JP2010051351A - アイソレータシステム - Google Patents

アイソレータシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2010051351A
JP2010051351A JP2008216501A JP2008216501A JP2010051351A JP 2010051351 A JP2010051351 A JP 2010051351A JP 2008216501 A JP2008216501 A JP 2008216501A JP 2008216501 A JP2008216501 A JP 2008216501A JP 2010051351 A JP2010051351 A JP 2010051351A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
decontamination
decontamination gas
isolator
gas supply
pass box
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008216501A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4924570B2 (ja
Inventor
Kazuhito Tanimoto
和仁 谷本
Masaomi Shioya
正臣 塩谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibuya Corp
Original Assignee
Shibuya Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibuya Kogyo Co Ltd filed Critical Shibuya Kogyo Co Ltd
Priority to JP2008216501A priority Critical patent/JP4924570B2/ja
Publication of JP2010051351A publication Critical patent/JP2010051351A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4924570B2 publication Critical patent/JP4924570B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M37/00Means for sterilizing, maintaining sterile conditions or avoiding chemical or biological contamination

Abstract

【課題】アイソレータ本体の通常の除染工程は、HEPAフィルタ20、24を通さずに行う。
【解決手段】アイソレータ本体2とパスボックス4が連結され、連通口6を内部扉8により開閉可能にする。アイソレータ本体2と除染ガス供給装置38とを除染ガス供給通路46と除染ガス排出通路50により接続し循環通路を構成する。アイソレータ本体2への気体流入部16aと排出部22aにそれぞれHEPAフィルタを20、24設ける。パスボックス4にも、除染ガス供給装置38との間に往路と復路を有する循環通路を構成する。さらに、アイソレータ本体2に、HEPAフィルタを通さずに除染ガスを供給する第2除染ガス供給通路52を設ける。内部扉8を開き、パスボックス循環通路により除染ガスを循環させるとともに、アイソレータ本体2内に第2除染ガス供給通路52から除染ガスを供給する。
【選択図】図2

