JP2010034526A5 - - Google Patents
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上記目的を達成するために、第1の本発明は、 複数層の配線基板であって、
前記複数層中の第1層である可溶性の多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含む第1の配線パターンを有し、
前記複数層中の第2層は、電気絶縁性の基材であり、
前記第1の配線パターンは、一部分が前記多孔膜部材層中に存在し、他部分が前記多孔膜部材層から突出し、前記一部分と前記他部分とは外形が連続している配線基板である。
前記複数層中の第1層である可溶性の多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含む第1の配線パターンを有し、
前記複数層中の第2層は、電気絶縁性の基材であり、
前記第1の配線パターンは、一部分が前記多孔膜部材層中に存在し、他部分が前記多孔膜部材層から突出し、前記一部分と前記他部分とは外形が連続している配線基板である。
又、第2の本発明は、
前記多孔膜部材層は、前記第1層の全体に形成されている第1の本発明の配線基板である。
前記多孔膜部材層は、前記第1層の全体に形成されている第1の本発明の配線基板である。
又、第3の本発明は、
前記多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含まない第2の配線パターンが形成され、前記第2の配線パターン上に前記第1の配線パターンが配置されている第1または第2の本発明の配線基板である。
前記多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含まない第2の配線パターンが形成され、前記第2の配線パターン上に前記第1の配線パターンが配置されている第1または第2の本発明の配線基板である。
又、第4の本発明は、 前記第2層に導電性ナノ粒子を含まない第2の配線パターンが形成されており、
前記複数層中の第3層は、有機フィルムで形成されたフィルム基材によって形成されており、
前記第1層の前記多孔膜部材層は、前記第2の配線パターンが形成されておらず、前記第3層の、一方面に前記第1層、他方面に前記第2層が配置されており、
前記第2の配線パターンは、前記第3層と反対側の、前記第2層の面に形成されている、第1から第3のいずれかの本発明の配線基板である。
前記複数層中の第3層は、有機フィルムで形成されたフィルム基材によって形成されており、
前記第1層の前記多孔膜部材層は、前記第2の配線パターンが形成されておらず、前記第3層の、一方面に前記第1層、他方面に前記第2層が配置されており、
前記第2の配線パターンは、前記第3層と反対側の、前記第2層の面に形成されている、第1から第3のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第5の本発明は、
前記複数層中に2つの第1層を有した配線基板であって、
温度変動による反りを抑制するように、前記2つの第1層は、熱膨張率が異なる多孔膜部材を含んでいる、第1から第4のいずれかの本発明の配線基板である。
前記複数層中に2つの第1層を有した配線基板であって、
温度変動による反りを抑制するように、前記2つの第1層は、熱膨張率が異なる多孔膜部材を含んでいる、第1から第4のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第6の本発明は、
前記配線基板は、屈曲部を中心にして屈曲されており、
前記多孔膜部材層は、前記屈曲部の近傍を除いて部分的に前記第1層に設けられた第1、第3から第5のいずれかの本発明の配線基板である。
前記配線基板は、屈曲部を中心にして屈曲されており、
前記多孔膜部材層は、前記屈曲部の近傍を除いて部分的に前記第1層に設けられた第1、第3から第5のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第7の本発明は、
前記複数層のうちの第4層が、紫外線硬化型樹脂によって形成されている、第1から第6のいずれかの本発明の配線基板である。
前記複数層のうちの第4層が、紫外線硬化型樹脂によって形成されている、第1から第6のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第8の本発明は、
前記第1の配線パターンの全部又は一部は、前記第1層を挟む2つの層に形成された配線パターン間を電気的に接続する層間接続用のビアとして用いられる、第1から第7のいずれかの本発明の配線基板である。
前記第1の配線パターンの全部又は一部は、前記第1層を挟む2つの層に形成された配線パターン間を電気的に接続する層間接続用のビアとして用いられる、第1から第7のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第9の本発明は、
前記複数層のうち隣接して配置された所定数の層が、前記第1層である、第1から第8のいずれかの本発明の配線基板である。
前記複数層のうち隣接して配置された所定数の層が、前記第1層である、第1から第8のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第10の本発明は、
