JP2010034268A - 現像処理方法及び現像処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光された半導体ウエハWの表面に現像液を供給して現像を行った後に、ウエハの表面に純水を供給して洗浄を行う現像処理方法において、ウエハを水平に保持したスピンチャックを鉛直軸回りに回転させながらウエハの中心部上方からリンスノズル58より純水を供給すると同時に、リンスノズルに隣接するディフューザ53によりウエハの回転により生じる気流Aを純水の液膜Fに誘導拡散し、リンスノズルとディフューザとを平行状態にしてウエハの中心部からウエハの外周縁に向かって径方向に同時に移動させて、ウエハの洗浄及び乾燥を行う。
【選択図】 図5
Description
上記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転機構と、 基板の上方に位置し、基板表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、 上記洗浄液供給ノズルに隣接する気流誘導拡散部と、 上記気流誘導拡散部と協働して不活性ガスの気流を洗浄液の液膜に誘導する不活性ガスノズルと、 上記洗浄液供給ノズル、気流誘導拡散部及び不活性ガスノズルを互いに平行状態に保持すると共に、基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に移動させる移動機構と、 上記回転機構、上記洗浄液供給ノズルと洗浄液供給源とを接続する洗浄液供給管に介設される第1の開閉弁と、上記不活性ガスノズルと不活性ガス供給源とを接続する不活性ガス供給管に介設される第2の開閉弁及び上記移動機構に接続される制御手段と、を具備し、 上記制御手段により、鉛直軸回りに回転する基板の中心部に洗浄液を供給すると同時に、上記気流誘導拡散部と不活性ガスノズルとが協働して不活性ガスを洗浄液の液膜に誘導拡散しながら、上記洗浄液供給ノズル、気流誘導拡散部及び不活性ガスノズルを互いに平行状態にして基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に同時に移動させて、基板の洗浄及び乾燥を行う、ことを特徴とする(請求項5)。
図3は、この発明に係る現像処理装置の第1実施形態を示す概略断面図、図4は、上記現像処理装置の概略平面図である。
図6は、この発明に係る現像処理装置の第2実施形態を示す概略断面図、図7は、上記現像処理装置の概略平面図である。
図13は、この発明に係る現像処理装置の第3実施形態の要部を示す概略断面図である。第3実施形態は、ウエハ表面にリンスノズル58より純水を供給すると同時にN2ガスノズル80よりN2ガスを供給する前に、ウエハWの中心部に乾燥域を形成するようにした場合である。
40 スピンチャック(基板保持部)
42 回転機構
50,50A,50B 現像処理装置
52 現像ノズル
53 ディフューザ(気流誘導拡散部)
53a 断面略コ字状部材
53b 保持溝53hを有する部材
53c 断面略円弧状部材
53d 断面略山形状部材
53e 波形状凹凸部53lを有する部材
53f 中空部材
53m 空洞部
53n 底部
53o ガス吐出口
53s スリット状ガス吐出口
56A ノズル移動機構
56B ノズル移動機構
58 リンスノズル
58a 供給口
60 コントローラ(制御手段)
72 純水供給管(洗浄液供給管)
73 純水供給源(洗浄液供給源)
74 N2ガス供給源(不活性ガス供給源)
75 N2ガス供給管(不活性ガス供給管)
76 隙間
80 N2ガスノズル(不活性ガスノズル)
80A 補助N2ガスノズル(補助不活性ガス供給ノズル)
V1 第1の開閉弁
V2 第2の開閉弁
V3 第3の開閉
V4 弁切換弁(第2の開閉弁兼第3の開閉弁)
Claims (15)
- 露光された基板の表面に現像液を供給して現像を行った後に、基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行う現像処理方法において、
基板を水平に保持した基板保持部を鉛直軸回りに回転させながら基板の中心部上方から洗浄液供給ノズルより洗浄液を供給すると同時に、洗浄液供給ノズルに隣接する気流誘導拡散部により基板の回転により生じる気流を洗浄液の液膜に誘導拡散し、
上記洗浄液供給ノズルと気流誘導拡散部とを平行状態にして基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に同時に移動させて、基板の洗浄及び乾燥を行う、
ことを特徴とする現像処理方法。 - 露光された基板の表面に現像液を供給して現像を行った後に、基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行う現像処理方法において、
基板を水平に保持した基板保持部を鉛直軸回りに回転させながら基板の中心部上方から洗浄液供給ノズルより洗浄液を供給すると同時に、上記洗浄液供給ノズルにそれぞれ隣接する気流誘導拡散部と該気流誘導拡散部と協働して不活性ガスの気流を洗浄液の液膜に誘導する不活性ガスノズルにより不活性ガスを上記液膜に誘導拡散し、
上記洗浄液供給ノズル、気流誘導拡散部及び不活性ガスノズルを互いに平行状態にして基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に同時に移動させて、基板の洗浄及び乾燥を行う、
ことを特徴とする現像処理方法。 - 請求項2記載の現像処理方法において、
基板表面に上記洗浄液供給ノズルより洗浄液を供給すると同時に不活性ガスノズルより不活性ガスを供給する前に、補助不活性ガスノズルより基板の中心部に不活性ガスを供給して基板中心部に乾燥域を形成し、その後、基板表面に上記洗浄液供給ノズルより洗浄液を供給すると同時に不活性ガスノズルより不活性ガスを供給する、ことを特徴とする現像処理方法。 - 露光された基板の表面に現像液を供給して現像を行った後に、基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行う現像処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
上記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転機構と、