Description

本発明は、内部を無菌状態に維持して物品の処理等を行うアイソレータ本体と、このアイソレータ本体に連結されたパスボックスを備えたアイソレータシステムに係り、特に、アイソレータ本体内への気体の流入部および流出部に設けられたフィルタを介して気体の給排を行うアイソレータシステム関するものである。
特許文献1には、換気・ろ過回路を備えた気密容器(本発明のアイソレータ本体に相当する)を殺菌する方法が開示されている。この特許文献1に記載された密閉容器は、供給管と吐出管とを有する換気・ろ過回路を設けている。供給管にはファンを設け、フィルタを介して空気を密閉容器内の空間に送風する。供給管内のフィルタの上流側に弁が配置されている。また、吐出管も密閉容器に隣接する部分にフィルタを設け、フィルタの下流側に弁が設けられている。密閉容器の正常な作業条件では、弁が開かれてファンが作動され、密閉容器内の雰囲気の換気は、フィルタを介して行われる。
密閉容器の使用前にこの容器内の作業空間を殺菌しなければならないので、前記密閉容器およびその換気・ろ過回路に殺菌装置が設けられている。殺菌装置は、密閉容器内に殺菌剤を導入するために使用される閉回路を含む。この閉回路は、ブロアと定レベル蒸発器と殺菌剤を蒸発器へ供給するタンクを含んでいる。閉回路の吸入管は、換気・ろ過回路の吐出管のフィルタと弁の間に接続されており、吐出管の近くに電動弁を設けている。また、閉回路の吐出管は、換気・ろ過回路の供給管の弁とフィルタの間に接続され、供給管の近くに電動弁を設けている。
前記殺菌装置を用いて密閉容器内を殺菌する時には、タンク内の殺菌剤を密閉容器内の空間に導入するために閉回路が運転される。換気・ろ過回路の弁を閉じ、閉回路の電動弁を開放して、蒸発器に殺菌剤を供給するとともに、ブロアを運転する。ブロアは、密閉容器内の空間内に含まれる空気を閉回路を介して蒸発器内へ循環させる。
前記特許文献1に記載された発明の構成のように、密閉容器(アイソレータ)内を殺菌する場合に、換気・ろ過回路のフィルタを介して殺菌剤、除染剤を循環させる構成は、広く行われているが、例えば、過酸化水素蒸気のような殺菌剤あるいは除染剤を、フィルタを介してアイソレータ等の密閉容器に導入し、フィルタを介して排出して循環させると、フィルタに吸着されてしまうため、ロスが多く効率が悪くなってしまう。また、フィルタに吸着した除染ガス成分を除去するためにエアレーション時間が長くなってしまうという問題があった。
このような課題を解決するための除染システムが提案されている(特許文献2参照)。この特許文献2に記載された発明は、クリーンルーム内を過酸化水素ガス(除染ガス)により除染するもので、過酸化水素ガス供給管の端部を、クリーンルームの上部を区画する多孔性隔壁板とHEPAフィルタとの間に形成された挟間隙に配設している。そして、過酸化水素ガス供給管から過酸化水素ガスを吐出し、挟間隙に一時的に過酸化水素ガスを滞留させてから、多孔性隔壁板を介して徐々にクリーンルーム内に過酸化水素ガスが流出するようにしている。
特開昭63−258731号公報(第3−5頁、図1) 特開2008−113727号公報(第4−6頁、図2) 特開2006−68122号公報(第2−3頁、図1)
特許文献2に記載した発明では、HEPAフィルタと多孔性隔壁板との間の間隙に除染ガスを導入し、徐々に多孔性隔壁板を通過させてクリーンルーム内に導入するようにしているが、クリーンルーム内でワークの除染を行った後、上下方向の流通路を通ってHEPAフィルタの一次側(HEPAフィルタを通過する気体の入口側)に循環させるようになっているので、特許文献1と同様に除染ガスがHEPAフィルタに吸着されてロスを生じるとともに、エアレーションに時間がかかるという問題が発生する。
また、特許文献3に示すように、本発明と同様にアイソレータとパスボックス(この特許文献3では滅菌庫と呼んでいる)を連結した構成のアイソレータシステムがすでに知られているが、このような構成の場合も、前記特許文献1と同様の工程により滅菌あるいは除染を行っているので、同じ問題が発生する。
本発明は前記課題を解決するためになされたもので、HEPAフィルタを通さずにアイソレータ本体内の除染を行えるようにしたアイソレータシステムを提供することを目的とするものである。
本発明は、内部が無菌状態に維持されるアイソレータ本体と、このアイソレータ本体に接続され、アイソレータ本体内への物品の搬入または搬出を行うパスボックスと、アイソレータ本体の気体流入部および気体流出部にそれぞれ設けられたフィルタ手段と、前記アイソレータ本体内およびパスボックス内に除染ガスを供給する除染ガス供給手段と、前記除染ガス供給手段とアイソレータ本体の気体流入部および気体流出部とをそれぞれ接続する除染ガス供給通路および除染ガス排出通路を有する除染ガス循環通路と、前記除染ガス供給手段と前記パスボックス内とを接続する往路および復路を有するパスボックス循環通路と、アイソレータ本体内とパスボックス内との連通口を開閉する内部開閉手段とを備えたアイソレータシステムにおいて、前記除染ガス供給手段とアイソレータ本体内とを、前記フィルタ手段を介さずに接続する第2の除染ガス供給通路を設け、前記内部開閉手段を開放した状態で、前記第2の除染ガス供給通路からアイソレータ本体内に除染ガスを供給し、パスボックス内を通してパスボックス循環通路から除染ガスを排出させてアイソレータ本体内とパスボックス内を除染する第1の除染動作と、前記除染ガス循環通路によりアイソレータ本体内を通して除染ガスを循環させ、前記フィルタ手段を除染する第2の除染動作とを実行可能に構成したことを特徴とするものである。
本発明のアイソレータシステムは、フィルタ手段が設けられているアイソレータ本体の気体流入部と気体流出部を通さずに、除染ガス供給手段からアイソレータ本体内に除染ガスを供給する第2の除染ガス供給通路を設けたことにより、除染ガスがフィルタに吸着されてロスを生じることがなく、また、フィルタに吸着された除染ガスを除去するためのエアレーションに時間を掛ける必要もないという効果を奏する。
内部が無菌状態に維持されるアイソレータ本体と、このアイソレータ本体内に物品を搬入搬出するパスボックスと、これらアイソレータ本体とパスボックスとの間の連通口を開閉する内部開閉手段と、除染ガス供給手段からアイソレータ本体の気体流入部を通ってアイソレータ本体内に除染ガスを供給する除染ガス供給通路および気体流出部から前記除染ガス供給手段に還流させる除染ガス排出通路を有する除染ガス循環通路と、前記アイソレータ本体の気体流入部および流出部にそれぞれ設けられたフィルタ手段と、パスボックスと前記除染ガス供給手段とを接続する往路と復路を有するパスボックス循環通路とを備えており、さらに、前記除染ガス供給手段とアイソレータ本体内とを、前記フィルタ手段を介さずに接続する第2の除染ガス供給通路を設け、第1の除染動作では、前記内部開閉手段を開放してアイソレータ本体内とパスボックス内とを連通した状態で、前記パスボックス循環通路によって除染ガスを循環させるとともに、前記第2除染ガス供給通路からアイソレータ本体内に除染ガスを供給して、アイソレータ本体内とパスボックスとの除染を行い、第2の除染動作では、前記除染ガス循環通路によりフィルタを通してアイソレータ本体内に除染ガスを循環させるようにしたので、アイソレータ本体内の除染を、フィルタを通さずに実施することを可能にするという目的を達成する。
