JP2010067786A - ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1ボンディング点に圧着ボール37形成後に前記キャピラリ3が上昇し、上昇後に前記キャピラリ3が第2ボンディング点側に移動して、前記圧着ボール37の上部の側面を押圧して、前記圧着ボールの頭頂部38の第2ボンディング点側に前記圧着ボールの膨出部41を形成し、前記圧着ボールの膨出部41を形成後に前記キャピラリ3が上昇し、上昇後に前記キャピラリ3が第2ボンディング点側に移動しながら下降して前記膨出部41を押圧して前記圧着ボールの頭頂部38から水平方向にワイヤを引き出すためのワイヤ引出部39を形成するようにする。
【選択図】 図6
Description
最初に図1及び図2を参照してワイヤボンディング装置の構成を説明する。図1は、ワイヤボンディング装置の構成を示すブロック図、図2は、図1に示すワイヤボンディング装置のキャピラリ、クランパ、放電電極の位置関係を示す説明図である。
ボンディングアーム2をZ方向の上下に駆動するボンディングヘッド6には、ボンディングアーム2の位置を検出する位置検出センサ7を備えており、位置検出センサ7は、ボンディングアーム2の予め設定された原点位置からのボンディングアーム2先端に装着されたキャピラリ3の位置を制御装置17に出力するようになっている。また、ボンディングヘッド6のリニアモータは、制御装置17によってボンディングアーム2を上下に駆動する他に、ボンディング時にキャピラリ3に対して荷重の大きさ、荷重の印加時間の制御がなされる。
次に、本発明のワイヤボンディング方法による低ループ形成を行う実施の形態について、図3乃至図7を参照して説明する。図3は、キャピラリの下部の形状を示す断面図、図4は、ループ形成におけるキャピラリの移動軌跡を示す図、図5は、キャピラリの移動軌跡による各時点でのボール圧着形状及びワイヤ形状を示す図、図6は、図5に示す(a)から(g)のボール圧着形状の詳細を示す一部断面を含む図、図7は、図5に示す(h)から(k)のボール圧着形状の詳細を示す一部断面を含む図である。
最初に、ワイヤボンディングに用いるキャピラリの形状について説明する。図3に示すように、キャピラリ3は、ワイヤを通すためのホール3cを有し、ホール3cから下方向に広がりを持つ略円錐台(以下、円錐台と称する。)の形状の空間を有する。円錐台の形状の空間の上面の直径はホール径H、底部3bの内側端部の直径はチャンファー径CDで示され、円錐台の形状の空間の周囲は、チャンファー面3aに囲まれている。なお、チャンファー面3aが垂直を成している場合には、円柱の形状の空間を有する。したがって、円錐台は、略円錐台形状のものから円柱状の形状のものも含む。
次に、上記キャピラリを制御して低ループを形成するワイヤボンディング方法について説明する。なお、図5乃至図7に示す矢印はキャピラリの移動方向を示すものである。図4、図5(a)及び図6(a)に示すように、最初に、ワイヤ35をクランプするクランパ4(図2に示す)は開状態で、キャピラリ3が第1ボンディング点であるパッド31の上方から下降してワイヤ35先端に形成されたフリーエアーボール36(図2に示す)を第1ボンディング点であるパッド31のA点にボンディングする。このとき図6(a)に示すように、キャピラリ3先端のフリーエアーボール36は、キャピラリ3の底部3bによりパッドに押圧されて変形し、キャピラリ3のチャンファー面3aの成す円錐台の形状の空間内に充填される。キャピラリ3により押圧されたフリーエアーボールを圧着ボール37と称する。また、キャピラリ3の内部には、図6(a)に示すように、圧着ボールの37の上部に位置するネック部42が存在し、ネック部42は圧着ボール37上部に位置している。なお、キャピラリ3のチャンファー面3aの成す空間は、前述したように、円錐台に限ったものではなく、円柱の形状の空間でもよく、チャンファー面3aの形状に依存した空間となる。
次に図4、図5(f)及び図6(g)に示すように、キャピラリ3は、第2ボンディング点側に斜め方向に移動しながらF点まで上昇する。図6(g)に示すように、キャピラリ3が第2ボンディング点に移動しながらF点まで上昇して、ワイヤ引出部39からのワイヤが直線状となるようにキャピラリ3からワイヤ35を繰り出すようにする。
次に、図4に示す第1ボンディング点であるA点でのボール圧着後のB点からE点までのキャピラリの上昇量、下降量及び水平の各移動量について説明する。なお、キャピラリの移動は、X,Y,Z軸の3次元の空間の位置からの移動量を指定して行うようにする。図4に示すように、A点からB点までのキャピラリの上昇量をZ1、B点からC点までのキャピラリの下降量をZ2、C点からD点までのキャピラリの上昇量をZ3、D点からE点までのキャピラリの下降量をZ4とし、また、B点からC点までのキャピラリのXY移動量をL1、C点からE点までのキャピラリのXY移動量をL2とする。但し、目標とするループ高さは、ワイヤ径の2倍以下とする。なお、以下の説明では、B点からE点までの位置は、キャピラリが第1ボンディング点で圧着ボールを形成した位置を基準とする。
