JP2010058011A - 純水製造装置 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 166
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 50
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 238000009296 electrodeionization Methods 0.000 claims description 49
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 15
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 14
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 8
- 238000011033 desalting Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005115 demineralization Methods 0.000 description 5
- 230000002328 demineralizing effect Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 4
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000003011 anion exchange membrane Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
【解決手段】一対の電極間に形成された脱塩室2aに被処理水を流入させる脱塩室流入ライン3と、濃縮室2bに被処理水を流入させる濃縮室流入ライン5と、脱塩室流入ライン3および濃縮室流入ライン5に被処理水を供給する給水ポンプ14と、脱塩室2aにおいてイオンが除去された処理水が流出する処理水流出ライン4と、濃縮室2bにおいてイオンが濃縮された濃縮水を排水する濃縮水排水ライン6と、処理水流出ライン4に設けられ、処理水流出ライン4に流れる処理水の流量を検出する流量センサ11と、流量センサ11の流量検知信号に基づいて給水ポンプ14の速度を制御する制御部とを備える。
【選択図】図1
Description
2 処理水タンク
3 電気脱イオン装置
4 電源装置
5 制御部
6 起動スイッチ
7 切換弁
8 脱イオン水ライン
10 第1レベルスイッチ
11 第2レベルスイッチ
12 制御部
13 流量調整弁
Claims (3)
- 被処理水を処理する逆浸透膜装置と、
前記逆浸透膜装置で処理した処理水を貯留する処理水タンクと、
前記処理水タンクから供給される処理水を処理する電気脱イオン装置と、
前記電気脱イオン装置で処理された脱イオン水を排出する脱イオン水ラインと、
前記脱イオン水ラインから切換弁を介して分岐し、脱イオン水を前記処理水タンクにリターンさせるリターンラインと、
前記脱イオン水ラインと前記リターンラインとの分岐部に設けられ、脱イオン水を前記リターンラインに流す循環運転と脱イオン水ラインに流す非循環運転とに切換える切換弁と、
前記電気脱イオン装置に直流電圧および/または直流電流を印加する電源装置と、
前記電気脱イオン装置の起動時に、前記切換弁を前記リターンラインに切換えるとともに、前記電源装置により通常運転時より高い直流電圧および/または直流電流を印加する制御を行う制御部と、を備えることを特徴とする純水製造装置。 - 被処理水を処理する逆浸透膜装置と、
前記逆浸透膜装置で処理した処理水を貯留する処理水タンクと、
前記処理水タンクから供給される処理水を処理する電気脱イオン装置と、
前記電気脱イオン装置で処理された脱イオン水を排出する脱イオン水ラインと、
前記脱イオン水ラインから分岐し、脱イオン水を前記処理水タンクにリターンさせるリターンラインと、
前記脱イオン水ラインと前記リターンラインとの分岐部に設けられ、脱イオン水を前記リターンラインに流す循環運転と脱イオン水ラインに流す非循環運転とに切換える切換弁と、
前記電気脱イオン装置に直流電圧および/または直流電流を印加する電源装置と、
前記処理水タンクに設けられた貯水レベル検知用のレベルセンサと、
貯水レベルが所定以下に低下したとき、前記レベルセンサの検知信号に基づいて、前記切換弁を循環運転に切換える制御部と、を備えたことを特徴とする純水製造装置。 - 前記電気脱イオン装置への流量を調整する流量調整弁を備え、
前記制御部は、前記切換弁を循環運転に切換えたとき、前記流量調整弁を絞り、かつ前記電源装置の印加電圧を低下させる制御を行うことを特徴とする請求項2記載の純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2008224108A JP4978591B2 (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2008224108A JP4978591B2 (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2010058011A true JP2010058011A (ja) | 2010-03-18 |
| JP4978591B2 JP4978591B2 (ja) | 2012-07-18 |
Family
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Family Applications (1)
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| JP2008224108A Expired - Fee Related JP4978591B2 (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 純水製造装置 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP4978591B2 (ja) |
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