以下、図面に示す実施例により本発明を説明する。図1は本発明の一実施例に係るアイソレータシステムの全体の構成を示す回路図である。図において、2はアイソレータ本体であり、内部を無菌状態に維持して、その内部に収容された物品の処理を行う。このアイソレータ本体2には、内部で処理をする物品を外部から搬入し、また、外部へ搬出するためのパスボックス4が連結されている。パスボックス4は、アイソレータ本体2の一方の側壁2a(図1の右側の側壁)の下部寄りに取り付けられている。これら両チャンバー2、4が連結された壁面2aを貫通して、物品の受け渡しや気体の流通を行う開口部(連通口6)が形成されており、この連通口6を開閉する開閉手段としての扉8(内部扉)が設けられている(この内部扉8が、請求項1に記載した内部開閉手段を構成している)。また。パスボックス4の他方の壁面4a(図1の右側の壁面)には、このパスボックス4内へ物品を搬入し、また、搬出するための開口部10が設けられており、この開口部10が、外部扉12(外部開閉手段)によって開閉される。
アイソレータ本体2には、前面側の壁面2bに一対のグローブ14が取り付けられており、作業者がこのグローブ14を介してアイソレータ本体2内に手を挿入して、アイソレータ本体2内に収容された物品の処理を行う。
前記アイソレータ本体2の天面2c上に気体供給室16が設けられており、この気体供給室16内に複数の給気ファン18が設置されている。これらの給気ファン18は、アイソレータ本体2内に気体を均等に送り込めるように複数個配置されており、圧力センサ19の検出結果に基づいてアイソレータ本体2を所定の陽圧に維持するようになっている。給気ファン18が設置された気体供給室16の下面側の、アイソレータ本体2の内部への気体流入部16aに、HEPAフィルタ20が取り付けられている。給気ファン18によって外部からアイソレータ本体2内に送られる気体は、このHEPAフィルタ20を通過して浄化される。また、アイソレータ本体内2には、拡散ファン21が設けられており、アイソレータ本体2内に供給された過酸化水素蒸気を拡散させてすみずみまで行き渡らせるようにしている。
アイソレータ本体2の、前記パスボックス4が取り付けられている壁面2aと逆の側壁2d(図1の左側の壁面)の下部に、気体排出室22が設けられている。アイソレータ本体2の内部から気体排出室22へ気体が流出する部分(気体流出部22a)にHEPAフィルタ24が取り付けられており、アイソレータ本体2内から気体排出室22に排出される気体は、このHEPAフィルタ24によって浄化される。
前記気体供給室16には、エア供給通路26が接続されており、給気ファン18の作動によって、このエア供給通路26から前記HEPAフィルタ20を介してアイソレータ本体2内に外部のエアを導入することができる。また、気体排出室22には、エア排出通路28が接続されており、前記給気ファン18の作動によって、アイソレータ本体2内に導入されたエアをこのエア排出通路28から外部に排出することができる。エア供給通路26とエア排出通路28には、それぞれ触媒30、32が設けられている。後に説明する除染ガスが含まれたエアがエア排出通路28から排出される際に、このエア排出通路28に設けられた触媒32によって分解されて無毒化される。また、エア供給通路26の入口側開口と、エア排出通路28の出口側開口にはそれぞれ蓋34、36が取り付けられるようになっており、エアの給排時にはこの蓋34、36を外し、エアを給排しないときには蓋34、36を取り付けて各通路26、28を封止するようになっている。なお、この実施例では、エア供給通路26およびエア排出通路28には、開閉が制御されるバルブを設けず、蓋34、36によって封止するようにしているが、人為的ミスにより蓋34、36を閉じ忘れることがあっても、触媒30、32によって分解され無毒化されるため、アイソレータ本体2内の除染ガスが含まれた有害な気体が外部に漏れ出ることはない。
アイソレータ本体2の気体供給室16に、蒸発器からなる除染ガス供給装置38が接続されている。この除染ガス供給装置38には、過酸化水素(H2O2)等の除染用の薬剤を貯留したタンク40が接続されており、除染材供給通路42に設けたポンプ44によってこのタンク40から一定量ずつ過酸化水素溶液が供給される。除染ガス供給装置38に供給された過酸化水素溶液は、この除染ガス供給装置38内で蒸発して除染ガスとしての過酸化水素蒸気となる。除染ガス供給装置38の吐出側に接続された除染ガス供給通路46(以下、第1除染ガス供給通路と呼ぶ)が前記気体供給室16に接続されており、除染ガス供給装置38で生成された過酸化水素蒸気が、気体供給室16内の給気ファン18の作動によって、第1除染ガス供給通路46から気体供給室16内に導入され、気体導入部16aのHEPAフィルタ20を介して、アイソレータ本体2内に供給される。この第1除染ガス供給通路46には開閉バルブ48が設けられており、第1除染ガス供給通路46の連通遮断をすることにより、過酸化水素蒸気の供給停止を行うようになっている。
また、気体排出室24には、アイソレータ本体2内から過酸化水素蒸気を排出する除染ガス排出通路50が接続されている。この除染ガス排出通路50は、前記除染ガス供給装置38の戻り側に接続されており、気体排出室24寄りに開閉バルブ51が設けられている。前記除染ガス供給装置38、第1除染ガス供給通路46、気体供給室16、HEPAフィルタ20、アイソレータ本体2、HEPAフィルタ24、気体排出室22および除染ガス排出通路50により除染ガス循環通路が形成されている。
本実施例に係るアイソレータシステムには、除染ガス供給装置38からアイソレータ本体2内に除染ガスを供給する前記第1除染ガス供給通路46に加えて、第2除染ガス供給通路52が設けられている。この第2除染ガス供給通路52は、前記気体供給室16と別の位置の、HEPAフィルタ20を通過せずにアイソレータ本体2内に過酸化水素蒸気を供給できる箇所に接続されている。特に、この実施例では、気体排出室22が一方の壁面2dの下部に設けられているので、第2除染ガス供給通路52は、この壁面2dと逆側の壁面2aの上部に接続されている。第2除染ガス供給通路52のアイソレータ本体2への接続部に給気ファン54が設けられており、この給気ファン54の作動によってアイソレータ本体2内に除染ガス(過酸化水素蒸気)を供給することができる。また、第2除染ガス供給通路54には開閉バルブ56が設けられており、この開閉バルブ56の開閉によって第2除染ガス供給通路54を連通遮断して過酸化水素蒸気の供給停止を行う。