また、キャピラリの上昇、下降の移動量は
(Z1−Z2)+(Z3−Z4)+圧着厚=目標ループ高さ・・・(1)
(1)式を満たすように制御する。
上述したキャピラリの上昇量Z1,Z3、下降量Z2,Z4及びXY移動量L1,L2の各量について、代表的な値(代表値)について述べたが、これらの各量について、範囲を設けることができる。許容される範囲は、それぞれ、上述した値の±30%である。例えば、キャピラリのB点から第2ボンディング点側のC点への移動におけるXY移動量L1は、圧着径60μmの半分(0.5)に相当する量である30μmであり、XY移動量L1の範囲は、30μm±30%で21〜39μmである。また、図4に示すC点での高さ(Z1−Z2)は、目標ループ高さ(40μmとする)の0.5として20μmであり、C点での高さ(Z1−Z2)の範囲は、20μm±30%で14〜26μmである。また、上昇量Z1の代表値は40μmであり、上昇量Z1の範囲は、28〜52μmである。下降量Z2の代表値は20μmであり、下降量Z2の範囲は、14〜26μmである。また、B点からC点への角度θ1の範囲は、20°〜44°となる。
次に、ワイヤボンディング装置1(図1に示す)による低ループの形成動作について図1,図4を参照して説明する。前述したA点からB点までのキャピラリの上昇量をZ1、B点からC点までのキャピラリの下降量をZ2、C点からD点までのキャピラリの上昇量をZ3、D点からE点までのキャピラリの下降量をZ4とし、また、B点からC点までのキャピラリのXY移動量をL1、C点からE点までのキャピラリのXY移動量をL2の各データは、前もって操作パネル23(図1に図示)に表示されるメニューに基づいて、操作パネル23の数値入力キーを用いて入力して、制御装置17内のマイクロコンピュータの記憶装置に記憶しておく。なお、目標ループ高さ、ワイヤ径、ボールの圧着径、キャピラリの降下角度(図4に示すθ1,θ2)等のデータを入力して、これらのデータを用いて自動演算して、算出することも可能である。また、第1ボンディング点であるパッド及び第2ボンディング点であるリードのXY座標値、超音波パワー、印加時間等のボンディングパラメータ、その他ボンディングに必要なデータは前もって設定しておくようにする。
次に、ワイヤボンディング装置における制御装置内のマイクロコンピュータによる低ループ形成を行うための制御プログラムについて図1、図4及び図8を参照して説明する。図8は、マイクロコンピュータによる低ループ形成における制御プログラムのフローチャートを示す図である。
次に、本発明によるループ形成方法で形成したループ形状におけるループ高さについて図10を参照して説明する。図10は、本発明による低ループの形状及びループ高さを説明する図であり、図7(d)に示すICチップ30上の第1ボンディング点であるパッド31とリードフレーム32の第2ボンディング点であるリード33間の低ループ形成での、第1ボンディング点近傍における圧着ボール37及び圧着ボール37からのワイヤ35の詳細を示したものである。
以下に、ワイヤ径25μmのワイヤを用いて、上述した低ループの形成方法に基づいて行ったボンディングでのループ高さ、引っ張り強度を測定した結果を図11に示す。図11は、ワイヤ数10本でのループ高さ、引っ張り強度を測定した結果を示す図である。
2 超音波ホーン(ボンディングアーム)
3 キャピラリ(ボンディングツール)
3a チャンファー面
3b 底部
3c ホール
4 クランパ
5 放電電極(トーチロッド)
6 ボンディングヘッド
7 位置検出センサ
8 カメラ
9 光学レンズ
12 XYテーブル
13 ヒータ部
16 駆動装置
17 制御装置
22 操作部(トラックボール)
23 操作パネル
24 モニタ
30 半導体チップ(ICチップ)
31 パッド
32 リードフレーム
33 リード
35 ワイヤ
35a 曲げ癖
36 フリーエアーボール(FAB)
37、51 圧着ボール
38 頭頂部
39 ワイヤ引出部
40 平坦部
41 膨出部
42 ネック部
43 ボール表面
50 ワイヤ折り返し部
Claims (20)
- 第1ボンディング点と第2ボンディング点との間をキャピラリによりワイヤで接続するワイヤボンディング方法において、
キャピラリ先端のフリーエアーボールを第1ボンディング点に圧着して所望の圧着厚を有する圧着ボールを形成し、
前記圧着ボールの形成後に前記キャピラリが上昇し、上昇後に前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動しながら前記圧着ボールの上部の側面を押圧して、前記圧着ボールの頭頂部を形成するようにしたことを特徴とするワイヤボンディング方法。 - 前記圧着ボールの頭頂部の第2ボンディング点側と反対側の部分が平坦であることを特徴とする請求項1記載のワイヤボンディング方法。
- 前記圧着ボールの頭頂部の第2ボンディング点側に膨出部が形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のワイヤボンディング方法。
- 前記膨出部は、前記キャピラリが第2ボンディング点側に水平移動又は下降しながら前記圧着ボールの上部の側面を前記キャピラリのチャンファー面及び底部によって押圧して形成することを特徴とする請求項3記載のワイヤボンディング方法。
- 前記膨出部の形成は、前記キャピラリに超音波振動を印加して前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動しながら前記圧着ボールの側面を押すようにすることを特徴とする請求項3記載のワイヤボンディング方法。
- 前記膨出部の形成で、前記キャピラリの水平の移動量に対する前記キャピラリの下降量の比率が0から1以下の範囲となるように、前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動することを特徴とする請求項3記載のワイヤボンディング方法。
- 前記膨出部を形成後に前記キャピラリが上昇し、上昇後に前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動しながら下降して前記膨出部の上部を押圧して前記圧着ボールの頭頂部から水平方向にワイヤを引き出すためのワイヤ引出部を形成することを特徴とする請求項3乃至請求項6のうち、いずれか1に記載の記載のワイヤボンディング方法。
- 前記ワイヤ引出部の形成は、前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動しながら下降して前記膨出部の上部を整形し、移動中に前記キャピラリから繰り出されたワイヤの上面を押圧するようにすることを特徴とする請求項7記載のワイヤボンディング方法。
- 前記ワイヤ引出部の形成は、前記キャピラリに超音波振動を印加して前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動しながら行うことを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のワイヤボンディング方法。
- 前記ワイヤ引出部の形成で、前記キャピラリの水平の移動量に対する前記キャピラリの下降量の比率が1以上となるように、前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動しながら下降することを特徴とする請求項7乃至請求項9のうち、いずれか1に記載のワイヤボンディング方法。
- 前記膨出部の形成における前記キャピラリの上昇量から下降量を引いた値と、ワイヤ引出部の形成における前記キャピラリの上昇量から下降量を引いた値と、前記圧着ボールの形成における前記所望のボール圧着厚とを加算した値が、目標とするループ高さ以下になるように前記キャピラリを制御することを特徴とする請求項7乃至請求項10のうち、いずれか1に記載のワイヤボンディング方法。
- 前記ワイヤ引出部を形成後に前記キャピラリが第2ボンディング点側に移動しながら上昇し、上昇後に前記キャピラリが第2ボンディング点と反対側に移動してワイヤに癖を付けるリバース動作を行い、リバース動作後に前記キャピラリが第2ボンディング点に移動してワイヤを第2ボンディング点に圧着して接合して、ワイヤを張設することを特徴とする請求項7乃至請求項11のうち、いずれか1に記載のワイヤボンディング方法。
- 前記圧着ボールの頭頂部の前記ワイヤ引出部の側面からワイヤが第2ボンディング点側にほぼ水平に延びるように張設することを特徴とする請求項12記載のワイヤボンディング方法。
- 前記リバース動作は、前記キャピラリを、水平移動、直線的に下降移動、円弧状に下降移動、直線的に上昇移動、円弧状に上昇移動の各リバース動作から少なくとも1以上のリバース動作が可能であり、前記リバース動作をn回(n=1,2・・・)繰り返すことを特徴とする請求項12記載のワイヤボンディング方法。
- 第1ボンディング点と第2ボンディング点との間をキャピラリによりワイヤで接続するワイヤボンディング装置であって、
第1ボンディング点に圧着された圧着ボールに形成された頭頂部の第2ボンディング点側にさらにワイヤ引出部を設けたことを特徴とするワイヤボンディング装置。 - 前記圧着ボールの前記頭頂部の第2ボンディング点側と反対側の部分が平坦であることを特徴とする請求項15記載のワイヤボンディング装置。
- 第1ボンディング点と第2ボンディング点との間をキャピラリによりワイヤで接続するワイヤボンディング装置であって、
前記キャピラリをXY平面上に所定の位置に位置決めするXY位置決め手段と、
前記キャピラリを上下に移動するキャピラリ上下移動手段を有し、前記第1ボンディング点及び前記第2ボンディング点にボンディングを行うボンディング手段とを備え、
前記ボンディング手段により第1ボンディング点に前記キャピラリ先端のボールを前記第1ボンディング点に圧着して圧着ボールを形成し、
前記圧着ボールの形成後に前記キャピラリ上下移動手段によりキャピラリを上昇させ、上昇後に前記キャピラリ上下移動手段及び前記XY位置決め手段によりキャピラリを第2ボンディング点側に移動しながら前記圧着ボールの上部の側面を押圧して、前記圧着ボールの頭頂部の第2ボンディング点側に膨出部を形成するようにしたことを特徴とするワイヤボンディング装置。 - 前記膨出部を形成後に前記キャピラリ上下移動手段により前記キャピラリを上昇させ、上昇後に前記キャピラリ上下移動手段及び前記XY位置決め手段により前記キャピラリを第2ボンディング点側に移動しながら下降して前記膨出部の上部を押圧して前記圧着ボールの頭頂部から水平にワイヤを引き出すためのワイヤ引出部を形成するようにしたことを特徴とする請求項17記載のワイヤボンディング装置。
- キャピラリをXY平面上に所定の位置に位置決めするXY位置決め手段と、
キャピラリを上下に移動するキャピラリ上下移動手段と、前記第1ボンディング点及び前記第2ボンディング点にボンディングを行うボンディング手段と、前記XY位置決め手段及びボンディング手段を制御する制御手段とを有し、第1ボンディング点と第2ボンディング点との間をキャピラリによりワイヤで接続するワイヤボンディング装置のワイヤボンディング制御プログラムであって、
前記ボンディング手段により第1ボンディング点に前記キャピラリ先端のボールを前記第1ボンディング点に圧着して圧着ボールを形成するボール圧着ステップと、
前記圧着ボールの形成後に前記キャピラリ上下移動手段によりキャピラリを上昇させ、上昇後に前記キャピラリ上下移動手段及び前記XY位置決め手段により前記キャピラリを第2ボンディング点側に移動しながら前記圧着ボールの上部の側面を押圧して、前記圧着ボールの頭頂部の第2ボンディング点側に膨出部を形成する第1の押圧ステップとを有することを特徴とするワイヤボンディング制御プログラム。 - 前記第1の押圧ステップ後に前記キャピラリ上下移動手段により前記キャピラリを上昇させ、上昇後に前記キャピラリ上下移動手段及び前記XY位置決め手段により前記キャピラリを第2ボンディング点側に移動しながら下降して前記膨出部の上部を押圧して前記圧着ボールの頭頂部から水平にワイヤを引き出すためのワイヤ引出部を形成する第2の押圧ステップとを有することを特徴とする請求項19記載のワイヤボンディング制御プログラム。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008232600A JP4625858B2 (ja) | 2008-09-10 | 2008-09-10 | ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム |
| US12/263,589 US7748599B2 (en) | 2008-09-10 | 2008-11-03 | Wire bonding method, wire bonding apparatus, and wire bonding control program |
| TW098126464A TWI397138B (zh) | 2008-09-10 | 2009-08-06 | 打線接合方法、打線接合裝置及打線接合控制程式 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008232600A JP4625858B2 (ja) | 2008-09-10 | 2008-09-10 | ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010067786A true JP2010067786A (ja) | 2010-03-25 |
| JP4625858B2 JP4625858B2 (ja) | 2011-02-02 |
Family
ID=41798348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008232600A Active JP4625858B2 (ja) | 2008-09-10 | 2008-09-10 | ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7748599B2 (ja) |
| JP (1) | JP4625858B2 (ja) |
| KR (1) | KR101089452B1 (ja) |
| TW (1) | TWI397138B (ja) |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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