JP2010074115A - ワーク分離方法及び切削加工装置 - Google Patents
ワーク分離方法及び切削加工装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010074115A JP2010074115A JP2008269965A JP2008269965A JP2010074115A JP 2010074115 A JP2010074115 A JP 2010074115A JP 2008269965 A JP2008269965 A JP 2008269965A JP 2008269965 A JP2008269965 A JP 2008269965A JP 2010074115 A JP2010074115 A JP 2010074115A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective member
- workpiece
- cut
- adhesive layer
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 112
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 15
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 42
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 13
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 9
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
ウェーハと保護部材とを外周部に形成された接着層を介して張り合わせたワークの保護部材側の接着層の内側を切削加工した後に、切削加工された保護部材を確実かつ容易に除去することが可能なワーク分離方法及び切削加工装置を提供すること。
【解決手段】
ワークWの保護部材12側の接着層13の内側を切削加工した後に、切削加工された保護部材12中央上面を分離手段16により吸引吸着して上昇させる。
【選択図】図10
Description
Claims (5)
- 表面に複数のデバイスが形成されたウェーハと前記ウェーハの表面を保護する保護部材とを外周部に形成された接着層を介して張り合わせたワークをワークテーブル上に載置し、前記ワークテーブルとスピンドルにより回転するブレードとを移動軸により相対的に移動させて前記ワークの前記保護部材側の前記接着層の内側を切削加工した後に、
切削加工された前記保護部材中央上面を分離手段により吸引吸着して上昇させることにより、切削加工された前記保護部材中央を前記ワークから分離することを特徴とするワーク分離方法。 - 表面に複数のデバイスが形成されたウェーハと前記ウェーハの表面を保護する保護部材とを外周部に形成された接着層を介して張り合わせたワークをワークテーブル上に載置し、前記ワークテーブルとスピンドルにより回転するブレードとを移動軸により相対的に移動させて前記ワークの前記保護部材側の前記接着層の内側を切削加工した後に、
切削加工された前記保護部材中央上面を分離手段により吸引吸着し、回転させながら上昇させて切削加工された前記保護部材中央を前記ワークから分離することを特徴とするワーク分離方法。 - 表面に複数のデバイスが形成されたウェーハと前記ウェーハの表面を保護する保護部材とを外周部に形成された接着層を介して張り合わせたワークをワークテーブル上に載置し、前記ワークテーブルとスピンドルにより回転するブレードとを移動軸により相対的に移動させて前記ワークの前記保護部材側の前記接着層の内側を切削加工した後に、
切削加工された前記保護部材中央上面を分離手段により吸引吸着し、切削加工された前記保護部材中央の一方の端部を先に上昇させることにより傾斜させ、傾斜した状態で上昇させて切削加工された前記保護部材中央を前記ワークから分離することを特徴とするワーク分離方法。 - 前記ワークの前記保護部材側の前記接着層の内側を切削加工する際には、前記保護部材中央を前記分離手段により保持しながら前記保護部材を切削加工することを特徴とする請求項1、2、または3のいずれか1項に記載のワーク分離方法。
- 円盤状のブレードと、
前記ブレードを回転させるスピンドルと、
表面に複数のデバイスが形成されたウェーハと前記ウェーハの表面を保護する保護部材とを外周部に形成された接着層を介して張り合わせたワークを保持するワークテーブルと、
前記ワークテーブルと前記ブレードとを相対的に移動させる移動軸と、
前記保護部材側の前記接着層の内側であり前記ワークの中央部を吸引吸着する吸着手段を備えた分離手段と、を備えたことを特徴とする切削加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008269965A JP5338250B2 (ja) | 2008-08-21 | 2008-10-20 | ワーク分離方法及び切削加工装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008213218 | 2008-08-21 | ||
JP2008213218 | 2008-08-21 | ||
JP2008269965A JP5338250B2 (ja) | 2008-08-21 | 2008-10-20 | ワーク分離方法及び切削加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010074115A true JP2010074115A (ja) | 2010-04-02 |
JP5338250B2 JP5338250B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=42205592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008269965A Active JP5338250B2 (ja) | 2008-08-21 | 2008-10-20 | ワーク分離方法及び切削加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5338250B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015507373A (ja) * | 2012-02-16 | 2015-03-05 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 製品基板をキャリア基板に一時的に接合する方法 |
JP2015220302A (ja) * | 2014-05-16 | 2015-12-07 | 株式会社ディスコ | サポートプレート、サポートプレートの形成方法及びウェーハの加工方法 |
KR20170053563A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01138596U (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-21 | ||
JP2001351890A (ja) * | 2000-06-08 | 2001-12-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | チップの研削方法 |
JP2004311848A (ja) * | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Nitta Ind Corp | 半導体装置の製造方法、保護用粘着テープおよびダイボンド用接着剤付き支持用粘着テープ |
JP2005136307A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Lintec Corp | 貼合装置 |