前記パスボックス4内にも、外部のエアを供給し排出できるようになっている。パスボックス4の天面4bに気体供給室58が設けられており、この気体供給室58内に給気ファン60が設置されるとともに、下面側のパスボックス4内への気体流入部にHEPAフィルタ62が配置されている。この気体供給室58にエア供給通路64が接続されており、前記給気ファン60の作動によって外部のエアをHEPAフィルタ62を介してパスボックス4内に供給することができるようになっており、圧力センサ65の検出結果に基づいてパスボックス4内を所定の陽圧に維持するようになっている。また、パスボックス4の下面側に、気体流出部が設けられ、この気体流出部にHEPAフィルタ66が設置されている。この気体流出部にもエア排出通路68が接続されており、前記給気ファン60によって外部からパスボックス4内に供給されたエアが、このエア排出通路68から外部に排出される。エア供給通路64およびエア排出通路68には、それぞれ触媒70、72が設けられている。パスボックス4内の除染ガス(過酸化水素蒸気)を含んだ気体がエア排出通路68から外部に排出される場合には、触媒72によって除染ガスを分解し無毒化して排出する。エア供給通路64の入口側の開口部およびエア排出通路68の出口側の開口部に、それぞれ蓋74、76が取り付けられるようになっており、パスボックス4内にエアを供給、排出する際にはこの蓋74、76を外し、エアの供給排出を行わないときには、各開口部に蓋74、76を装着して各エア通路64、68を封止する。なお、この実施例では、エア供給通路64側にも触媒72が設けられており、アイソレータ本体2と同様に、エア供給通路64およびエア排出通路68には、開閉が制御されるバルブを設けず、蓋74、76によって封止するようにしているが、人為的ミスにより蓋74、76を閉じ忘れることがあっても、触媒70、72によって分解され無毒化されるため、パスボックス4内の除染ガスが含まれた有害な気体が外部に漏れ出ることはない。
さらに、パスボックス4内にも、除染ガスを供給、排出できるようになっている。前記除染ガス供給装置38の吐出側と、エア供給通路64の触媒70よりも気体供給室58寄りとを、第1除染ガス供給通路78によって接続している。この第1除染ガス供給通路78には開閉バルブ80が設けられている。また、エア排出通路68のHEPAフィルタ66と触媒72の間と、前記アイソレータ本体2からの除染ガス排出通路50との間を第1除染ガス排出通路82によって接続している。この第1除染ガス排出通路82には開閉バルブ83が設けられている。
さらに、パスボックス4には、HEPAフィルタ62、66を介して除染ガスを給排する循環通路と別に、HEPAフィルタ62、66を通さずに除染ガスを給排するパスボックス循環通路が設けられている。この循環通路は、除染ガス供給装置38の吐出側とパスボックス4の天面4bの気体供給室58以外の部分とを第2除染ガス供給通路84によって接続するとともに、パスボックス4の壁面4aの開口部10以外の部分と、アイソレータ本体2からの除染ガス排出通路50とを第2除染ガス排出通路86によって接続する。前記第2除染ガス供給通路84とこの第2除染ガス排出通路86には、開閉バルブ88、90を設けてある。また、第2除染ガス供給通路84のパスボックス4内部側には給気ファン92が設けられており、この給気ファン92の作動によって、除染ガス供給装置38とパスボックス4との間で、除染ガスを循環させることができる。このように、除染ガス供給装置38,除染ガス供給装置38からパスボックス4内へ除染ガスを供給する往路としての第2除染ガス供給通路4、パスボックス4、パスボックス4内から除染ガス供給装置38へ除染ガスを排出する復路としての第2除染ガス排出通路86およびアイソレータ本体2からの除染ガス排出通路50により、パスボックス4に除染ガスを給排するパスボックス循環通路が形成されている。
以上の構成に係るアイソレータシステムの作動について説明する。先ず、運転の開始前にアイソレータ本体2の内部およびパスボックス4の内部を、これらアイソレータ本体2およびパスボックス4の気体流入部16aと気体流出部22a(パスボックス4側は符号無し)にそれぞれ設けられているHEPAフィルタ20、24、62、66を介して除染を行う。この場合には、アイソレータ本体2にエアを給排するエア供給通路26および排出通路28の開口部と、パスボックス4にエアを給排するエア供給通路64および排出通路68の開口部に蓋34、36、74、76を装着する。また、アイソレータ本体2にHEPAフィルタ20を介さずに除染ガスを供給する第2除染ガス供給通路52の開閉バルブ56、パスボックス4にHEPAフィルタ60、66を介さずに除染ガスを給排する第2除染ガス供給通路84および第2除染ガス排出通路86の開閉バルブ88、90を閉じる。そして、アイソレータ本体2にHEPAフィルタ20、24を介してガスを給排する第1除染ガス供給通路46および除染ガス排出通路50と、パスボックス4にHEPAフィルタ62、66を介してガスを給排する第1除染ガス供給通路78および第1除染ガス排出通路82に設けられている開閉バルブ80、83を開放する。さらに、内部扉8を開放してアイソレータ本体2とパスボックス4との間の連通口6を開放する(図2に示す状態)。
この状態で、除染ガス供給装置38を作動させ、過酸化水素タンク40内の過酸化水素溶液をポンプ44を駆動して除染ガス供給装置38に送って蒸発させるとともに、アイソレータ本体2の気体供給室16内に設置されている給気ファン18と、パスボックス4の気体供給室58内に設置されている給気ファン60を運転する。過酸化水素溶液が蒸発して生成された過酸化水素蒸気が、アイソレータ本体2の第1除染ガス供給通路46から気体供給室16に入り、HEPAフィルタ20を通過してアイソレータ本体2内に導入される。HEPAフィルタ20を通過してアイソレータ本体2内部を除染した過酸化水素蒸気は、拡散ファン21により隅々まで行き渡り気体排出室22のHEPAフィルタ24を通って除染ガス排出通路50から、除染ガス供給装置38の吸入側に還流する。パスボックス4側でも同様に、除染ガス供給装置38によって生成された過酸化水素蒸気が、第1除染ガス供給通路78から気体供給室58に送られ、気体流入部のHEPAフィルタ62を通過してパスボックス4内に入り、さらに、流出部のHEPAフィルタ66を通って、第1除染ガス排出通路82から除染ガス供給装置38の吸入側に還流する。このようにして、アイソレータ本体2内とパスボックス4内、およびこれら両チャンバー2、4の入口側と出口側のHEPAフィルタ20、24、62、66を除染する。なお、ここで説明した除染動作が、請求項1に記載した第2の除染動作である。
このように、アイソレータ本体2やパスボックス4等の除染を行う際に、本実施例装置では、エア供給通路26、64とエア排出通路28、68の除染ガスの洩れをバルブによって制御するのではなく、触媒30、32、70、72を設置しておき、洩れた場合でも除染ガスを分解して無毒化した後排出するようにしている。従って、エア供給通路26、64側にも触媒30、70を設置している。