前記隣接して配置された前記第1層における第1の配線パターンの少なくとも一部の配線部分は、それらの幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されている、第9の本発明の配線基板である。
前記隣接して配置された前記第1層における第1の配線パターンの少なくとも一部の配線部分は、それらの幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されている、第9の本発明の配線基板である。
又、第11の本発明は、
複数の前記第1層に形成されている前記配線部分の幅が同じである、第9または第10の本発明の配線基板である。
複数の前記第1層に形成されている前記配線部分の幅が同じである、第9または第10の本発明の配線基板である。
又、第12の本発明は、 複数層の配線基板であって、
前記複数層中の第1層である可溶性の多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含む第1の配線パターンを有し、
前記複数層中の第2層は、電気絶縁性の基材であり、
前記複数層のうち隣接して配置された所定数の層が、複数の前記第1層であり、
前記複数の第1層における第1の配線パターンの一部の配線部分は、前記複数の第1層間で、幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成され、
前記複数の第1層で、第1の所定の第1層から、隣接する第2の所定の第1層に向けて、前記配線部分の幅は、同じ、又は大きくなるように形成されており、
前記第2の所定の第1層の、前記第1の所定の第1層側の反対面に隣接して配置されている第3の所定の第1層に形成されている前記配線部分の幅は、前記第1の所定の第1層に形成されている前記配線部分の幅以下であり、
前記第3の所定の第1層から、前記第2の所定の第1層の反対側に配置されている第4の所定の第1層に向けて、隣接する前記第1層間における前記配線部分の幅は、同じ、又は大きくなるように形成されている配線基板である。
前記複数層中の第1層である可溶性の多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含む第1の配線パターンを有し、
前記複数層中の第2層は、電気絶縁性の基材であり、
前記複数層のうち隣接して配置された所定数の層が、複数の前記第1層であり、
前記複数の第1層における第1の配線パターンの一部の配線部分は、前記複数の第1層間で、幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成され、
前記複数の第1層で、第1の所定の第1層から、隣接する第2の所定の第1層に向けて、前記配線部分の幅は、同じ、又は大きくなるように形成されており、
前記第2の所定の第1層の、前記第1の所定の第1層側の反対面に隣接して配置されている第3の所定の第1層に形成されている前記配線部分の幅は、前記第1の所定の第1層に形成されている前記配線部分の幅以下であり、
前記第3の所定の第1層から、前記第2の所定の第1層の反対側に配置されている第4の所定の第1層に向けて、隣接する前記第1層間における前記配線部分の幅は、同じ、又は大きくなるように形成されている配線基板である。
又、第13の本発明は、
前記複数の第1層のうち、少なくともいずれかの第1層に空洞が形成されている、第12の本発明の配線基板である。
前記複数の第1層のうち、少なくともいずれかの第1層に空洞が形成されている、第12の本発明の配線基板である。
又、第14の本発明は、
前記空洞は、前記第1の配線パターンの一部の配線部分に隣接して形成されている、第13の本発明の配線基板である。
前記空洞は、前記第1の配線パターンの一部の配線部分に隣接して形成されている、第13の本発明の配線基板である。
又、第15の本発明は、
前記隣接して配置された前記複数の第1層における第1の配線パターンの少なくとも一部の配線部分は、それらの幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されており、
前記空洞が隣接している前記第1の配線パターンの前記一部の配線部分は、前記幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されている前記第1の配線パターンの一部の配線部分であり、
前記空洞が隣接している前記配線部分の幅は、前記空洞が形成されている第1層に隣接する少なくとも一方の第1層に形成されている前記配線部分の幅よりも小さく、
前記空洞は、前記隣接する少なくとも一方の第1層に形成されている前記配線部分にも隣接している、第14の本発明の配線基板である。
前記隣接して配置された前記複数の第1層における第1の配線パターンの少なくとも一部の配線部分は、それらの幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されており、
前記空洞が隣接している前記第1の配線パターンの前記一部の配線部分は、前記幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されている前記第1の配線パターンの一部の配線部分であり、
前記空洞が隣接している前記配線部分の幅は、前記空洞が形成されている第1層に隣接する少なくとも一方の第1層に形成されている前記配線部分の幅よりも小さく、
