑膠珠粒，可例示苯乙烯珠粒。
作為基質樹脂15，可例示利用活性能量線硬化之光硬化性樹脂、藉由在塗敷時添加之溶劑之乾燥而硬化之溶劑乾燥型樹脂、及熱固性樹脂中之至少任一者。
作為光硬化性樹脂，可例示具有丙烯酸酯系之官能基者、例如相對低分子量之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂 (spiroacetal resin)、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂 (polythiolpolyene resin)、多元醇等多官能化合物之(甲基)丙烯酸酯等低聚物、預聚物、反應性稀釋劑。
作為該等之具體例，可例示(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮等單官能單體以及多官能單體、例如聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
於光硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂之情形時，較佳為使用光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可例示苯乙酮類、二苯甲酮類、米氏苯甲醯基苯甲酸酯( Michler benzoyl benzoate) 、α-戊基肟酯 (α-amyloxime ester)、一硫化四甲基秋蘭姆( tetramethylthiuram monosulfide) 、9-氧硫類。又，亦較佳為於光硬化性樹脂中混合使用光增感劑。作為光增感劑，可例示正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
作為溶劑乾燥型樹脂，可例示公知之熱塑性樹脂。作為該熱塑性樹脂，可例示苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、聚矽氧系樹脂、及橡膠或彈性體等。作為溶劑乾燥型樹脂，較理想為於有機溶劑中可溶且成形性、製膜性、透明性、及耐候性尤為優異之樹脂。作為此種溶劑乾燥型樹脂，可例示苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物（纖維素酯類等）。
(變化例2之原型）
圖6係表示變化例2之原型24之放大剖視圖。原型24具有於表面24a賦形有凹凸形狀之構造。作為一例，原型24由與原型14之基質樹脂15相同之樹脂17構成。
原型4例如藉由如下方法而獲得：於板材之表面塗佈特定之未硬化材料，利用模具使該未硬化材料之表面賦形為凹凸形狀後，使該未硬化材料硬化。模具亦可為滾筒狀模具以外者，例如亦可為板狀模具(壓紋板）。關於模具之材質，作為一例，可例示金屬、塑膠、及木。
可藉由利用噴砂粒子對模具之表面進行噴砂處理，而於模具之表面形成凹凸。作為噴砂粒子之材質，作為一例，可例示金屬、二氧化矽、氧化鋁、及玻璃。噴砂粒子例如可利用氣體或液體之壓力而擊打至模具之表面。
噴砂粒子之平均粒徑可適當設定，作為一例，可設定為10 μm以上且50 μm以下之範圍之值。噴砂粒子之平均粒徑進而較理想為20 μm以上且45 μm以下之範圍之值，更理想為30 μm以上且40 μm以下之範圍之值。如此，利用粒徑相對一致且平均粒徑設定為上述範圍之噴砂粒子，於模具之表面形成均勻且適度之凹凸。由此，藉由使用該模具進行賦形，獲得於表面24a轉印有凹凸形狀之原型24。
(確認試驗）
製作圖1所示之遮光膜1作為實施例1。作為接著劑層2之材料，使用聚胺酯系樹脂接著劑（聚胺酯系接著劑（三井化學股份有限公司製造之「TAKELAC A」）90份、硬化劑（三井化學股份有限公司製造之「TAKENATE A」）5份、及碳黑分散體（含有10重量%之禦國色素股份有限公司製造之「MHI BLACK #273」作為碳黑者）5份之混合物。
藉由將作為熱固性樹脂之聚胺酯系樹脂之前驅物（三洋化成股份有限公司製造之「SANPRENE IB-104」）75部、碳黑分散體（含有10重量%之禦國色素股份有限公司製造之「MHI BLACK #273」作為碳黑者）20部、及硬化劑（三井化學股份有限公司製造之「TAKENATE A」）5部進行混合，而製備遮光層3之未硬化材料30。