その後、アイソレータ本体2とパスボックス4内のエアレーションを行い、除染ガスを除去する。このときには、アイソレータ本体2とパスボックス4の除染ガス供給配管46、52、78、84と除染ガス排出配管50、82、86の開閉バルブ48、56、80、88、51、83、90をすべて閉じ、アイソレータ本体2とパスボックス4との間の内部扉8を開放したままにしておく。そして、前記アイソレータ本体2とパスボックス4およびこれらのHEPAフィルタ20、24、62、66の除染を行っている際に取り付けてあった各エア供給配管26、64およびエア排出配管28、68の開口部の蓋34、74、36、76を人手によりはずす。この状態にして、アイソレータ本体2の気体供給室16内の給気ファン18と、パスボックス4の気体供給室58内の給気ファン60を運転する。すると、外部のエアが、アイソレータ本体2のエア供給配管26から気体供給室16、流入部16aのHEPAフィルタ20を通ってアイソレータ本体2内に入り、気体排出室22のHEPAフィルタ24を通り、さらに、触媒32を通過して、エア中に含まれている過酸化水素成分が分解された後、エア排出配管28の出口側開口部から排出される。また、パスボックス4もエア供給配管64から気体供給室58に入り、HEPAフィルタ60を通ってパスボックス4内に流入した後、排出側のHEPAフィルタ66からエア排出配管68に入り、触媒72を通過してエア中に含まれている過酸化水素成分が分解された後、出口側開口部から排出される。
以上の工程で、この実施例に係るアイソレータシステムの、アイソレータ本体2、パスボックス4およびHEPAフィルタ20、24、62、66を含めた全体の除染と、除染後のエアレーションを行った後、このアイソレータシステムを使用して、アイソレータ本体2の内部に搬入した物品の処理を行う。先ず、アイソレータ本体2内で処理を行う物品をパスボックス4内に搬入する。このときには、アイソレータ本体2とパスボックス4との間の内部扉8を閉鎖して(図1に示す状態)、これら両チャンバー2、4を遮断した後、パスボックス4の外部扉12を開放して処理する物品を搬入する。その後、外部扉12を閉じてパスボックス4内を密閉する。
次に、パスボックス4内に搬入した物品の除染を行う。このときには、HEPAフィルタ62、66が設けられている第1除染ガス供給通路78と第1除染ガス排出通路82の開閉バルブ80、83を閉めて、第2除染ガス供給通路84と第2除染ガス排出通路86の開閉バルブ88、90を開放する。この状態で第2除染ガス供給通路84の給気ファン92を運転して、除染ガス供給装置38から過酸化水素蒸気をパスボックス4内に導入する。パスボックス4内に導入された過酸化水素蒸気によって物品が除染された後、この蒸気は、第2除染ガス排出通路86から排出されて除染ガス供給装置38の吸入側に還流する。このように通常運転時の除染は、HEPAフィルタ62、66を通さずにパスボックス循環通路により除染ガスを循環させて行うので、過酸化水素蒸気がHEPAフィルタ62、66に吸着されてロスとなることがなく、その後の、エアレーションに長時間要することもない。
パスボックス4内で処理する物品の除染を行った後、そのままエアレーションを行う。前記パスボックス4内での除染を行った際に開放していた第2除染ガス供給通路84の開閉バルブ88と第2除染ガス排出通路86の開閉バルブ90を閉じ、エア供給通路64の入口側開口部の蓋74とエア排出通路68の出口側開口部の蓋76を外して、気体供給室58内の給気ファン60を運転する。エア供給通路64からHEPAフィルタ62を通ってパスボックス4内に供給されたエアが、排出側のHEPAフィルタ66を通り、触媒72によって過酸化水素が分解された後、エア排出通路68の出口側開口部から外部に排出される。
前記のようにパスボックス4内で除染およびエアレーションを行った後、アイソレータ本体2とパスボックス4との間の内部扉8を開放して、パスボックス4内の物品をアイソレータ本体2の内部に搬入する。その後、内部扉8を閉じてアイソレータ本体2の内部を密閉した状態でその物品の処理を行う。
このアイソレータシステムを使用した後、あるいは使用を始める前等に、アイソレータ本体2とパスボックス4の除染を行う必要がある。ところが前述したようにHEPAフィルタ20、24、62、66を通して除染を行うと、除染ガス(この実施例では過酸化水素蒸気)がHEPAフィルタ20、24、62、66に吸着されてしまいロスが大きく、しかも、その後のエアレーションに長い時間がかかってしまうので、本実施例では、HEPAフィルタ20、24、62、66を通して行う除染は、例えば1週間に1回等定期的に行い、通常の運転時においては、HEPAフィルタ20、24、62、66を通さずに除染を行うようにした。
このときには、図2に示すように、アイソレータ本体2とパスボックス4との間の内部扉8を開放する。そして、アイソレータ本体2にHEPAフィルタ20、24を介して除染ガスを給排する第1除染ガス供給通路46および除染ガス排出通路50と、パスボックス4にHEPAフィルタ62、66を介して除染ガスを給排する第1除染ガス供給通路78および第1除染ガス排出通路82に設けられている開閉バルブ48、51、80、83を閉鎖する。さらに、アイソレータ本体2にHEPAフィルタ20を通さずに除染ガスを供給する第2除染ガス供給通路52の開閉バルブ56と、パスボックス4にHEPAフィルタ62、66を通さず除染ガスを供給排出する第2除染ガス供給通路84および第2除染ガス排出通路86のバルブ88、90を開放する。この状態で、各第2除染ガス供給通路52、84の給気ファン54、92および拡散ファン21を運転する。アイソレータ本体2の第2除染ガス供給通路52からアイソレータ本体2内に供給された過酸化水素蒸気は、アイソレータ本体2内の除染を行った後、アイソレータ本体2とパスボックス4との間の連通口6からパスボックス4内に流入し、パスボックス4内を通して第2除染ガス排出通路86から排出される。また、パスボックス4の第2除染ガス供給通路84からパスボックス4内に供給された過酸化水素蒸気は、パスボックス4内を除染した後、前記アイソレータ本体2から流入した過酸化水素蒸気とともに、第2除染ガス排出通路86から排出されて除染ガス供給装置38の吸入側に還流する。このように本実施例の構成では、除染剤の無駄やエアレーションに長時間を要することなく、日常的な作業において、アイソレータ本体2内やパスボックス4内等の重要なエリアを除染することができる。なお、ここで説明した除染動作が、請求項1に記載した第1の除染動作である。本発明に係るアイソレータシステムでは、以上説明した内容のとおり、第2除染ガス供給通路52からからアイソレータ本体2内に除染ガスを供給し、パスボックス4内を通してパスボックス循環通路から除染ガスを排出させる第1の除染動作と、除染ガス循環通路によりアイソレータ本体2内を通して除染ガスを循環させる第2の除染動作とを実行可能に構成している。
アイソレータシステムの全体の構成を示す回路図である。(実施例1) 前記アイソレータシステムの異なる状態を示す回路図である。
符号の説明
2 アイソレータ本体
4 パスボックス
6 連通口
8 内部開閉手段(内部扉)
16 気体供給室
16a 気体流入部
20 フィルタ手段(HEPAフィルタ)
22 気体排出室
22a 気体流出部
24 フィルタ手段(HEPAフィルタ)
38 除染ガス供給手段
46 除染ガス供給通路(第1除染ガス供給通路)
50 除染ガス排出通路
52 第2除染ガス供給通路
62 フィルタ手段(HEPAフィルタ)
66 フィルタ手段(HEPAフィルタ)
78 往路(第1除染ガス供給通路)
82 復路(第1除染ガス排出通路)
84 往路(第2除染ガス供給通路)
86 復路(第2除染ガス排出通路)

Claims (1)

  1. 内部が無菌状態に維持されるアイソレータ本体と、このアイソレータ本体に接続され、アイソレータ本体内への物品の搬入または搬出を行うパスボックスと、アイソレータ本体の気体流入部および気体流出部にそれぞれ設けられたフィルタ手段と、前記アイソレータ本体内およびパスボックス内に除染ガスを供給する除染ガス供給手段と、前記除染ガス供給手段とアイソレータ本体の気体流入部および気体流出部とをそれぞれ接続する除染ガス供給通路および除染ガス排出通路を有する除染ガス循環通路と、前記除染ガス供給手段と前記パスボックス内とを接続する往路および復路を有するパスボックス循環通路と、アイソレータ本体内とパスボックス内との連通口を開閉する内部開閉手段とを備えたアイソレータシステムにおいて、
    前記除染ガス供給手段とアイソレータ本体内とを、前記フィルタ手段を介さずに接続する第2の除染ガス供給通路を設け、
    前記内部開閉手段を開放した状態で、前記第2の除染ガス供給通路からアイソレータ本体内に除染ガスを供給し、パスボックス内を通してパスボックス循環通路から除染ガスを排出させてアイソレータ本体内とパスボックス内を除染する第1の除染動作と、
    前記除染ガス循環通路によりアイソレータ本体内を通して除染ガスを循環させ、前記フィルタ手段を除染する第2の除染動作とを実行可能に構成したことを特徴とするアイソレータシステム。
JP2008216501A 2008-08-26 2008-08-26 アイソレータシステム Active JP4924570B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008216501A JP4924570B2 (ja) 2008-08-26 2008-08-26 アイソレータシステム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008216501A JP4924570B2 (ja) 2008-08-26 2008-08-26 アイソレータシステム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010051351A true JP2010051351A (ja) 2010-03-11
JP4924570B2 JP4924570B2 (ja) 2012-04-25

