JP2008229506A - 純水製造システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】純水製造システムは、RO装置4とこの処理水ラインL1に設けたシリカセンサ7と電気脱イオン装置6とを備える。電気脱イオン装置6の処理水ラインL2に流量コントロール可能な三方弁8を設け、ろ過水槽3への循環ラインL4と、サブシステムへの送水ラインL3とを設ける。原水水質が変動したり、RO装置4の膜が劣化したりしてシリカセンサ7によるRO処理水W2のシリカ濃度の測定結果が基準値を超えた場合には、電気脱イオン装置6の処理水の一部をろ過水槽3に戻しRO装置4のシリカ濃度を低減させてRO処理水W2の水質を改善し、これにより電気脱イオン装置6への給水の水質を改善する。
【選択図】図1
Description
まず、原水槽Tから供給される原水W0に対し、膜式前処理装置1で濁質成分を除去した後、活性炭塔2で有機物を除去する。続いて、この前処理後の被処理水を純水製造システムに導入する。
Q1/(Q1+Q6)=Q1/Q2
図1に示す超純水製造装置において、電気脱イオン装置6の処理水量を25m3/hとして、表1に示すシリカ濃度24mg/Lの原水の処理を行ったところ、シリカセンサ7によるRO処理水W2のシリカ濃度が0.7mg/Lであったので、三方弁8を制御して循環ラインL4を閉鎖して定常運転を行った。
前記参考例において、シリカ濃度32mg/Lの原水の処理を行ったところ、シリカセンサ7によるRO処理水W2のシリカ濃度が1.0mg/Lと基準値を超えるものであったので、三方弁8を制御して循環ラインL4の水量(Q6)を10m3/h(送水ラインL3の水量(Q7)を15m3/h)として、連続的に処理を行った。
実施例1において、電気脱イオン装置6の処理水W3をろ過水槽3に戻さない(Q6=0)ことにより、模擬的に従来の純水製造システムとして、同様にシリカ濃度32mg/Lの原水の処理を行った。
4…RO装置(逆浸透膜モジュール)
6…電気脱イオン装置
7…シリカセンサ(水質測定器)
8…三方弁(分流機構)
L2…処理水ライン
L3…送水ライン
L4…循環ライン
W1…RO原水
W2…RO処理水(電気脱イオン装置原水)
W…純水
Claims (4)
- 逆浸透膜モジュールからの処理水ラインに電気脱イオン装置を設けた純水製造システムであって、
前記逆浸透膜モジュールの処理水ラインの前記電気脱イオン装置より上流側に水質測定器を設けるとともに、前記逆浸透膜モジュールの処理水ライン又は電気脱イオン装置の処理水ラインに流量調整可能な分流機構を設け、この分流機構に逆浸透膜モジュールの原水槽への循環ラインを接続するとともに、前記分流機構の制御機構を設けたことを特徴とする純水製造システム。 - 前記制御機構は、前記水質測定器の計測値が設定値を超えていたら、前記逆浸透膜モジュールの処理水の一部又は電気脱イオン装置の一部を逆浸透膜モジュールの原水槽へ前記循環ラインから所定流量を戻すように前記分流機構を制御することを特徴とする請求項1に記載の純水製造システム。
- 前記水質測定器が、シリカ、カルシウム又は炭酸濃度を測定するものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の純水製造システム。
- 前記分流機構が、三方弁であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の純水製造システム。
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