前記空洞は、前記隣接する少なくとも一方の第1層に形成されている前記配線部分にも隣接している、第14の本発明の配線基板である。
又、第16の本発明は、
前記第2の配線パターンは、その表面と前記第2の配線パターンが形成されている層の表面が同一面上に位置するように前記層に形成されている、第3〜15のいずれかの本発明の配線基板である。
前記第2の配線パターンは、その表面と前記第2の配線パターンが形成されている層の表面が同一面上に位置するように前記層に形成されている、第3〜15のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第17の本発明は、
前記第2の配線パターンは、その表面が前記第2の配線パターンが形成されている層の表面から突出して形成されている、第3〜16の本発明の配線基板である。
前記第2の配線パターンは、その表面が前記第2の配線パターンが形成されている層の表面から突出して形成されている、第3〜16の本発明の配線基板である。
又、第18の本発明は、
前記第1の配線パターンは、第1の導電性ナノ粒子層と第2の導電性ナノ粒子層を有し、
前記第1の導電性ナノ粒子層は、前記多孔膜部材層の厚み方向の全部又は一部を占めており、
前記第2の導電性ナノ粒子層は、前記多孔膜部材層の上に位置している、第1から17のいずれかの本発明の配線基板である。
前記第1の配線パターンは、第1の導電性ナノ粒子層と第2の導電性ナノ粒子層を有し、
前記第1の導電性ナノ粒子層は、前記多孔膜部材層の厚み方向の全部又は一部を占めており、
前記第2の導電性ナノ粒子層は、前記多孔膜部材層の上に位置している、第1から17のいずれかの本発明の配線基板である。
又、第19の本発明は、
単層又は複数層の配線基板の製造方法であって、
インクジェット法を用いて、導電性ナノ粒子を含む材料を可溶性の多孔膜部材に吐出して、いずれか1つの層に第1の配線パターンを形成する第1の配線パターン形成工程と、
前記導電性ナノ粒子を含まない材料を用いて第2の配線パターンを形成する第2の配線パターン形成工程とを備えた、配線基板の製造方法であり、
前記第1の配線パターンを形成した後に、前記多孔膜部材を所定の溶液で処理し、前記多孔膜部材の厚みを減らす処理工程を備えた配線基板の製造方法である。
単層又は複数層の配線基板の製造方法であって、
インクジェット法を用いて、導電性ナノ粒子を含む材料を可溶性の多孔膜部材に吐出して、いずれか1つの層に第1の配線パターンを形成する第1の配線パターン形成工程と、
前記導電性ナノ粒子を含まない材料を用いて第2の配線パターンを形成する第2の配線パターン形成工程とを備えた、配線基板の製造方法であり、
前記第1の配線パターンを形成した後に、前記多孔膜部材を所定の溶液で処理し、前記多孔膜部材の厚みを減らす処理工程を備えた配線基板の製造方法である。
又、第20の本発明は、
前記複数層のうちの1層は、電気絶縁性の基材であり、
前記第2の配線パターン形成工程は、前記第2の配線パターンを有する転写材を用いて前記基材に前記第2の配線パターンを転写する転写工程であり、
前記第2の配線パターンの表面は、前記基材の表面と同一面上となる、第19の本発明の配線基板の製造方法である。
前記複数層のうちの1層は、電気絶縁性の基材であり、
前記第2の配線パターン形成工程は、前記第2の配線パターンを有する転写材を用いて前記基材に前記第2の配線パターンを転写する転写工程であり、
前記第2の配線パターンの表面は、前記基材の表面と同一面上となる、第19の本発明の配線基板の製造方法である。
又、第21の本発明は、 前記多孔膜部材は、ポリアミドイミド、又はポリエーテルイミドを主成分として含んでおり、
前記所定の溶液とは、N−メチル−2−ピロリドンである、第19または20の本発明の配線基板の製造方法である。
前記所定の溶液とは、N−メチル−2−ピロリドンである、第19または20の本発明の配線基板の製造方法である。
Claims (21)
- 複数層の配線基板であって、
前記複数層中の第1層である可溶性の多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含む第1の配線パターンを有し、
前記複数層中の第2層は、電気絶縁性の基材であり、
前記第1の配線パターンは、一部分が前記多孔膜部材層中に存在し、他部分が前記多孔膜部材層から突出し、前記一部分と前記他部分とは外形が連続している配線基板。 - 前記多孔膜部材層は、前記第1層の全体に形成されている請求項1記載の配線基板。
- 前記多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含まない第2の配線パターンが形成され、前記第2の配線パターン上に前記第1の配線パターンが配置されている請求項1または2記載の配線基板。
- 前記第2層に導電性ナノ粒子を含まない第2の配線パターンが形成されており、
前記複数層中の第3層は、有機フィルムで形成されたフィルム基材によって形成されており、
前記第1層の前記多孔膜部材層は、前記第2の配線パターンが形成されておらず、前記第3層の、一方面に前記第1層、他方面に前記第2層が配置されており、
前記第2の配線パターンは、前記第3層と反対側の、前記第2層の面に形成されている、請求項1から3のいずれか1項に記載の配線基板。 - 前記複数層中に2つの第1層を有した配線基板であって、