Family

ID=42067916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008216501A Active JP4924570B2 (ja) 2008-08-26 2008-08-26 アイソレータシステム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4924570B2 (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010169366A (ja) * 2009-01-26 2010-08-05 Sanyo Electric Co Ltd アイソレータ
JP2012044964A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Shibuya Kogyo Co Ltd 無菌作業装置
JP2012229115A (ja) * 2011-04-27 2012-11-22 Otsuka Pharmaceut Co Ltd 昇降アイソレータ装置
JP2012231918A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Panasonic Healthcare Co Ltd アイソレータ
JP2012231917A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Panasonic Healthcare Co Ltd アイソレータ
JP2014004667A (ja) * 2012-06-26 2014-01-16 Shibuya Kogyo Co Ltd 隔離作業装置および隔離作業装置の作業方法
US8721983B2 (en) 2009-07-30 2014-05-13 Panasonic Healthcare Co., Ltd. Sterilizer
WO2015019595A1 (ja) * 2013-08-07 2015-02-12 パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 アイソレータ
WO2015111431A1 (ja) 2014-01-27 2015-07-30 澁谷工業株式会社 無菌作業システム
JP2016117003A (ja) * 2014-12-19 2016-06-30 日本エアーテック株式会社 アイソレータ
JP2016129511A (ja) * 2015-01-15 2016-07-21 パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 アイソレータシステム
JP2017169502A (ja) * 2016-03-24 2017-09-28 澁谷工業株式会社 アイソレータシステムおよびその除染方法
JP2017209300A (ja) * 2016-05-25 2017-11-30 澁谷工業株式会社 アイソレータシステム
JP2018015479A (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 澁谷工業株式会社 アイソレータシステムとアイソレータシステムのエアレーション方法
JP2018044748A (ja) * 2016-09-16 2018-03-22 株式会社日立産機システム クリーンルーム
JPWO2017069148A1 (ja) * 2015-10-20 2018-08-09 ロート製薬株式会社 細胞処理装置
JP2018187016A (ja) * 2017-05-01 2018-11-29 澁谷工業株式会社 アイソレータシステムのエアレーション方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6081269B2 (ja) * 2013-03-29 2017-02-15 澁谷工業株式会社 アイソレータシステム