JP2005276971A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ダイシングシート機能付き半導体用接着フィルム、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
JP2005343997A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Lintec Corp | 半導体加工用粘着シートおよび半導体チップの製造方法 |
JP2007227553A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハの粘着テープ貼付け方法およびこれを用いた装置 |
JP2008187098A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Disco Abrasive Syst Ltd | 基板の吸着方法および吸着装置 |
JP2009295951A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着フィルム、接着シート、半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
-
2008
- 2008-10-20 JP JP2008269965A patent/JP5338250B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01138596U (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-21 | ||
JP2001351890A (ja) * | 2000-06-08 | 2001-12-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | チップの研削方法 |
JP2004311848A (ja) * | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Nitta Ind Corp | 半導体装置の製造方法、保護用粘着テープおよびダイボンド用接着剤付き支持用粘着テープ |
JP2005136307A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Lintec Corp | 貼合装置 |
JP2005276971A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ダイシングシート機能付き半導体用接着フィルム、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
JP2005343997A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Lintec Corp | 半導体加工用粘着シートおよび半導体チップの製造方法 |
JP2007227553A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハの粘着テープ貼付け方法およびこれを用いた装置 |
JP2008187098A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Disco Abrasive Syst Ltd | 基板の吸着方法および吸着装置 |
JP2009295951A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着フィルム、接着シート、半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015507373A (ja) * | 2012-02-16 | 2015-03-05 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 製品基板をキャリア基板に一時的に接合する方法 |
JP2015220302A (ja) * | 2014-05-16 | 2015-12-07 | 株式会社ディスコ | サポートプレート、サポートプレートの形成方法及びウェーハの加工方法 |
KR20170053563A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
JP2017092194A (ja) * | 2015-11-06 | 2017-05-25 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
TWI690016B (zh) * | 2015-11-06 | 2020-04-01 | 日商東京應化工業股份有限公司 | 支持體分離裝置及支持體分離方法 |
KR102543036B1 (ko) * | 2015-11-06 | 2023-06-14 | 아이메카테크 가부시키가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5338250B2 (ja) | 2013-11-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4806282B2 (ja) | ウエーハの処理装置 | |
US7705430B2 (en) | Semiconductor wafer and processing method for same | |
JP5081643B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6120748B2 (ja) | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP5544228B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP5048379B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2010186971A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6318033B2 (ja) | 研削装置及び保護テープ貼着方法 | |
JP4908085B2 (ja) | ウエーハの処理装置 | |
JP4968819B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2009253244A (ja) | ウエーハの搬出方法 | |
JP2006032661A (ja) | 切削装置 | |
JP5338250B2 (ja) | ワーク分離方法及び切削加工装置 | |
JP5858837B2 (ja) | 吸引保持手段の被加工物離脱方法 | |
JP6879807B2 (ja) | 加工装置 | |
KR20220072739A (ko) | SiC 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP2012222310A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2017204606A (ja) | ウエーハ製造方法 | |
JP6579929B2 (ja) | 加工装置 | |
JP5338249B2 (ja) | 切削加工方法 | |
JP5912310B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6890495B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP5458460B2 (ja) | 切削加工装置及び切削加工方法 | |
JP5635807B2 (ja) | 切削加工装置 | |
JP2012039039A (ja) | 加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5338250 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |