JP2010064332A - 積層板および表示装置用前面板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】耐衝撃性に優れるポリカーボネート樹脂層の少なくとも片面に高硬度な耐熱アクリル樹脂層を有し、更にその耐熱アクリル樹脂層上にハードコート層と反射防止層を配置、積層体や各層の厚みを特定の範囲に設定することにより、透明性、耐擦り傷性に優れ、かつ機械的強度や耐衝撃性も兼ね備えた積層板とする。
【選択図】なし
Description
また、表示装置用前面板に用いた場合は室内外を問わず、外光が入射する環境下で使用される。表示装置に入射した外光は反射され、外光の虚像を表示装置の表示画面に再生する。このため、外光による像、例えば蛍光灯等が画面に映り、本来の表示画像を見えにくくするなどの問題を惹起している。また、表示装置に入射した外光は、本来の表示光に混合して表示品質を低下させる。そこで、このような外光の表示装置の入射を防止するため、反射防止機能が要求されている。
一方、アクリル樹脂として透明性や硬度に優れた主鎖に環構造を有する耐熱アクリル樹脂が知られており、例えば特許文献2にはラクトン環構造を有するアクリル樹脂をポリカーボネート表面に積層してなる積層板が提案されている。しかしながら、この積層板構成では耐傷付き性に関しては十分な性能を有していなかったため、耐傷付き性と高い表面硬度が要求される表示装置用前面板などには用いられていなかった。
(イ)該積層板の全厚みが0.5〜2mm
(ロ)該耐熱アクリル樹脂層(B)の厚みが20〜200μm
(ハ)該ハードコート層(C)の厚みが2〜10μm
(ニ)さらに反射防止層(D)を有する
本発明は、更に上記の積層板からなる反射防止機能を有し透明かつ高硬度である表示装置用前面板に関する発明である。
本発明の積層板は、 ポリカーボネート樹脂層(A)、耐熱アクリル樹脂層(B)およびハードコート層(C)を有する積層板であって、下記の条件を満足する積層板。
(イ)該積層板の全厚みが0.5〜2mm
(ロ)該耐熱アクリル樹脂層(B)の厚みが20〜200μm
(ハ)該ハードコート層(C)の厚みが2〜10μm
(ニ)さらに反射防止層(D)を有する
以下、各層について各々説明する
<ポリカーボネート樹脂層>
本発明におけるポリカーボネート樹脂層(A)に使用されるポリカーボネート樹脂は、二価フェノールとカーボネート前駆体とを界面重縮合法または溶融法で反応させて得られるポリカーボネート樹脂を主成分として含有する。二価フェノールの代表的な例としては2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[通称ビスフェノールA]、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)サルファイド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン等が挙げられ、なかでもビスフェノールAが好ましい。これらの二価フェノールは単独または2種以上を混合して使用できる。
カーボネート前駆体としてはカルボニルハライド、カーボネートエステルまたはハロホルメート等が使用され、具体的にはホスゲン、ジフェニルカーボネートまたは二価フェノールのジハロホルメート等が挙げられる。上記二価フェノールとカーボネート前駆体を界面重縮合法または溶融法によって反応させてポリカーボネート樹脂を製造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二価フェノールの酸化防止剤等を使用してもよい。またポリカーボネート樹脂は三官能以上の多官能性芳香族化合物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂であっても、芳香族または脂肪族の二官能性カルボン酸を共重合したポリエステルカーボネート樹脂であってもよく、また、得られたポリカーボネート樹脂の2種以上を混合した混合物であってもよい。
ポリカーボネート樹脂の分子量は、粘度平均分子量(M)で10,000〜50,000が好ましく、15,000〜35,000がより好ましい。かかる粘度平均分子量を有するポリカーボネート樹脂は、十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動性も良好であり好ましい。
ポリカーボネート樹脂のアイゾット衝撃強度(ASTM−D−256に準じた測定、ノッチ付き、厚さ3.2mm)が好ましくは10kJ/m2以上であり、さらに好ましくは20kJ/m2以上、より好ましくは30kJ/m2以上である。
かかるポリカーボネート樹脂を製造する際に、必要に応じて亜燐酸エステル、燐酸エステル、ホスホン酸エステル等の安定剤、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤、テトラブロムビスフェノールA、テトブロムビスフェノールAの低分子量ポリカーボネート、デカブロモジフェノール、トリス(ジブロムプロピル)ホスフェート、四臭化エチレン、酸化アンチモン、ジンクボレート等の難燃剤、後述する耐熱アクリル樹脂に使用可能な紫外線吸収剤、着色剤、アニオン系、カチオン系、非イオン系、両性系の界面活性剤等の帯電防止剤、滑剤、無機顔料、有機顔料、染料等を添加することができる。これら添加剤の添加時期および添加量は、本発明の効果を損なわない範囲で、適宜設定すればよい。
<耐熱アクリル樹脂層>
本発明にかかる耐熱アクリル樹脂層(B)の厚みは20〜200μmの範囲であり、好ましくは20〜150μmの範囲であり、更に好ましくは40〜120μmの範囲である。20μm未満であると、積層板の耐擦り傷性や鉛筆硬度が低下する場合があり、200μmを超えると積層板表面の耐衝撃性が劣ることがある。
具体的には、無水マレイン酸と(メタ)アクリレート共重合体、N−置換マレイミドフェニルマレイミドと(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリレート共重合体を分子内環化反応によりラクトン環構造を導入した所謂、ラクトン環重合体、(メタ)アクリレート共重合体を分子内環化反応によりグルタル酸無水物構造やグルタルイミド構造を導入した所謂、グルタル酸無水物ポリマーやグルタルイミドポリマー等が挙げられる。
ここで、ガラス転移温度とは、ポリマー分子がミクロブラウン運動を始める温度であり、各種の測定方法があるが、本発明においては、示差走査熱熱量計(DSC)によって、ASTM−D−3418に従って、中点法で求めた温度と定義する。ガラス転移温度が110℃以上あるアクリル樹脂は一般に当該業者の間では耐熱アクリル樹脂として認められる。
このように積層板中のアクリル樹脂を耐熱アクリル樹脂とすることにより、バランスのとれた透明性、表面硬度、耐衝撃性が得られる上に、耐熱性の向上も図れるため、温度の高い環境下でも積層板を好適に用いることができる。
上記(メタ)アクリレート単量体としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5,6−ペンタヒドロキシヘキシルおよび(メタ)アクリル酸2,3,4,5−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられ、これらのうち1種を単独で含んでいてもよいし、2種以上併存してもよい。中でも、重合して得られる樹脂が光学特性や熱安定性に優れる点でメタクリル酸メチルが最も好ましい。
本発明にかかる耐熱アクリル樹脂は、重量平均分子量が好ましくは1,000〜300,
000、より好ましくは5,000〜250,000、更に好ましくは10,000〜2
00,000、特に好ましくは、50,000〜200,000である。
上記、紫外線吸収性単量体の種類としては、ベンゾトリアゾール系化合物あるいはベンゾフェノン系化合物あるいはトリアジン系化合物と重合性不飽和基を有するアクリル系単量体が挙げられる。ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば2−[2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシメチルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−(β−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)−3’−tert−ブチルフェニル〕−5−tert−ブチル−2H−ベンゾトリアゾールなどを用いることができる。また、ベンゾフェノン系化合物としは、例えば、2−ヒドロキシ−4−[2−(メタ)アクリロイルオキシ]エトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−[2−(メタ)アクリロイルオキシ]ブトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−[2−(メタ)アクリロイルオキシ]エトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−[2−(メタ)アクリロイルオキシ]エトキシ−4’−(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾフェノンなどを用いることができる。また、トリアジン系化合物としては、例えば,4−ジフェニル−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−メチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−メトキシフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)]−s−トリアジンなどを用いることができる。このような紫外線吸収性単量体を用いる場合には、全単量体の0.1〜25重量%共重合されることが好ましく、さらに好ましくは1〜15重量%共重合されることが好ましい。含有量が少ないと耐候性向上の寄与が低く、含有量が多すぎると耐熱水性、耐溶剤性が低下したり、黄変を引き起こす場合がある。
上記紫外線安定性単量体としては、ヒンダードアミン系化合物に重合性不飽和基が結合されたものを用いることができ、具体例としては、4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−クロトノイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−4−シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−クロトノイル−4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどが挙げられる。このような紫外線安定性単量体を用いる場合には、全単量体の0.1〜25重量%共重合されることが好ましく、さらに好ましくは1〜15重量%共重合されることが好ましい。含有量が少ないと耐候性向上の寄与が低く、含有量が多すぎると耐熱水性、耐溶剤性が低下したり、黄変を引き起こす場合がある。
上記紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、サリシケート系化合物、ベンゾエート系化合物、およびトリアゾール系化合物等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、2,4−ジーヒドロキシベンゾフェノン、4−n−オクチルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクチルオキシベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、1,4−ビス(4−ベンゾイル−3−ヒドロキシフェノン)−ブタン等が挙げられる。サリシケート系化合物としては、p−t−ブチルフェニルサリシケート等が挙げられる。ベンゾエート系化合物としては、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。また、トリアゾール系化合物としては、2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−ベンゾトリアゾール−2−イル−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−[5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル−6−(tert−ブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミジルメチル)フェノール、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−C7−9側鎖及び直鎖アルキルエステルが挙げられる。さらに、トリアジン系化合物としては、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシエトキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス「2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル」−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3−5−トリアジン等が挙げられる。その中でも、耐熱アクリル樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−アルキルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−5−α−クミルフェニル]−s−トリアジン骨格(アルキルオキシ;オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基)を有する紫外線吸収剤がより好ましく、下記式(2)で表される構造を有する紫外線吸収剤を主成分として含む紫外線吸収剤が特に好ましい。市販品としては、例えば、チヌビン477(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)などが挙げられる。
本発明における耐熱アクリル樹脂を主成分とする層には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じ他の各種添加剤や、その他の樹脂を含有させておくことができる。但しその場合でも、本発明における耐熱アクリル樹脂を含有する層において、耐熱アクリル樹脂の占める割合は、50−100重量%の範囲が好ましく、75−100重量%の範囲がさらに好ましく、90−100重量%の範囲がより好ましい。
その他の樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)等のオレフィン系ポリマー;塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系ポリマー;ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー;ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系ポリマー;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートなどの生分解性ポリエステル;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610等のポリアミド;ポリアセタール:ポリカーボネート;ポリフェニレンオキシド;ポリフェニレンスルフィド:ポリエーテルエーテルケトン;ポリサルホン;ポリエーテルサルホン:ポリオキシペンジレン;ポリアミドイミド;ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したABS樹脂やASA樹脂等のゴム質重合体;などが挙げられる。相溶性の観点からは、スチレン−アクリロニトリル共重合体が好ましい。また、ゴム質重合体は、表面に本発明のラクトン環重合体と相溶し得る組成のグラフト部を有するのが好ましく、ゴム質重合体の平均粒子径は、押出しフィルム状とした際の透明性向上の観点から、100nm以下である事が好ましく、70nm以下である事が更に好ましい。
上記酸化防止剤は、公知の酸化防止剤が使用できる。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アセテート、n−オクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオドデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミド−N,N−ビス−[エチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノ−N,N−ビス−[エチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル−7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−1−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,1−トリメチロールエタントリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル−7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル−7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオールビス−[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリトリトールテトラキス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−[β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]−ウンデカン、2,4−ジ−t−アミル−6−[1−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニルアクリレート及び2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレートが挙げられる。
本発明にかかる耐熱アクリル樹脂は、主鎖中に環構造を含有する重合体が好適であり、(メタ)アクレート共重合体を分子内環化反応によりラクトン環構造を導入した所謂、ラクトン環含有重合体を用いた場合が最も効を奏する。
主鎖中のラクトン環構造に関しては、4〜8員環でもよいが、構造の安定性から5〜6員環の方がより好ましく、6員環が更に好ましい。また、主鎖中のラクトン環構造が6員環である場合、一般式(1)や特開2004−168882号公報で表される構造などが挙げられるが、主鎖にラクトン環構造を導入する前の重合体を合成する上において重合収率が高い点や、ラクトン環構造の含有割合の高い重合体を得易い点、更にメタクリル酸メチルなどの(メタ)アクリル酸エステルとの共重合性が良い点で、一般式(1)で表される構造であることが好ましい。
(式中、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいても良い。)
ラクトン環構造を含有する耐熱アクリル樹脂の製法は公知の製法を適用出来る。例えば、特開2006−96960号公報や特開2006−171464号公報や特開2007−63541号公報に記載の製造方法による製造が可能である。
<ハードコート層>
本発明において、ハードコート層(C)とは、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。また、本発明にあって、ハードコート層(C)はハードコートフィルム、ハードコート板、ハードコート膜等のいずれの形態をも包含するものである。ハードコート層の層厚(硬化時)は2〜10μmであり、好ましくは3〜8μm、更に好ましくは4〜7μmである。厚みが2μm未満では耐擦り傷性、鉛筆硬度が十分に発揮できない場合があり、10μmを超えるとハードコートの耐クラック性に劣ることがある。
ハードコート層は、シリコーン系硬化性樹脂、有機ポリマー複合無機微粒子含有硬化性樹脂、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリレートと光重合開始剤を有機溶剤に溶解あるいは分散させた塗布液を従来公知の塗布法で、本発明の光学用面状熱可塑性樹脂成形体上に、好ましくは最外層に位置するように、塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形成される。シリコーン系硬化性樹脂は、シロキサン結合を持った樹脂であり、例えば、トリアルコキシシランおよびテトラアルコキシシランまたはそれらのアルキル化物の部分加水分解物、メチルトリアルコキシシランおよびフェニルトリアルコキシシランの混合物を加水分解したもの、コロイド状シリカ充填オルガノトリアルコキシシランの部分加水分解縮合物等が挙げられる。市販品としては、例えば、「Siコート2」(第八化学社製)、「トスガード510」や「UVHC8553」(以上、東芝シリコーン社製)、「ソルガードNP720」や「ソルガードNP730」や「ソルガードRF0831」(以上、日本ダクロシャムロック社製)などが挙げられる。また、有機ポリマー複合無機微粒子とは、無機微粒子の表面に有機ポリマーが固定された複合無機微粒子を意味し、当該微粒子を含む硬化性樹脂で表面保護層を形成することにより、表面硬度の向上等が図られる。当該複合無機微粒子とはとその製法の詳細は、例えば、特開平7−178335号公報、特開平9−302257号公報、特開平11−124467号公報などに記載されている。当該複合無機微粒子を含有させる硬化性樹脂にも格別の制限はなく、例えば、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、多官能アクリル樹脂などが挙げられる。多官能アクリル樹脂としては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの樹脂を挙げることができる。上記複合無機微粒子を含有する硬化性樹脂の市販品としては、例えば、「ユーダブルC−3300」や「ユーダブルC−3600」(以上、日本触媒社製)等が挙げられる。
活性エネルギー線を用いて硬化させるハードコート剤の一例としては、1官能あるいは多官能のアクリレートモノマーあるいはオリゴマー、3官能以上のウレタンアクリレート樹脂などの単独あるいは複数からなる樹脂組成物に硬化触媒として光重合開始剤が加えられた樹脂組成物が挙げられる。
熱硬化型樹脂としてはポリオルガノシロキサン系、架橋型アクリル系などのものが挙げられる。この様な樹脂組成物は、アクリル樹脂用ハードコート剤として市販されているものもあり、塗装ラインとの適正を加味し、適宜選択すれば良い。
これらのハードコート剤には、必要に応じて、有機溶剤の他、適切な単官能重合性モノマー、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、易滑剤、帯電防止剤、防汚剤、防曇剤、防眩剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。また、ハードコート層の表面に各種コーティング層を設けることができ、帯電防止性、防汚性、すべり性、防眩性、反射防止性を付与することもできる。
前記帯電防止剤の添加により、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
また、帯電防止剤として、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO2(1.95)、Sb2O2(1.71)、SnO2(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In2O3(2.00)、Al2O3(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等を挙げることができる。微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が0.1nm〜0.1μmのものである。
また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ(パラフェニレン)、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。
帯電防止剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、0.01重量部以上50重量部以下であり、好ましくは下限が0.1重量部以上であり、上限が25重量部以下である。
前記防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.59)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
防眩剤を添加する際に、沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μm程度のシリカビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
防眩剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、0.001重量部以上75重量部以下であり、好ましくは下限が0.01重量部以上であり、上限が50重量部以下である。
前記防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、フッ素系化合物、シリコーン系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。また、防汚剤はそれ自体が反応基を有するか否かは問わない。
フッ素系化合物の防汚染剤としては、含フッ素シラン化合物、含フッ素有機酸塩(パーフルオロスルホン酸塩、パーフルオロスルホン酸塩など)などのモノマー、オリゴマー、ポリマーなどを用いることができる。フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖{例えば−CF2CF3、−CH2(CF2)4H、−CH2(CF2)8CF3、−CH2CH2(CF2)4H等}であっても、分岐構造{例えば−CH(CF3)2、−CH2CF(CF3)2、−CH(CH3)CF2CF3、−CH(CH3)(CF2)5CF2H等}であっても、脂環式構造(好ましくは5員環又は6員環、例えばペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等)であってもよく、エーテル結合を有していてもよい(例えば−CH2OCH2CF2CF3、−CH2CH2OCH2C4F8H、−CH2CH2OCH2CH2C8F17、−CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物中のフッ素原子含有量には特に制限はないが、20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としては、ダイキン工業(株)製のR−2020、M−2020、R−3833、M−3833;大日本インキ化学工業(株)製のメガファックF−171、メガファックF−172、メガファックF−179A、ディフェンサMCF−300などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置
換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
シリコーン系化合物の分子量には特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることが特に好ましく、3,000〜30,000であることが最も好ましい。
シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが、18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。
好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業(株)製のX−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821;チッソ(株)製のFM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM−6621、FM−1121;Gelest製のDMS−U22、RMS−033、RMS−083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
さらに、反応基を有しない防汚染剤の具体例としては、大日本インキ社製のメガファックシリーズ、例えば、MCF350−5、F445、F455、F178、F470、F475、F479、F477、TF1025、F478、F178K等が挙げられ;東芝シリコーン社製のTSFシリーズ等が挙げられ;信越化学社製のX22シリーズ、KFシリーズ等が挙げられ;チッソ社製のサイラプレーンシリーズ等が挙げられる。
反応基を有する防汚染剤の具体例としては、SUA1900L10(重量平均分子量4200;新中村化学社製)、SUA1900L6(重量平均分子量2470;新中村化学社製)、Ebecryl1360(ダイセルユーシービー社製)、UT3971(日本合成社製)、ディフェンサTF3004(大日本インキ社製)、ディフェンサTF3000(大日本インキ社製)、ディフェンサTF3028(大日本インキ社製)、KRM7039(ダイセルユーシービー社製)、ライトプロコートAFC3000(共栄社化学社製)、KNS5300(信越シリコーン社製)、UVHC1105(GE東芝シリコーン社製)、UVHC8550(GE東芝シリコーン社製)、Ebecryl350(ダイセルユーシービー社製)、ACS-1122(日本ペイント社製)が挙げられる。
防汚染剤が、有機化合物の場合、その数平均分子量は限定されないが、500以上10万以下であり、好ましくは下限が750以上であり、より好ましくは1000以上であり、好ましくは上限が7万以下であり、より好ましくは5万以下である。
本発明の好ましい態様によれば、防汚染剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオルガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フッ素化アルキル基などを含有する2官能以上の多官能アクリレートを含んでなるものが好ましい。多官能アクリレートとしては、例えば、2官能アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1、3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1、4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1、9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1、10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ(メタ)アクリレート(イソシアヌル酸EO変性ジ(メタ)アクリレート)、2官能ウレタンアクリレート、2官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。3官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ(メタ)アクリレート、3官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。4官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。5官能以上のアクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
防汚染剤の添加量は、適宜定めることができるが、ハードコート層を形成する組成物の全重量に対して0.001重量部以上90重量部以下であり、好ましくは下限が0.01重量部以上であり、より好ましくは0.1重量部以上であり、好ましくは上限が70重量部以下であり、より好ましくは50重量部以下である。防汚染剤の添加量が、上記範囲内にあることにより、十分な防汚染機能が発揮され、かつ、光学積層体の硬度を有するので好ましい。
<反射防止層>
本発明において、反射防止層(D)とは、表面の反射を抑えて、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止するためのものである。反射防止層は、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物の薄膜からなる場合と、アクリル樹脂、フッ素樹脂、有機ケイ素化合物などの屈折率の異なる有機材料を単層あるいは多層に積層させたものからなる場合とがある。また、特開2003−292805号公報に開示されているような無機系化合物と有機系化合物との複合微粒子を含む薄膜を積層させたものも使用できる。酸化ケイ素やフッ化マグネシウムに代表される低屈折率材料と、酸化チタン、酸価ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化錫、ITO等の高屈折率材料とを交互に積層するのも好ましい形態のひとつである。
反射防止層は前記ハードコート層の上に積層されていることが好ましい。反射防止層が単層の場合の厚さは、0.005μm〜1μmが好ましく、0.01μm〜0.5μmがより好ましい。このような単層の反射防止層は、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい、好ましくは屈折率が1.30〜1.45のものである。また、多層に積層する場合は、0.005μm〜1μm、より好ましくは0.01μm〜0.5μm厚の各層を、光学特性に応じて必要な層数まで積層することができる。
また、必要に応じて、前記ハードコート層の場合と同様に、反射防止層(低反射層)用のコーティング剤に有機溶剤の他、適切な単官能重合性モノマー、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、易滑剤、帯電防止剤、防汚剤、防曇剤、防眩剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。さらに、反射防止層の表面に各種コーティング層を設けることができ、帯電防止性、防汚性、すべり性、防眩性、耐擦傷性を付与することもできる。
<積層板>
本発明の積層板は、ポリカーボネート樹脂層(A)、耐熱アクリル樹脂層(B)ハードコート層(C)および反射防止層(D)を含む。本来、その目的から、少なくともポリカーボネート樹脂(A)の片面には耐熱アクリル樹脂層(B)、ハードコート層(C)および反射防止層(D)をこの順序で配する必要がある。
具体的な積層板の構成としては、表面から、(D)/(C)/(B)/(A)、(D)/(C)/(B)/(A)/(C)、(D)/(C)/(B)/(A)/(B)、(D)/(C)/(B)/(A)/(B)/(C)が代表的な構成として挙げられる。(D)/(C)/(B)/(A)の構成は層数や厚みが最も少なく基本的な構成であるが、(D)/(C)/(B)/(A)/(B)、(D)/(C)/(B)/(A)/(B)/(C)の構成となった場合は、より対称的な構成となるため、成形時および、成形後に起こる積層体のソリが生じにくい。
本発明における積層板の総厚みは0.5〜2mmであり、好ましくは0.7〜1.7mm、更に好ましくは0.8〜1.5mmである。総厚みが0.5mm未満であると保護板としての衝撃性や、剛性が保持できない恐れがあり、また、2mmを超えると光線透過率などの光学特性が劣る場合がある。
上記耐熱アクリル樹脂層(B)の厚みは20〜200μmの範囲であり、好ましくは20〜150μmの範囲であり、更に好ましくは40〜120μmの範囲である。20μm未満であると、積層板の耐擦り傷性や鉛筆硬度が低下する場合があり、200μmを超えると積層板表面の耐衝撃性が劣ることがある。
上記ハードコート層(C)の厚みは2〜10μmであり、好ましくは3〜8μm、更に好ましくは4〜7μmである。厚みが2μm未満では耐擦り傷性、鉛筆硬度が十分に発揮できない場合があり、10μmを超えるとハードコートの耐クラック性に劣ることがある。
上記反射防止層(D)の厚みは反射防止層が単層の場合、0.005μm〜1μmが好ましく、0.01μm〜0.5μmがより好ましい。また、多層に積層する場合は、0.005μm〜1μm、より好ましくは0.01μm〜0.5μm厚の各層を、光学特性に応じて必要な層数まで積層することができる。
本発明の積層板においては、ASTM−D−1003に準じた方法で測定された全光線透過率が88%以上、さらに好ましくは90%、最も好ましくは92%であることが好ましい。全光線透過率は、透明性の目安であり、これが88%未満であると、透明性が低下し、本来目的とする用途に使用できない場合がある。さらに、上記の透明性を有した積層板とする場合においては、ASTM−D−1003に準じた方法で測定された曇価が1.5%以下、好ましくは1.0%以下、さらに好ましくは0.5%以下である。曇価は、透明性の目安であり、これが1.5%を越えると、透明性が低下し、本来目的とする用途に使用できない場合がある。
また、本発明の積層板の光学的な均一性を確保するためには、ポリカーボネート樹脂と耐熱アクリル樹脂を共押出して得られる基材積層板(I)表面の算術平均粗さRaが0.5μm以下であることが好ましく、更にこのましくは0.3μm以下、最も好ましくは0.2μm以下である。
本発明における積層板は表面硬度が、JIS K5600−5−4で規定される鉛筆硬度が4H以上であり、好ましくは5H以上、更に好ましくは6H以上である。
本発明における積層板は耐スチールウール性を有する。耐スチールウール性とは、#0000番のスチールウールを一定荷重で10回擦ったときに傷付きがないことを言う。好ましくは、上記、荷重が700gで傷付きがないこと、より好ましくは荷重1000gで傷付きがないこと、さらに好ましくは荷重1500gで傷付きがないこと、最も好ましくは荷重2000gで傷付きがないことである。
本発明の積層板において、耐熱アクリル樹脂層(B)とハードコート層(C)、または、ハードコート層(C)と反射防止層(D)の密着性はJIS K5600−5−6(1999)に基づくクロスカット法において、100マス目中、剥離しなかったマス目が95/100以上であることが好ましく、より好ましくは97/100以上であり、更に好ましくは99/100以上であり、最も好ましくは100/100で剥がれがないことである。
本発明の積層板中のポリカーボネート樹脂層(A)と、耐熱アクリル樹脂層(B)とを積層する方法としては、特に制限はなく、一般的な方法を採用することができる。例えば、各層を別々にシートあるいはフィルム化してから加熱して圧着する方法、少なくともいずれか一方の面にあらかじめ接着剤樹脂を塗布して接着する方法、押し出し機のダイ中において、上記ポリカーボネート樹脂と耐熱アクリル樹脂とを積層させてシートあるいはシート状のものを得る共押出成形法、耐熱アクリル樹脂をあらかじめ真空成形をおこなった後、基材となるポリカーボネート樹脂を射出成形するインモールド成形法などが挙げられる。コスト削減と生産性向上のためには、共押出成形する方法、インモールド成形法が好ましい。特にシート状、フィルム状の積層板を得る際に、コスト、生産性の点で、共押出成形法が好ましい。
上記ハードコート層の積層方法としては、上記ポリカーボネート樹脂層(A)と耐熱アクリル樹脂層(B)を積層後にハードコート層を形成する方法、または、耐熱アクリル樹脂層(B)にハードコート層を形成した後、ポリカーボネート樹脂層(A)と積層する方法などが可能である。ハードコート層の積層方法は特に制限がなく、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、メニスカスコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコート法などを用いることができる。
<積層体の成形方法>
本発明にかかる積層体の製造方法は、ポリカーボネート樹脂と耐熱アクリル樹脂を共押出して得られる該基材積層板(I)の少なくとも片面に該ハードコート層(C)を形成、更に該ハードコート層(C)の表面に該反射防止層(D)を形成してなる製造方法が好ましい。
ポリカーボネート樹脂層(A)の少なくとも片面に耐熱アクリル樹脂層(B)を積層した基材積層板(I)は、次のような共押出しによって製造されることが好ましい。すなわち、ポリカーボネート樹脂を押出す一つの主押出機と、被覆層を構成するアクリル樹脂を押出す副押出機により構成され、通常副押出機は主押出機より小型のものが採用される。主押出機の温度条件は、通常230〜300℃、好ましくは250〜290℃であり、サブ押出機の温度条件は通常220〜290℃、好ましくは240〜280℃である。また、樹脂中の異物を除去するために押出機のTダイより上流側にメッシュやポリマーフィルタなどを設置することが好ましい。
積層板の外観、特にポリカーボネート樹脂層(A)と、耐熱アクリル樹脂層(B)の界面の平滑性を考慮するとマルチマニホールドダイがより好ましい。
成形ロールは3本で構成され、Tダイより共押出しされたシート状成形物はまず、第一ロールと第二ロールの間隙に導かれて、第二ロール表面に接触しながら第三ロールへ導かれる。続いて、シート状成形物が第二ロールと第三ロールの間隙を通過した後、第三ロール表面に接触しながら進み、成形が行われる。ロールは縦型ロールまたは、横型ロールを適宜使用することができる。
これらのロールの温度は通常80〜190℃、好ましくは90〜180℃である。また、第一ロールは弾性ロールであることがより好ましい。第一ロールを弾性ロールとすることにより、積層板(I)の表面平滑性、厚みムラが向上するためである。
また、第二ロールおよび第三ロールへのシート状成形物の接触時間を変える事により、第三ロールと接触する時間が第二ロールの接触時間に比べて少なくなるようにコントロールすることが好ましい。
ポリカーボネート樹脂に比べて、耐熱アクリル樹脂のTgが低い場合や溶融粘度の違いにより、各ロールの温度コントロールだけでは成形安定性と、ソリやうねりなどの積層板(I)の外観を両立することが困難な場合があるためである。すなわち、シート状成形物が各ロールを通過するに従い冷却される過程で、表層樹脂である耐熱アクリル樹脂の冷却が不十分であるとロールへの巻き付きが起こり生産できない場合があり、逆に冷却しすぎると得たれた積層板のソリやうねりが生じる場合がある。
また、得られた基材積層板(I)は延伸することにより、強度を増すことが可能である。延伸される工程や時期は特に限定されないが、好ましくは共押出し成形工程上で、積層シート状成形物が形成されるのに続けて、延伸処理をおこなう方が、基材の温度コントロールや生産性に優れる。
本発明におけるハードコート層(C)の積層方法としては、ポリカーボネート樹脂と耐熱アクリル樹脂を共押出して得られる該基材積層板(I)の少なくとも片面に該ハードコート層(C)を形成してなる積層方法が好ましい。
ハードコート層(C)の積層方法としては、樹脂層や基材積層板へハードコート剤を塗布、必要に応じて、乾燥・硬化する方法が好ましい。ハードコート剤の塗布方法については特に制限がなく、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フローコート法、メニスカスコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコート法などを用いることができる。
密着性を向上させる目的でハードコート剤を塗布する前に、ポリカーボネート樹脂層(A)と耐熱アクリル樹脂層(B)が積層された基材(I)の片面もしくは両面に表面処理を施すことができる。表面処理の具体例としてはサンドブラスト法、溶剤処理法、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理、樹脂組成物によるプライマー処理などが上げられる
本発明における反射防止層(D)の積層方法としては、ポリカーボネート樹脂と耐熱アクリル樹脂を共押出して得られる該基材積層板(I)の少なくとも片面に形成された該ハードコート層(C)の表面に該反射防止層(D)を形成してなる製造方法が好ましい。
反射防止層を形成する方法としては、ウエットコートやドライコート(蒸着またはスパッタリング)を行う方法、および、反射防止フィルムを積層させる方法が挙げられる。
ウエットコートは、低屈折率のフッ素樹脂や有機ケイ素化合物、アクリル樹脂などの主に有機材料を単層あるいは多層に積層する場合に用いられる。また、金属酸化物を微細粒子化し、バインダーに分散させた塗料あるいはゾル−ゲル法によって製膜することも可能である。上記ハードコート層(C)の積層方法と同様、コーティング剤を塗布、必要に応じて、乾燥・硬化する方法が好ましい。塗布方法については特に制限がなく、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フローコート法、メニスカスコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコート法などを用いることができる
上記有機材料は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、ハードコート層(4)に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらを単独、もしくは2種類以上合わせて用いても良い。
ドライコートは酸化ケイ素やフッ化マグネシウムに代表される低屈折率材料、および、酸化チタン、酸価ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化錫、ITO等の高屈折率材料などの主に無機材料を単層あるいは多層に積層する場合に用いられ、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等の気相成長法があげられる。
本発明におけるポリカーボネート樹脂層(A)、耐熱アクリル樹脂層(B)、ハードコート層(C)、および反射防止層(D)の各材料は、必要に応じてフィルタ処理により濾過精製されることが好ましい。濾過精製した材料を用いて各層を成形、更に積層させることにより、異物や欠点の少ない積層体が得られる。濾過方法としては特に限定されず、溶融濾過、溶液濾過、あるいはそれらの組合せなどを用いることができる。
使用されるフィルタは特に限定されず、公知のものが使用でき、各材料の使用温度、粘度、濾過精度により適宜選択される。フィルタの濾材としては、特に限定はされないが、ポリプロピレン、コットン、ポリエステル、ビスコースレーヨン等、グラスファイバー等の不織布あるいはロービングヤーン巻物、フェノール樹脂含浸セルロース、金属繊維不織布焼結体、金属粉末焼結体、金網を複数枚積層したタイプ、あるいはそれらを組み合わせたハイブリッドタイプ等、いずれでも使用可能である。中でも耐熱性や耐久性、耐圧力性の観点から金属繊維不織布を焼結したタイプが好ましい。
濾過精度は、使用されるポリカーボネート樹脂、耐熱アクリル樹脂に関しては50μm以下、好ましくは30μm以下、更に好ましくは10μm以下、最も好ましくは5μm以下である。また、ハードコート剤の濾過精度は、積層板の最表面にくることから、20μm以下、好ましくは10μm以下、更に好ましくは5μm以下、最も好ましくは3μm以下である。
ポリカーボネート樹脂層(A)、耐熱アクリル樹脂層(B)の各材料の濾過については例えば熱可塑性樹脂の溶融濾過に用いられているポリマーフィルタで処理することが好ましい。ポリマーフィルタは、その構造によって、リーフディスクフィルタ、キャンドルフィルタ、パックディスクフィルタ、円筒型フィルタなどに分類できるが、中でも有効濾過面積が高いリーフディスクフィルタが好適である。
<用途>
本発明の積層板は、光学特性、高い表面硬度(耐擦り傷性)、機械的強度や耐衝撃性とを兼ね備えたものであるので、自動販売機カバーや照明カバー等のカバー類、看板、道路透光板、防音壁、採光板、道路シェルター、カーポート等の土木建築材料類、建築用グレージング材、各種車両用グレージング材、バスタブ材料類、自動車用内装部品、ガーニッシュ等の車両外装類、各種家庭用品用シート、食品や医薬品等の包装材料等に好適に使用することができる。また、液晶ディスプレー、有機ELディスプレー、プラズマディスプレーの表示装置用前面板として使用することができ、特にパソコン、ゲーム機、PDA、携帯端末機器に使用される液晶ディスプレーや有機ELディスプレー等に好適に用いることができる。
ものではない。実施例、比較例中の各種物性の測定及び評価は以下の方法で行った。
<鉛筆硬度>
JIS K5600−5−4に準拠し、750g荷重でサンプル(反射防止層が積層されている場合は反射防止層側の面)に対して測定を行った。
<耐擦傷性>
#0000番のスチールウールを一定荷重でサンプル(反射防止層が積層されている場合は反射防止層側の面)に押しつけ、ストローク幅25mm、30mm/secで所定回数往復摩擦したあとの表面を目視で観察し、Aは傷が0本、Bは傷が1〜10本、Cは傷が11本以上、に分類して評価した。スチールウールは直径約10mmにまとめ、表面が均一になるようにカット、摩擦して均したものを使用した。
<密着性>
JIS K5600−5−6に準拠し、サンプル(反射防止層が積層されている場合は反射防止層側の面)を試験し、ハードコート層や反射防止層の剥離が発生しなかったマス目の数を数えた。
<ガラス転移温度>
樹脂の熱分析は、試料約10mg、昇温速度10℃/min、窒素フロー50cc/minの条件で、DSC((株)リガク社製、装置名:DSC−8230)を用いて行った。なお、ガラス転移温度(Tg)は、ASTM−D−3418に従い、中点法により求めた。
<反射防止性>
積層板を液晶表示装置の前面に設置し、外光の映り込みの影響が無く液晶表示の視認性が良好なものを○、外光の映り込みの影響により液晶表示の視認性が悪かったものを×として、目視評価した。
<ダイナミックTG>
樹脂(もしくは重合体溶液あるいはペレット)を一旦テトラヒドロフランに溶解もしくは希釈し、過剰のヘキサンもしくはメタノールへ投入して再沈殿を行い、取り出した沈殿物を真空乾燥(1mmHg(1.33hPa)、80℃、3時間以上)することによって揮発成分などを除去し、得られた白色固形状の樹脂を以下の方法(ダイナミックTG法)で分析した。
測定装置:Thermo Plus2 TG−8120 Dynamic TG((株)リガク社製)
測定条件:試料量 5〜10mg
昇温速度:10℃/min
雰囲気:窒素フロー 200ml/min
方法:階段状等温制御法(60℃〜500℃の間で重量減少速度値0.005%/sec以下で制御)
<重合体中の揮発分測定>
樹脂中に含まれる残存揮発分量は、ガスクロマトグラフィー(島津製作所社製、装置名:GC−14A)を用いて測定を行った。
<異物数の測定>
成形品を20wt%となるように精製されたクロロホルム溶液に溶解し、直径47mm、濾過精度1μのテフロンフィルターで吸引を行い、テフロンフィルター上に残存する異物を顕微鏡下目視で計測した。20μm以上の異物とは、異物の最も大きな径が20μm以上である異物を意味するものである。
[製造例1](耐熱アクリル樹脂の製造)
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた容量30Lの釜型反応器に、8,000gのメタクリル酸メチル(MMA)、2,000gの2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)、10,000gのトルエンを仕込み、これに窒素を通じつつ、105℃まで昇温し、還流したところで、重合開始剤として10.0gのt−アミルパーオキシイソノナノエート(ルパゾール570、アトフィナ吉富(株)製)を添加すると同時に、20.0gのt−アミルパーオキシイソノナノエートと100gのトルエンとからなる溶液を2時間かけて滴下しながら、還流下、約105〜110℃で溶液重合を行い、さらに4時間かけて熟成を行った。
[製造例2](基材積層体の製造1)
ポリカーボネート樹脂(帝人化成(株)製、パンライトL1225Z100)の押出しには、バレル直径65mm、スクリュウのL/D=32の単軸押出機(主押出機)を使用し、シリンダー温度270℃に設定した。また、被覆層を形成する耐熱アクリル樹脂(製造例1、b−1)の押出しには、バレル直径32mm、スクリュウのL/D=32の単軸押出機(副押出機)を使用し、シリンダー温度は270℃に設定した。主押出機と副押出機の吐出量比は主/副=7/1となるように設定した。マルチマニホールドダイを使用し、2種類の樹脂を同時に溶融共押出しすることによってポリカーボネート樹脂層(A)の両面に耐熱アクリル樹脂層(B)を積層した基材積層体(I−1)を製造した。ダイ内で積層一体化された樹脂は、鏡面仕上げされた横型配置の3本のポリッシングロールで冷却した。ロール温度は、1番ロール温度105℃、2番ロール温度95℃、3番ロール温度120℃に設定した。最初に1番ロールと2番ロールの隙間でバンクを形成した後、2番、3番ロールを通過させ、4m/分の速度で引き取り積層板を成型した。得られた基材積層板(I−1)の全厚みは0.82mm、両表面の耐熱アクリル樹脂層(B)の厚みは両層とも50μmであった。
[製造例3](基材積層体の製造2)
主押出機と副押出機の吐出量比は主/副=7/1となるように設定し、マルチマニホールドダイの構成を2層用に変更して、2種類の樹脂を同時に溶融共押出しする以外は製造例1と同様にしてポリカーボネート樹脂層(A−1)の片面に耐熱アクリル樹脂層(B−1)を積層した基材積層体(I−2)を製造した。ダイ内で積層一体化された樹脂は、鏡面仕上げされた横型配置の3本のポリッシングロールで冷却した。最初に1番ロールと2番ロールの隙間でバンクを形成した後、2番、3番ロールを通過させ、4m/分の速度で引き取り積層板を成型した。得られた基材積層板(I−2)の全厚みは0.80mm、表面の耐熱アクリル樹脂層(B)の厚みは95μmであった。
[製造例4](ハードコート用組成物の製造1)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート85重量部と、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド3重量部と、トリシクロデカニルアクリレート3重量部と、屈折率1.49、平均粒径3.0μmの球状アクリル粒子10重量部と、フッ素系防汚染剤(ディフェンサTF3004;大日本インキ製)3重量部と、光開始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン1重量部とを、ホモミキサーを用いてメチルエチルケトン中に、濃度が70%になるように混合、溶解し、精度20μmのフィルタでろ過処理を行って、ハードコート用組成物(c−1)を製造した。
[製造例5](ハードコート用組成物の製造2)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート85重量部と、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド3重量部と、トリシクロデカニルアクリレート3重量部と、屈折率1.49、平均粒径1.3μmの二酸化珪素微粒子10重量部と、シリコーン系防汚染剤(SUA1900L6;新中村化学製)3重量部と、光開始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン1重量部とを、ホモミキサーを用いてメチルエチルケトン中に、濃度が70%になるように混合、溶解し、精度20μmのフィルタでろ過処理を行って、ハードコート用組成物(c−2)を製造した。
[製造例6](ハードコート用組成物の製造3)
メチルトリメトキシシラン100重量部に、酢酸1部を混合した後、氷浴で冷却し攪拌を行いながら温度を0〜10℃に保持し、次いでスノーテックス30(商品名:日産化学工業(株)製、コロイダルシリカ30wt%、平均粒径10〜20nm)84部を滴下した。滴下後、温度を10℃に保持し4時間攪拌を行った後、更にスノーテックスIBA−ST(商品名:日産化学工業(株)製、コロイダルシリカ25〜26wt%、平均粒子径10〜20nm)84部を滴下し、20℃で50時間攪拌を継続し熟成を行った。次に、酢酸セロソルブ45部、イソブチルアルコール50部及びKP−341(商品名:信越化学工業(株)製、ポリオキシアルキレングリコールジメチルシロキサン共重合体)0.02部を室温下で1時間かけて滴下混合し、更に硬化触媒としてテトラメチルアンモニウムアセテートを0.02部を室温下で1時間かけて滴下混合し塗料を調製した。調製後、紫外線吸収剤として2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンを塗料中の樹脂分100部に対して10部添加した後、精度1μmのフィルタでろ過処理を行い、ハードコート用組成物(c−3)を完成させた。
[製造例7](低屈折率コーティング剤の製造)
攪拌機、温度計、および冷却管を備えた300mlの四つ口フラスコに、テトラメトキシシラン144.5g、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン23.6g、水19.0g、メタノール30.0g、アンバーリスト15(オルガノ社製の陽イオン交換樹脂)5.0gを入れ、65℃で2時間攪拌し、反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、冷却管に代えて蒸留塔、これに接続させた冷却管および流出口を設け、常圧下でフラスコ内温約80℃まで2時間かけて昇温シ、メタノールが流出しなくなるまで同温度で保持した。さらに、2.67×10kPaの圧力下、90℃の温度で、メタノールが流出しなくなるまで保持し、反応をさらに進行させた。再び、室温まで冷却した後、アンバーリスト15を濾別し、数平均分子量が1800の重合性ポリシロキサン(M−1)を得た。
(実施例1)
製造例2で得られた基材積層体I−1に対して、製造例4で得られたハードコート用組成物c−1をバーコータで塗布し、70℃、1分間の条件でオーブンにて溶媒を除去した後、1000mJ/cm2の条件で紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層を作成した。更に、反対側の面も同様に処理し、両面にハードコートを有する積層体を得た。得られたハードコート層の厚みは両層とも8μmであった。
次に、次に、この両面にハードコートを有する積層体の片面に、製造例7に記載の低屈折率コーティング剤(d−1)を塗布し、100℃で1時間硬化させ、膜厚0.1μmの低屈折率の反射防止層(D−1)を形成、反射防止層を有する積層板を得た。この積層板の評価結果を表−1に示した。
(実施例2)
実施例1と同様に両面にハードコートを有する積層体を作成、次に、この両面にハードコートを有する積層体の片面に、真空蒸着法によりハードコート層側から二酸化珪素、酸化チタン、二酸化珪素の薄膜を各々厚みが140nmになる様に3層積層(D−2)し、反射防止層を有する積層板を得た。この積層板の評価結果を表−1に示した。
(実施例3、4)
ハードコート用組成物を製造例5で得られたハードコート用組成物c−2に変更した以外は実施例1または2と同様にして、反射防止層を有する積層板を得た。この積層板の評価結果を表−1に示した。
(実施例5〜6)
ハードコート用組成物を製造例6で得られたハードコート用組成物c−3に変更し、硬化条件を変更(塗布後に室温下で15分間風乾した後、125℃の熱風乾燥機内で120分間硬化)した以外は実施例1または2と同様にして、反射防止層を有する積層板を得た。この積層板の評価結果を表−1に示した。
(比較例1)
被覆層を形成する樹脂に一般のアクリル樹脂(住友化学(株)製 スミペックスEX、Tg:108℃)を用い、副押出機のバレル温度を260℃、ポリッシングロールの温度を1番ロール温度105℃、2番ロール温度95℃、3番ロール温度100℃に設定した以外は実施例1と同様に、ポリカーボネート樹脂層の両面にアクリル樹脂層を積層した基材積層板(I−3)を成型した。製造例4で得られたハードコート用組成物c−1をバーコータで塗布し、70℃、1分間の条件でオーブンにて溶媒を除去した後、1000mJ/cm2の条件で紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層を作成した。更に、反対側の面も同様に処理し、両面にハードコートを有する積層体を得た。得られたハードコート層の厚みは8μmと7μmであった。
次に、次に、この両面にハードコートを有する積層体の片面に、製造例7に記載の低屈折率コーティング剤(d−1)を塗布し、100℃で1時間硬化させ、膜厚0.1μmの低屈折率の反射防止層(D−1)を形成、反射防止層を有する積層板を得た。この積層板の評価結果を表−1に示した。
ハードコート層を作成しない以外は実施例1と同様に積層体を作成、評価した。評価結果を表1に示す。
(比較例3)
反射防止層を作成しない以外は実施例1と同様に積層体を作成、評価した。評価結果を表1に示す。
(実施例7〜12)
基材積層体を製造例2で得られた基材積層体I−2に変更した以外は、実施例1〜6と同様に反射防止層を有する積層板を得た。なお、反射防止層は下層に耐熱アクリル層を有するハードコート層面のみに作成した。この積層板の評価結果を表−2に示した。
Claims (3)
- ポリカーボネート樹脂層(A)、耐熱アクリル樹脂層(B)およびハードコート層(C)を有する積層板であって、下記の条件を満足する積層板。
(イ)該積層板の全厚みが0.5〜2mm
(ロ)該耐熱アクリル樹脂層(B)の厚みが20〜200μm
(ハ)該ハードコート層(C)の厚みが2〜10μm
(ニ)反射防止層(D)を有する - 前記耐熱アクリル樹脂層(B)が主鎖に環構造を含有する請求項1に記載の積層板。
- 請求項1〜2のいずれか1項に記載の積層板からなる表示装置用前面板。
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