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006068122A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Shibuya Kogyo Co Ltd アイソレータシステム

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006068122A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Shibuya Kogyo Co Ltd アイソレータシステム

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010169366A (ja) * 2009-01-26 2010-08-05 Sanyo Electric Co Ltd アイソレータ
US8741227B2 (en) 2009-01-26 2014-06-03 Panasonic Healthcare Co., Ltd. Isolator
US8721983B2 (en) 2009-07-30 2014-05-13 Panasonic Healthcare Co., Ltd. Sterilizer
JP2012044964A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Shibuya Kogyo Co Ltd 無菌作業装置
JP2012229115A (ja) * 2011-04-27 2012-11-22 Otsuka Pharmaceut Co Ltd 昇降アイソレータ装置
US9180422B2 (en) 2011-04-28 2015-11-10 Panasonic Healthcare Holdings Co., Ltd. Isolator
JP2012231918A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Panasonic Healthcare Co Ltd アイソレータ
JP2012231917A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Panasonic Healthcare Co Ltd アイソレータ
JP2014004667A (ja) * 2012-06-26 2014-01-16 Shibuya Kogyo Co Ltd 隔離作業装置および隔離作業装置の作業方法
WO2015019595A1 (ja) * 2013-08-07 2015-02-12 パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 アイソレータ
KR20160114605A (ko) 2014-01-27 2016-10-05 시부야 코교 가부시키가이샤 무균 작업 시스템
WO2015111431A1 (ja) 2014-01-27 2015-07-30 澁谷工業株式会社 無菌作業システム
US9878062B2 (en) 2014-01-27 2018-01-30 Shibuya Corporation Aseptic manipulation system
JP2016117003A (ja) * 2014-12-19 2016-06-30 日本エアーテック株式会社 アイソレータ
JP2016129511A (ja) * 2015-01-15 2016-07-21 パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社 アイソレータシステム
JPWO2017069148A1 (ja) * 2015-10-20 2018-08-09 ロート製薬株式会社 細胞処理装置
JP2017169502A (ja) * 2016-03-24 2017-09-28 澁谷工業株式会社 アイソレータシステムおよびその除染方法
TWI722127B (zh) * 2016-03-24 2021-03-21 日商澁谷工業股份有限公司 隔離系統及其去污染方法
JP2017209300A (ja) * 2016-05-25 2017-11-30 澁谷工業株式会社 アイソレータシステム
JP2018015479A (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 澁谷工業株式会社 アイソレータシステムとアイソレータシステムのエアレーション方法
JP2018044748A (ja) * 2016-09-16 2018-03-22 株式会社日立産機システム クリーンルーム
JP2018187016A (ja) * 2017-05-01 2018-11-29 澁谷工業株式会社 アイソレータシステムのエアレーション方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4924570B2 (ja) 2012-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4924570B2 (ja) アイソレータシステム
US9086225B2 (en) Isolator system
KR102316664B1 (ko) 무균 작업 시스템
CN110662606B (zh) 安全柜及其灭菌方法
JP5462025B2 (ja) アイソレータおよび細胞自動培養装置、ならびにアイソレータの滅菌処理方法
KR102413251B1 (ko) 무균 작업 시스템 및 무균 작업 시스템을 위한 물품-반입 방법
JP4529593B2 (ja) アイソレータシステム
US8721983B2 (en) Sterilizer
JP6701126B2 (ja) アイソレータ
JP6271224B2 (ja) インキュベータおよびインキュベータの除染方法
JP7027239B2 (ja) 滅菌ガス浄化閉鎖系装置
JP2012044964A (ja) 無菌作業装置
CN113874113B (zh) 隔离器及其灭菌方法
JP2006271583A (ja) ファンフィルタユニット及びクリーンルームの殺菌装置並びにその方法
JP6531810B2 (ja) 無菌作業システム
TWI766982B (zh) 隔離系統之換氣方法
KR20090005621U (ko) 살균 소독기능을 구비한 항균 생물안전 작업대
JP2020156628A (ja) 食品機械とその除菌方法
JP6724549B2 (ja) アイソレータシステム
JP2019000789A (ja) アイソレータ
JP6836702B2 (ja) 物品処理システム
JP2017219281A (ja) アイソレータシステム
WO2022028634A1 (en) Ozone sterilizer with a closable chamber for sterilizing articles and surrounding spaces

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110330

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110920

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111025

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111205

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120110

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120123

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4924570

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150