温度変動による反りを抑制するように、前記2つの第1層は、熱膨張率が異なる多孔膜部材を含んでいる、請求項1から4のいずれか1項に記載の配線基板。 - 前記配線基板は、屈曲部を中心にして屈曲されており、
前記多孔膜部材層は、前記屈曲部の近傍を除いて部分的に前記第1層に設けられた請求項1、3から5のいずれか1項に記載の配線基板。 - 前記複数層のうちの第4層が、紫外線硬化型樹脂によって形成されている、請求項1から6のいずれか1項に記載の配線基板。
- 前記第1の配線パターンの全部又は一部は、前記第1層を挟む2つの層に形成された配線パターン間を電気的に接続する層間接続用のビアとして用いられる、請求項1から7のいずれか1項に記載の配線基板。
- 前記複数層のうち隣接して配置された所定数の層が、前記第1層である、請求項1から8のいずれか1項に記載の配線基板。
- 前記隣接して配置された前記第1層における第1の配線パターンの少なくとも一部の配線部分は、それらの幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されている、請求項9記載の配線基板。
- 複数の前記第1層に形成されている前記配線部分の幅が同じである、請求項9または10に記載の配線基板。
- 複数層の配線基板であって、
前記複数層中の第1層である可溶性の多孔膜部材層に、導電性ナノ粒子を含む第1の配線パターンを有し、
前記複数層中の第2層は、電気絶縁性の基材であり、
前記複数層のうち隣接して配置された所定数の層が、複数の前記第1層であり、
前記複数の第1層における第1の配線パターンの一部の配線部分は、前記複数の第1層間で、幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成され、
前記複数の第1層で、第1の所定の第1層から、隣接する第2の所定の第1層に向けて、前記配線部分の幅は、同じ、又は大きくなるように形成されており、
前記第2の所定の第1層の、前記第1の所定の第1層側の反対面に隣接して配置されている第3の所定の第1層に形成されている前記配線部分の幅は、前記第1の所定の第1層に形成されている前記配線部分の幅以下であり、
前記第3の所定の第1層から、前記第2の所定の第1層の反対側に配置されている第4の所定の第1層に向けて、隣接する前記第1層間における前記配線部分の幅は、同じ、又は大きくなるように形成されている配線基板。 - 前記複数の第1層のうち、少なくともいずれかの第1層に空洞が形成されている、請求項12記載の配線基板。
- 前記空洞は、前記第1の配線パターンの一部の配線部分に隣接して形成されている、請求項13記載の配線基板。
- 前記隣接して配置された前記複数の第1層における第1の配線パターンの少なくとも一部の配線部分は、それらの幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されており、
前記空洞が隣接している前記第1の配線パターンの前記一部の配線部分は、前記幅方向の中心が同一直線上に位置するように形成されている前記第1の配線パターンの一部の配線部分であり、
前記空洞が隣接している前記配線部分の幅は、前記空洞が形成されている第1層に隣接する少なくとも一方の第1層に形成されている前記配線部分の幅よりも小さく、
前記空洞は、前記隣接する少なくとも一方の第1層に形成されている前記配線部分にも隣接している、請求項14記載の配線基板。 - 前記第2の配線パターンは、その表面と前記第2の配線パターンが形成されている層の表面が同一面上に位置するように前記層に形成されている、請求項3〜15のいずれかに記載の配線基板。
- 前記第2の配線パターンは、その表面が前記第2の配線パターンが形成されている層の表面から突出して形成されている、請求項3〜16のいずれかに記載の配線基板。
- 前記第1の配線パターンは、第1の導電性ナノ粒子層と第2の導電性ナノ粒子層を有し、
前記第1の導電性ナノ粒子層は、前記多孔膜部材層の厚み方向の全部又は一部を占めており、
前記第2の導電性ナノ粒子層は、前記多孔膜部材層の上に位置している、請求項1から17のいずれかに記載の配線基板。 - 単層又は複数層の配線基板の製造方法であって、
インクジェット法を用いて、導電性ナノ粒子を含む材料を可溶性の多孔膜部材に吐出して、いずれか1つの層に第1の配線パターンを形成する第1の配線パターン形成工程と、
前記導電性ナノ粒子を含まない材料を用いて第2の配線パターンを形成する第2の配線パターン形成工程とを備えた、配線基板の製造方法であり、
前記第1の配線パターンを形成した後に、前記多孔膜部材を所定の溶液で処理し、前記多孔膜部材の厚みを減らす処理工程を備えた配線基板の製造方法。 - 前記複数層のうちの1層は、電気絶縁性の基材であり、
前記第2の配線パターン形成工程は、前記第2の配線パターンを有する転写材を用いて前記基材に前記第2の配線パターンを転写する転写工程であり、
前記第2の配線パターンの表面は、前記基材の表面と同一面上となる、請求項19記載の配線基板の製造方法。 - 前記多孔膜部材は、ポリアミドイミド、又はポリエーテルイミドを主成分として含んでおり、
前記所定の溶液とは、N−メチル−2−ピロリドンである、請求項19または20に記載の配線基板の製造方法。
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