又，作為製作實施例1所用之原型4，使用含有多種樹脂成分且具有因多種樹脂成分之相分離而形成之海島結構之原型膜。作為該原型膜，使用膜厚尺寸50 μm、表面之算術平均粗糙度（Ra）1.5、覆著於未硬化材料之表面（遮光層3之表面3a）之表面4a之入射角20度之光澤度設定為0.0%、入射角60度之光澤度設定為3.0%、入射角85度之光澤度設定為20.0%。
又，除使用由以下之組成構成之未硬化材料30以外，均與實施例1相同之遮光膜作為實施例2而製作。即，藉由將作為紫外線硬化性樹脂之聚胺酯丙烯酸系樹脂之前驅物（DIC股份有限公司製造之「UNIDIC V-4025」）72部、活性化合物（三洋化成股份有限公司製造之「SANRAD SLP-003」）5部、黑色微粒子5(碳黑分散體（含有10重量%之禦國色素股份有限公司製造之「MHI BLACK #273」作為碳黑者）20部、聚合起始劑（BASF股份有限公司製造之「Irgacure 184」）3部進行混合，而製備遮光層3之未硬化材料30。
又，除入射角60度及85度之光澤度及表面粗糙度（Ra、Sa、Sq）與實施例1者不同以外，均與實施例1相同之遮光膜1作為實施例3而製作。於製作實施例3時，使用表面形狀與實施例1中所使用者不同之原型4。又，準備具有表1所示之構成及物性之比較例1、2之遮光膜以用於比較。
針對實施例1～3及比較例1、2，分別測定入射角20度、60度、85度時之各光澤度（基於依據JIS K7105之測定方法之光澤度）、光學密度、表面粗糙度（Ra，Sa，Sq）(基於依據JIS B 0601(1994年版）及ISO25178之測定方法之各表面粗糙度）、及表面電阻值（基於依據JIS K7194之測定方法之表面電阻值）。
此處，算術平均粗糙度（Sa）表示相對於表面之平均面之多處之高度差之絕對值之平均。均方根高度（Sq）相當於距平均面之距離之標準偏差之參數。將各測定結果示於表1。表1中之「CB」表示遮光層，「基材」表示基材膜，「黑PET」表示含有黑色顏料之PET。
[表1]
如表1所示，實施例1～3之任一者均獲得好於比較例1、2之結果。確認到實施例1～3之總厚度尺寸顯著小於比較例1、2之總厚度尺寸。可知於本試驗中，可將實施例1～3之總厚度尺寸設定為10 μm以上且12 μm以下之範圍之值。
作為其原因，可列舉如下原因：於比較例1、2中，於一對遮光層之間配置有具有相當之厚度尺寸之基材膜，相對於此，於實施例1～3中，於一對遮光層3之間不存在此種基材膜，而利用厚度尺寸相對較小之接著劑層2將一對遮光層3接著。
又，實施例1～3之入射角85度時之各光澤度之值均顯著低於比較例1、2之入射角85度時之各光澤度之值，為20%以下（於本試驗中為9.5%以下）之值。
又，實施例1～3之遮光層3不含黑色微粒子5以外之無機微粒子或有機微粒子。因此，可知遮光層3在肉眼觀察下抑制可見發白並且著色為良好之黑色。
又，實施例1、2之表面粗糙度（Ra、Sa、Sq）之值均高於比較例1、2之表面粗糙度（Ra、Sa、Sq）之值。又，實施例3之表面粗糙度（Ra、Sa、Sq）之值與比較例1、2之表面粗糙度（Ra、Sa、Sq）之值大致同等。根據該結果，可知藉由使用含有多種樹脂成分且具有因多種樹脂成分之相分離而形成之海島結構之原型膜作為原型4，可以穩定之品質賦予遮光層3之表面3a以優異之防眩性。又，可知實施例1～3具有與比較例1、2同等之光學密度及表面電阻值。
本發明並不限定於實施形態及變化例，可於不脫離本發明主旨之範圍內對其構成及方法進行變更、追加、或刪除。
[產業上之可利用性]
如上所述，本發明具有可效率良好地製造於兩面具備遮光層並且厚度尺寸較小之遮光膜之優異之效果。因此，若將本發明廣泛應用於可發揮該效果之意義之遮光膜及遮光膜之製造方法，則有益。
1‧‧‧遮光膜
2‧‧‧接著劑層
3‧‧‧遮光層
4、14、24‧‧‧原型
5‧‧‧黑色微粒子
6‧‧‧黏合劑樹脂
7‧‧‧支持構件
30‧‧‧未硬化材料
圖1係第1實施形態之遮光膜之剖視圖。
圖2係圖1之遮光膜之製造流程圖。
圖3（a）係表示製造圖1之遮光膜時之覆著步驟之圖。圖3（b）係表示製造圖1之遮光膜時之剝離步驟之圖。
圖4係表示第1實施形態之變化例之遮光膜之製造方法之圖。
圖5係表示變化例1之原型之放大剖視圖。
圖6係表示變化例2之原型之放大剖視圖。