基板の上方に位置し、基板表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、
上記洗浄液供給ノズルに対して平行に隣接し、基板の回転により生じる気流を洗浄液の液膜に誘導拡散させる気流誘導拡散部と、
上記洗浄液供給ノズル及び気流誘導拡散部を互いに平行状態に保持すると共に、基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に移動させる移動機構と、
上記回転機構、上記洗浄液供給ノズルと洗浄液供給源とを接続する洗浄液供給管に介設される開閉弁及び上記移動機構に接続される制御手段と、を具備し、
上記制御手段により、鉛直軸回りに回転する基板の中心部に洗浄液を供給すると同時に、基板の回転により生じる気流を洗浄液の液膜に誘導拡散しながら、上記洗浄液供給ノズルと気流誘導拡散部とを平行状態にして基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に同時に移動させて、基板の洗浄及び乾燥を行う、ことを特徴とする現像処理装置。 - 露光された基板の表面に現像液を供給して現像を行った後に、基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行う現像処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
上記基板保持部を鉛直軸回りに回転させる回転機構と、
基板の上方に位置し、基板表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、
上記洗浄液供給ノズルに隣接する気流誘導拡散部と、
上記気流誘導拡散部と協働して不活性ガスの気流を洗浄液の液膜に誘導する不活性ガスノズルと、
上記洗浄液供給ノズル、気流誘導拡散部及び不活性ガスノズルを互いに平行状態に保持すると共に、基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に移動させる移動機構と、
上記回転機構、上記洗浄液供給ノズルと洗浄液供給源とを接続する洗浄液供給管に介設される第1の開閉弁と、上記不活性ガスノズルと不活性ガス供給源とを接続する不活性ガス供給管に介設される第2の開閉弁及び上記移動機構に接続される制御手段と、を具備し、
上記制御手段により、鉛直軸回りに回転する基板の中心部に洗浄液を供給すると同時に、上記気流誘導拡散部と不活性ガスノズルとが協働して不活性ガスを洗浄液の液膜に誘導拡散しながら、上記洗浄液供給ノズル、気流誘導拡散部及び不活性ガスノズルを互いに平行状態にして基板の中心部から基板の外周縁に向かって径方向に同時に移動させて、基板の洗浄及び乾燥を行う、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5記載の現像処理装置において、
上記洗浄液供給ノズルに隣接される補助不活性ガス供給ノズルと、
上記補助不活性ガス供給ノズルを基板の中心部に移動させる移動機構と、
上記補助不活性ガス供給ノズルと不活性ガス供給源とを接続する不活性ガス供給管に介設される第3の開閉弁と、を更に具備すると共に、
上記移動機構及び第3の開閉弁に上記制御手段を接続してなり、
上記制御手段により、基板表面に上記洗浄液供給ノズルより洗浄液を供給すると同時に不活性ガスノズルより不活性ガスを供給する前に、上記補助不活性ガスノズルより基板の中心部に不活性ガスを供給して基板中心部に乾燥域を形成し、その後、基板表面に上記洗浄液供給ノズルより洗浄液を供給すると同時に上記不活性ガスノズルより不活性ガスを供給する、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項4ないし6のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部が平板状部材である、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部は、隙間をおいて互いに平行な複数の部材であり、各部材間の隙間内に不活性ガスノズルの供給口を配設してなる、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部が不活性ガスノズルを内方側に収容する断面略コ字状部材である、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部が不活性ガスノズルの少なくとも一部を嵌挿する保持溝を有する部材である、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部が不活性ガスノズルを内方側に収容する断面略円弧状部材である、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部が不活性ガスノズルを内方側に収容する第1の断面略円弧状部と、該第1の断面略円弧状部の両側端にそれぞれ連なる第2の断面略円弧状部及び第3の断面略円弧状部とを有する部材である、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部が洗浄液供給ノズル側に対する裏面側に幅方向に連続する波形状凹凸部を有する部材である、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部は、不活性ガスノズルに接続する空洞室を有する中空部材によって形成され、上記中空部材は、その一側に洗浄液供給ノズルの供給口に向かって下り勾配の傾斜面を設け、上記空洞室の底部に多数のガス吐出口を設けてなる、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5又は6に記載の現像処理装置において、
上記気流誘導拡散部は、不活性ガスノズルに接続する空洞室を有する中空部材によって形成され、上記中空部材は、洗浄液供給ノズルと平行な扁平箱状に形成され、該中空部材における上記洗浄液供給ノズル及び気流誘導拡散部の移動方向の後方上端角部に上記不活性ガスノズルを接続し、上記空洞室の底部及び上記移動方向先方の側壁に連なるスリット状のガス吐出口を設けてなる、ことを特徴とする現像処理装置。
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