Claims (10)

  1. 一種遮光膜，其具備： 一對遮光層；及 接著劑層，其以與上述一對遮光層之各者接觸之方式配置於上述一對遮光層之間而將上述一對遮光層接著；且 上述遮光層之與上述接著劑層為相反側之表面藉由形成有凹凸而具有防眩性。
  2. 如請求項1所述之遮光膜，其中，上述遮光層之上述表面之入射角85度之光澤度設定為20%以下之值。
  3. 如請求項1或2所述之遮光膜，其中，上述遮光層包含作為熱塑性樹脂、熱固性樹脂、或光硬化性樹脂中之任一種樹脂之黏合劑樹脂、及黑色微粒子，且上述黑色微粒子以外之無機微粒子之含量或有機微粒子之含量設定為0重量%以上且10重量%以下之範圍之值。
  4. 如請求項3所述之遮光膜，其中，上述黑色微粒子為球狀，且一次粒徑設定為10 nm以上且500 nm以下之範圍之值。
  5. 如請求項3所述之遮光膜，其中，上述黑色微粒子係奈米碳管。
  6. 如請求項1或2所述之遮光膜，其中，上述遮光層之上述表面之算術平均粗糙度設定為0.03 μm以上且3.0 μm以下之範圍之值。
  7. 如請求項1或2所述之遮光膜，其中，上述遮光層之波長380 nm以上且780 nm以下之範圍之值之光學密度設定為5.0以上之值，且上述遮光層之表面電阻值設定為1×1012 Ω/□以下之值。
  8. 一種遮光膜之製造方法，其包括： 形成步驟，其形成一對遮光層；及 接著步驟，其以與上述一對遮光層之各者接觸之方式將接著劑層配置於上述一對遮光層之間而將上述一對遮光層接著；且 上述形成步驟包括： 覆著步驟，其使含有黏合劑樹脂之前驅物及黑色微粒子之未硬化材料覆著於原型之表面；該表面藉由在表面形成有凹凸而具有防眩性；及 硬化步驟，其藉由使上述未硬化材料於覆著於上述原型之上述表面的狀態下硬化，而形成表面轉印有上述原型之上述表面之形狀之遮光層。
  9. 如請求項8所述之遮光膜之製造方法，其於上述接著步驟後進而具有將上述遮光層自上述原型剝離之剝離步驟。
  10. 如請求項8或9所述之遮光膜之製造方法，其中，於上述覆著步驟中，將上述未硬化材料塗佈於支持構件之表面，於利用上述支持構件支持上述未硬化材料的狀態下，使上述原型之上述表面覆著於上述未硬化材料，且 於上述硬化步驟後且上述接著步驟前，將上述遮光層自上述支持構件剝離。
TW108114265A 2018-04-25 2019-04-24 遮光膜及遮光膜之製造方法 TW201945181A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018084315A JP6655650B2 (ja) 2018-04-25 2018-04-25 遮光フィルム及び遮光フィルムの製造方法
JPJP2018-084315 2018-04-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201945181A true TW201945181A (zh) 2019-12-01

Family

ID=68295319

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108114265A TW201945181A (zh) 2018-04-25 2019-04-24 遮光膜及遮光膜之製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6655650B2 (zh)
TW (1) TW201945181A (zh)
WO (1) WO2019208135A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112965254A (zh) * 2021-03-31 2021-06-15 歌尔股份有限公司 光波导镜片叠合结构及其制作方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5097381B2 (ja) * 2006-11-02 2012-12-12 ソマール株式会社 遮光フィルム及びその製造方法
JP2008137282A (ja) * 2006-12-01 2008-06-19 Fujifilm Corp 凹凸状シートの製造方法及び光学フィルム
JP2010076243A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Asahi Kasei E-Materials Corp 円筒状印刷原版の製造方法
JP5116623B2 (ja) * 2008-09-29 2013-01-09 旭化成イーマテリアルズ株式会社 円筒状印刷原版成形装置
JP2012088499A (ja) * 2010-10-19 2012-05-10 Kimoto & Co Ltd 光学機器用遮光部材、およびそれを用いた光学機器の製造方法
US9383484B2 (en) * 2011-03-28 2016-07-05 Kimoto Co. Ltd. Light-shielding material for optical instrument
JP6780363B2 (ja) * 2016-08-19 2020-11-04 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 導電性樹脂組成物、成形体およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6655650B2 (ja) 2020-02-26
WO2019208135A1 (ja) 2019-10-31
JP2019191376A (ja) 2019-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108351440B (zh) 光学片、偏振板、光学片的筛选方法和光学片的制造方法、以及显示装置
JP4384506B2 (ja) 防眩性膜
CN102239432B (zh) 包括具有形状重叠的两种防闪光颗粒的防闪光剂的防闪光膜及其制备方法
JP6745410B2 (ja) 防眩フィルム
TWI741177B (zh) 轉印用離型膜及消光狀成形體之製造方法
KR102300811B1 (ko) 방현 필름
JP2012118501A (ja) 光学素子
TWI698470B (zh) 遮光膜及遮光膜之製造方法
JP6730803B2 (ja) 反射防止光学体の形成方法、ディスプレイパネルおよび光学フィルム
CN1707351A (zh) 用于透射屏的表面保护元件
KR20200026997A (ko) 방현 필름
TW201945181A (zh) 遮光膜及遮光膜之製造方法
KR101263967B1 (ko) 광학 적층체
JP2010164824A (ja) 反射防止積層体及びその製造方法
JP2006163263A (ja) 透過型スクリーン
KR20150080208A (ko) 확산 시트 및 이를 적용한 표시 장치
KR101245953B1 (ko) 성형체 및 그 제조 방법
JP2018173546A (ja) 転写用シート及び成形体の製造方法
TWI684897B (zh) 飛散防止薄片
JP4418684B2 (ja) 防眩フィルム
KR20090026860A (ko) 방현필름
JP7323986B2 (ja) 防眩フィルム
KR101779189B1 (ko) 내지문성 필름의 제조 방법
CN110023083A (zh) 带涂覆层的膜的制造方法
JP6924202B2 (ja) 光学パネルおよびその製造方法、機器ならびに転写体およびその製造方法